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| 沉积在α－Al＿2O＿3分形基底上Ag薄膜的特性 | |
| 引用本文： | 许宇庆,叶高翔,王劲松,陶向明,张其瑞.沉积在α－Al＿2O＿3分形基底上Ag薄膜的特性[J].物理学报,1994(7). |
| 作者姓名： | 许宇庆 叶高翔 王劲松 陶向明 张其瑞 |
| 作者单位： | 浙江大学物理系，杭州大学物理系 |
| 摘 要： | 报道了采用磁控溅射法在α－Ａｌ＿２Ｏ＿３分形基底上沉积Ａｇ薄膜表面的形貌、结晶状态以及其Ｖ－Ｉ特性．结果表明：分形的Ａｌ＿２Ｏ＿３基底导致Ａｇ薄膜具有起伏不平的结构、较差的结晶状态并且存在大量的孔洞，它们同样受基底温度和薄膜厚度的影响．在一定的厚度范围内，Ａｇ薄膜呈现反常的非线性Ｉ（Ｖ）特性，其行为也受薄膜厚度、基底温度和测试环境的强烈影响． |
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