Propagation Properties of Gaussian-Shaped and Double-Side Unsymmetrical Metallic Nano-Corrugations

A Gaussian-shaped and double-side unsymmetrical groove structure is presented. Rigorous calculation of the optical properties of the structure is performed on the basis of a multiple multipole program. We analyse the effect of the grating period, the groove width and the film thickness on transmission and reflectance. Simulation results demonstrate that surface-plasmon-polariton resonance positions depend strongly on the structure period and can be changed slightly by the variation of incomplete perforation thickness, while the resonance peak values can be controlled by tuning the groove width. Our results not only give an insight into the physical mechanisms of the double-side unsymmetrical gratings, but also open a way to design novel nano-photonic devices.     

Classical simulation of atomic beam focusing and deposition for atom lithography

We start from the intensity distribution of a standing wave (SW) laser field and deduce the classical equation of atomic motion.The image distortion is analyzed using transfer function approach. Atomic flux density distribution as a function of propagation distance is calculated based on Monte-Carlo scheme and trajectory tracing method.Simulation results have shown that source imperfection,especially beam spread, plays an important role in broadening the feature width,and the focus depth of atom lens for real atomic source is longer than that for perfect source.The ideal focal plane can be easily determined by the variation of atomic density at the minimal potential of the laser field as a function of traveling distance.     

提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅱ）

提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅱ）罗先刚陈旭南姚汉民（中国科学院光电技术研究所，成都６１０２０９）４相移掩模技术［５］相移掩模（ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｍａｓｋ，ＰＳＭ）最初由美国的Ｍ．Ｄ．Ｌｅｖｅｎｓｏｎ于１９８２年提出，真正成为热点是在８０...     

原子束计算全息技术的原理与实现

提出用计算全息技术来实现原子束全息成像，降低了原子束全息的实现难度.首先论述了原子束的波动性质以及如何形成相干性能良好的准单色原子波包，然后讨论了原子束计算全息片的设计步骤，并给出了制作完成的SiN薄膜计算全息片，最后详细介绍了原子束全息的实现方案.     

提高微细图形光刻分辨力的相移滤波技术研究

详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论,给出了理论模型,进行了模拟计算.对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果.研究表明,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深,同时能提高光能利用率,有利于提高光刻生产率,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术.     

原子束计算全息片的设计与制作研究

在分析原子束计算全息片特点的基础上,提出采用罗曼Ⅲ型傅里叶变换计算全息图设计原子束计算全息片,给出设计步骤,然后提出采用电子束光刻编码矩孔图形,ICP各向异性刻蚀SiN薄膜的全息片制作方案,对全息片的制作工艺流程详细予以介绍,最后给出制作完成的SiN薄膜计算全息片.     

离散效应对高强度激光三次谐波转换的影响

使用分步傅里叶变换和四阶龙格库塔法(R-K) ，对高强度激光以Ⅰ/Ⅱ类角度失谐方式，在KDP晶体中的谐波转换进行了研究，详细讨论了离散效应对三次谐波转换的影响。结果表明，离散效应不但降低了三次谐波转换效率，而且使谐波光束质量显著降低；初始入射基频光束腰半径较小时，离散效应是二次谐波转换和三次谐波转换效率降低的主要因素，失谐角对三次谐波转换的影响较小；随着束腰半径的增加，离散效应的影响逐渐减小，失谐角对三次谐波转换的影响逐渐增加。     

微细光刻中部分相干系统成像研究

分析了投影光刻系统中部分相干成像的过程，结果表明部分相干成像的像强是相干成像的像强对光源上每一点互相干强度的权重和，得出了近年来改进照明条件提高分辨力的物理本质，部分相干成像系统是一个空间频率可变的系统，频率的调制是通过照明函数的变化来实现的提出了进一步提高光刻分辨力的新途径。     

提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅰ）

介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径．     

纳米光刻技术

纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心。纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题。文章针对上前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题。详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、Ｘ射线光刻原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及１５７光刻的原理和实现难点。作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现