共查询到20条相似文献,搜索用时 22 毫秒
1.
2.
利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向的LaAlO3,SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜,并通过X射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析.X射线θ-2θ扫描显示硅衬底上得到了PbTiO3多晶薄膜,另两种衬底上得到了择优取向的PbTiO3薄膜.LaAlO3衬底上的PbTiO3薄膜有a和c两个取向,也就是薄膜中存在着90°畴结构,而生长在SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜中只存在c方向的择优取向.由于薄膜的尺度效应,发现c轴晶格常数与块材相比均缩短.X射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性,利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质,进一步证明了SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜的单畴特性.利用重掺杂的硅衬底作底电极,测量显示直接生长于硅衬底上的PbTiO3多晶薄膜具有良好的铁电性能
关键词: 相似文献
3.
4.
用混溶蒸发法制备出高聚物(PEO)n-CuBr2(n=4,8,12,16,24)薄膜。并详细测量它们在0.1-350MPa静水压范围的复阻抗谱,以及在0.1-2400MPa静水压范围的交流电导率。结果表明:离子电导率与压力的依赖关系可分解为四段相迭加的线性关系。根据X射线衍射物相分析,它们分别归于PEO非晶相的压力效应,PEO结晶相的压力效应和析出新相CuBr2的压力效应。最后给出克服办法——添加少量增塑剂碳酸乙烯酯可增加(PEO)n-CuBr2薄膜的弹性,使压力下的离子电导率提高一至两个数量级。
关键词: 相似文献
5.
6.
7.
在较宽的温度(4.2-80K)和磁场(0-8T)范围内测量了YBa2Cu3O7-δ和Y0.9Eu0.1Ba2·Cu3O7-δ样品的磁滞回线和磁弛豫,研究了其M(t),Jc(T)和Ueff(J)关系,并与现有的一些理论模型所预言的结果进行了比较。结果表明:(1)与YBa2Cu3O7-δ相比,Y0.9Eu0.1·Ba2Cu3O7-δ样品的有效钉扎势和无磁通蠕动时的临界电流密度有明显提高,表明Eu的部分替代引入了新的、具有更大的钉扎势的钉扎中心;(2)与其它模型相比,集体钉扎——蠕动理论对我们的实验结果作了更好的描述,因而本文为这一理论提供了新的实验证据。
关键词: 相似文献
8.
用卢瑟福背散射/沟道技术研究了1MeVSi+在衬底加温和室温下以不同剂量注入Al0.3G0.7As/GaAs超晶格和GaAs后的晶格损伤。在衬底加温下,观察到Al0.3Ga0.7As/GaAs超晶格和GaAs都存在一个动态退火速率与缺陷产生速率相平衡的剂量范围,以及两种速率失去平衡的临界剂量。超晶格比GaAs更难以损伤,并且它的两种速率失去平衡的临界剂量也大于GaAs中的相应临界剂量,用热尖峰与碰撞模型解释了晶格损伤积累与注入剂量和衬底温度的关系。用CNDO/2量子化学方法计算了GaAs和AlxGa1-xAs中化学键的相对强度,并根据计算结果解释了注入过程中Al0.3Ga0.7As/GaAs超晶格和GaAs中晶格损伤程度的差别。
关键词: 相似文献
9.
10.
11.
12.
通过制备(YBa2Cu3O7)1-x(V2O5)x(0≤x≤0.15)复合材料,获得了一系列典型的弱连接的颗粒超导体,其中以dR/dT-T关系中呈现出双峰转变为主要特征。第一峰代表晶粒的超导转变,第二峰代表颗粒系统超导长程序的形成。对于具有双峰转变的样品,其临界电流密度一致地符合ic~(1-t)n,n=1.6.这一行为与三维Josephson结网络系统的渗流行为相一致;对于不具有双峰转变的系统,临界电流密度随温度的变化尽管也可以用jc~(1-t)n描述,但是幂指数n明显地大于1.6,且随样品的不同而离散地分布。本文还对产生这种离散的原因进行探索和分析。
关键词: 相似文献
13.
采用磁控二靶(Ga30Sb70和Sb80Te20)交替溅射方法制备了新型Ga30Sb70/Sb80Te20纳米复合多层薄膜, 对多层薄膜周期中Ga30Sb70层厚度对相变特性的影响进行了研究. 结果表明, 多层薄膜的结晶温度可以通过周期中Ga30Sb70层厚度进行调节, 且随着Ga30Sb70层厚度的增加而升高. Ga30Sb70/Sb80Te20纳米复合多层薄膜的光学带隙随Ga30Sb70层厚度的增加而增大. 采用皮秒激光脉冲抽运光探测技术研究了多层薄膜的瞬态结晶动力学过程, 利用不同能量密度的皮秒激光脉冲可以实现Ga30Sb70/Sb80Te20多层薄膜非晶态和晶态的可逆转变. 相似文献
14.
15.
16.
报道在超声射流冷却条件下用同步辐射VUV光源研究CH2Br2的振动自电离结构.根据测量的105—123nm范围内母体离子(CH2Br2+)的光电离产率曲线,获得CH2Br2的绝热电离势为10.23±0.01eV.CH2Br2+的最低三个电子激发态,即A(2A2),B(2B1),C(2A1)分别位于10.78±0.01eV,11.20±0.01eV和11.27±0.01eV.在115.01—121.15nm范围内,观察到CH2Br2自电离峰叠加在若干台阶结构上,台阶平均宽度为716.8±40.0cm-1,对应于CH2Br2+(X2B2)中Br-C-Br反对称的伸缩振动(v9),所有的峰均归属为收敛于CH2Br2+(X2B2,v+)振动能级的ns,np和nd自电离Rydberg态.此外,对CH2Br2光解离电离产生离子型自由基CH2Br+(X)的光电离产率曲线的结构也进行了归属
关键词: 相似文献
17.
利用混合物理化学气相沉积法在6H-SiC(001)衬底上制备干净的MgB2超导超薄膜.在本底气体压强、载气氢气流量等条件一定的情况下,改变B2H6流量及沉积时间,制备得到不同厚度的系列MgB2超薄膜样品,并研究了超导转变温度Tc、剩余电阻率ρ(42K)、上临界磁场Hc2等与膜厚的关系.该系列超薄膜沿c轴外延生长,随膜厚度的变小,Tc(0)降低,ρ(42K)升高.膜在衬底上的生长遵循Volmer-Weber岛状生长模式.对于厚度为7.5 nm的MgB2超薄膜,Tc(0) =32.8 K,ρ(42K) =118 μΩcm,是迄今为止所观测到的厚度为7.5 nm的MgB2超薄膜最高的Tc值;对于厚度为10 nm的MgB2膜,Tc(0)=35.5 K,ρ(42K)=17.7 μΩcm,上临界磁场μ0Hc2估算为12 T左右,零磁场、4 K时的临界电流密度Jc=1.0×107 A/cm2,是迄今为止10 nm厚MgB2超薄膜的最高Jc值,且其表面连接性良好,均方根粗糙度为0.731 nm.这预示MgB2超薄膜在超导纳米器件上具有广阔的应用前景.
关键词:
2超薄膜')" href="#">MgB2超薄膜
薄膜生长
氢气流量
混合物理化学气相沉积 相似文献
18.
19.
20.
电场对Au—Ag薄膜结构影响的AFM和VAXPS研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用原子力显微镜(AFM)和变角X射线光电子谱(VAXPS)技术研究了Au-Ag/SiO2体系在直流电场作用下,Au,Ag电迁移的特点及所引起的薄膜结构的变化,观察到较低温度下Au,Ag聚集状态的显著变化,发现电迁移过程中Au-Ag薄膜与SiO2基底之间存在界面化学反应,膜层中Au,Ag,Si等元素的化学状态发生了相应的变化,这些结构表明SiO2表面上Au-Ag复合薄膜电迁移不只是一个水平方向的扩 相似文献