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用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术
引用本文:张新宇,裴先登,谢长生.用于近场集成光学头微透镜器件的灰度掩模技术[J].光学技术,2002,28(4):291-292.
作者姓名:张新宇  裴先登  谢长生
作者单位:华中科技大学,计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074
基金项目:20 0 0年中国博士后科学基金资助项目,2 0 0 0年湖北省自然科学基金重点资助项目,国家重点基础研究 973资助项目 (G19990 330 )
摘    要:讨论了制作适用于近场集成光学头中的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜的灰度掩模技术。定性地给出了与几种典型的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜对应的灰度掩模版的设计实例 ,以及将它应用于光刻操作的情况 ,为采用灰度掩模技术制作适用于近场集成光学头中的微透镜器件奠定了基础。灰度掩模技术在微透镜器件的制作方面具有重要的应用前景 ,有助于简化制备工艺 ,降低制作成本 ,优化微透镜阵列的结构参数。

关 键 词:灰度掩模  微透镜  近场集成光学头
文章编号:1002-1582(2002)04-0291-02
修稿时间:2001年5月5日

Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head
ZHANG Xin yu,PEI Xian deng,XIE Chang sheng.Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head[J].Optical Technique,2002,28(4):291-292.
Authors:ZHANG Xin yu  PEI Xian deng  XIE Chang sheng
Abstract:The applications of gray scale mask technique in the fabrication of convex and concave microlens and hybrid refraction diffraction microlens are discussed. Th e several designing and applying examples of gray scale mask used for fabricati ng several typical microoptics devices, such as convex and concave microlens, hy brid refraction diffraction microlens, are given qualitatively. The research re sults about gray scale mask technique can be applied to fabricate microlens dev ice of integrated near field opticalhead practically.
Keywords:gray  scale mask  microlens  integrated near  field optical head  
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