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深度同步辐射光刻初探 总被引:1,自引:0,他引:1
LIGA技术被认为是制作微机械最有前途的方法,而LIGA技术较为关键的一步是深度同步辐射光刻。报道了深度同步辐射光刻的进展,刻蚀出了外圆直径为38μm~39μm,叶长约8μm,高约25μm的扇叶状微结构元件。 相似文献
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掩模分形提高光刻边缘锐度的研究 总被引:2,自引:2,他引:0
针对电寻址空间光调制器制作灰度掩模过程中,精缩透镜的低通滤波特性导致灰度掩模边缘锐度下降的问题,提出了掩模分形技术。对一幅高频灰阶掩模图形,按固定的或可变的低频采样。低频掩模的每个周期中,只包含原掩模图形多个周期中的一个抽样。通过实时掩模技术,将多个低频掩模按顺序曝光,从而恢复出原高频掩模图形。制作二元光栅时,分形掩模技术可使透镜造成的高频能量相对损失由35、23%降低至6.09%,同时,可将部分低频能量搬迁至中高频,较好地改善了灰阶掩模图形的边缘锐度。分形掩模还可以变多灰阶复杂掩模为简单的二元掩模,简化掩模的设计与实现,同时消除屏幕刷新率对掩模制作的影响。 相似文献
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针对现有深度图像增强算法存在边界保留特性差的问题,提出梯度掩模导向联合滤波(gradient mask guided joint filter, GMGJF)算法。利用深度图像进行Sobel梯度变换获取边界方向信息,利用深度图像空洞区域生成空洞掩模,再以边界方向和空洞掩模为导向联合彩色图像对深度图像进行迭代高斯滤波和空洞填充。实验结果表明,GMGJF算法的PSNR(peak signal to noise ratio)、SSIM(structural similarity index measure)比IMF(iterative median filter)、GF(guided filter)、JBF(joint bilateral filter)算法的PSNR、SSIM至少提高了3.50%和1.07%,不仅去噪能力、空洞填充能力最强,而且边界特征保持最好,有利于深度图像的特征提取与目标识别。 相似文献
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对利用零级抑制均匀相位掩模版结合同透镜制作啁啾光纤光栅的技术进行了详细的理论和实验研究。结果表明这种方法适合于制作啁啾参数较小的光纤光栅,当所制作的光栅啁啾参数较大时,将导致严重的光谱不对称性和包层模耦合。 相似文献
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提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅱ)罗先刚陈旭南姚汉民(中国科学院光电技术研究所,成都610209)4相移掩模技术[5]相移掩模(phaseshiftmask,PSM)最初由美国的M.D.Levenson于1982年提出,真正成为热点是在80... 相似文献
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利用Nd∶KGW激光器,采用光束扫描宽化技术和掩模微缩成像方法研制了用于微打标及微型零件雕刻成形的激光掩模微加工系统。系统采用计算机打印的塑料胶片或液晶作掩模,光束扫描面积为(有效掩模面积)30 mm×30 mm。微缩成像系统的缩小倍率分别为8~10倍(f=100 mm透镜)和15~20倍(f=50 mm透镜)。对该系统的加工尺寸和加工精度进行了分析。实验结果表明:系统达到的最小标刻宽度和加工图形精度均为10μm,与分析结果一致。系统的单次加工深度为0.07~0.1μm,最大加工深度为200μm,可满足工业微加工技术的基本要求。 相似文献
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发现和优化新材料的集成材料芯片方法 总被引:5,自引:0,他引:5
简要地介绍了发现和优化新材料的集成材料芯片方法的基本思想;重点点说明了转动四元物理掩模,以20步沉积获得1024种不同材料的方法;介绍了相关的测量技术(光致发光和电光/磁光)及其应用。 相似文献
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本文利用脉冲激光沉积的定向性和掩模的阴影效应,原位沉积N-YBCO作为势垒层制备了高TcYBa2Cu3O7Josephson边缘结,在60K,微波辐照观察到明显的Shapiro台阶,在Tc附近,Ic∽(1-T/Tc),n=1.88。 相似文献
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利用Nd∶KGW激光器,采用光束扫描宽化技术和掩模微缩成像方法研制了用于微打标及微型零件雕刻成形的激光掩模微加工系统。系统采用计算机打印的塑料胶片或液晶作掩模,光束扫描面积为(有效掩模面积)30 mm×30 mm。微缩成像系统的缩小倍率分别为8~10倍(f=100 mm透镜)和15~20倍(f=50 mm透镜)。对该系统的加工尺寸和加工精度进行了分析。实验结果表明:系统达到的最小标刻宽度和加工图形精度均为10μm,与分析结果一致。系统的单次加工深度为0.07~0.1μm,最大加工深度为200μm,可满足工业微加工技术的基本要求。 相似文献
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文中通过台阶实验的数据结合光刻胶光栅掩模的槽形,得到光刻胶特性参数,利用这些参数可以模拟出任一曝光量,任一显影时间,任一空频下,光栅掩模的槽形.为今后制作符合要求的光栅提供有力依据. 相似文献