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一、前言研究基片上的薄膜吸附强度和膜层从基片上脱落的破坏过程,对考虑薄膜的应用技术和牢固性等都是十分重要的,对膜层物理特性也是有意义的。本文对玻璃基片上真空蒸镀金属膜(Ag、cu、Al)时,附着力和膜厚及基片温度的关系进行了研究,同时还研究了胶合剂的性能。二、试片的制作用附着力测定的试片(Ag、cu、Al)的蒸镀,可在油扩散泵排气系统排气的真空室内进行。试料纯度为99.999—99.99%,在钨舟中加热。其蒸镀速度为2—4A/s;蒸镀过程中真空度为4×10~(-3)Pa,所用基片是26×10×1.5mm的玻璃片。基片温度最高 相似文献
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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 总被引:3,自引:0,他引:3
采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子源的使用方式、Au膜厚度对反射镜的反射率有重大影响。基片材料、镀前基片表面清洗工艺等对反射率也有一定影响。采用镀前离子轰击,可显著提高Au膜反射率及膜与基底的粘合力;获得最高反射率时的最佳膜厚与基片材料、镀膜工艺密切相关。对经过离子清洗的石英基片,膜厚在30 nm左右反射率最高;比较而言,石英基片可获得更高的反射率;辅助离子源的使用还显著影响获得最高反射率时对应的最佳膜厚值,且对K9基片的影响更显著。 相似文献
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玻璃基片上SiO_2膜层厚度的测量方法 总被引:1,自引:0,他引:1
钠钙玻璃基片在液晶显示器件(LCD) 等制造业中得到了广泛的应用。为防止基片中的碱金属离子扩散到器件的工作介质中,进而影响其化学稳定性和使用寿命,一般要在基片表面镀上一定厚度的SiO2 膜层,以便起到阻挡层的作用。基于P 蚀刻剂对SiO2 膜层和基片有显著不同的蚀刻速度,提出了一种测量玻璃基片上的SiO2 膜层厚度的方法,即:利用表面轮廓仪,在测量三个不同的蚀刻数据后,计算出SiO2 膜层的厚度。以用射频溅射法制备的SiO2 膜层为样品进行了测量,具体的实验数据证实了该方法的可靠性和有效性 相似文献
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应用微波等离子体化学气相沉积技术, 在低气压下对(100)晶面金刚石膜的表面形貌、质量、取向和生长率进行了可控性生长研究. 结果表明: 基片温度与甲烷浓度对(100)晶面金刚石膜的生长存在耦合规律. 为了获得表面形貌相似的(100)晶面金刚石膜, 在沉积过程中, 增加碳源浓度的同时需要同时升高基片温度; 当甲烷浓度为3.0%, 基片温度从740 ℃上升至1100 ℃ 的过程中, 金刚石膜的晶面取向变化可分为五个阶段, 其中当基片温度在860 ℃至930 ℃时, 很适合高取向(100)晶面金刚石膜生长; 另外, 金刚石膜的质量和生长速率分别与基片温度和甲烷浓度成正比. 为了获得高质量高取向(100)晶面金刚石膜, 应当选择合适的基片温度和甲烷浓度. 相似文献
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用溶胶-凝胶法制备了易清洗的聚乙烯醇/二氧化硅(PVA/SiO2)复合增透膜。先在K9玻璃基片上镀制PVA薄膜,然后在PVA薄膜上镀上二氧化硅增透膜。用紫外可见光分光光度计、椭偏仪、光学显微镜、扫描探针显微镜和静滴接触角测量仪分别分析了膜层和基片的透射率、膜层厚度和折射率、表面形貌、水接触角等性质,用去离子水作溶剂对复合膜层进行清洗。结果表明:聚乙烯醇/二氧化硅复合增透膜峰值透射率达到99.8%,峰值透射率位置可以随SiO2厚度而调节。复合膜层能够被热水清除,清除后基片完好,其透射率、表面形貌和水接触角与镀膜前一致。 相似文献
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一 透光率高电阻率低的透明导电薄膜,在飞机、航天飞行器和太阳能光伏电池诸方面,都有重要应用.具体地说,可用作电光显示器件的透明电极;超大口径电光快门透明电极;飞行器上防霜加热玻璃窗;防反射多层膜以及特制毛玻璃等.透明导电薄膜,有各种制备材料及制膜方法.制备材料有金、钢等纯金属和金属氧化物.金属氧化物中,目前最好的材料为SnO2和In2O3等.获得透明导电膜的方法,通常有下列几种.1.蒸熏法 把SnO2等金属氧化物和被镀基片放在特制烘炉,加热到一定温度(约+70°C),在热空气中SnO2被气化蒸熏于基片上.2 喷镀法 在烘炉中加热基片到一… 相似文献
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分别采用99.99%的多晶铜片和99.95%的磷脱氧铜片作为沉积金刚石薄膜的基片,通过热丝化学汽相沉积法在两种基片上都获得了大面积、自支撑的多晶金刚石膜.使用高分辨率光学显微镜、扫描电子显微镜、Raman光谱和X射线衍射比较分析了两种铜基片上的金刚石膜.脱氧铜上的金刚石膜质量并不亚于多晶铜上的金刚石膜,而且它的成核密度、生长速率以及应力都高于多晶铜上金刚石膜的同类参数.特别采用了退火工艺和优化的生长条件来获得大面积的连续金刚石膜.
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<正> 前言在光学器件、电子器件以及磁性元件中,都经常使用双层介质膜和多层介质膜。这些膜往往直接决定着器件的结构和性能,双层膜和多层的研究可促进新型器件的发展。在国内、四川大学物理系林理彬副教授等首先用“双入射角二级近似法”,较精确地同时测定了双层复合介质膜的厚度和折射率。这里将介绍用等效基片等效光学常数法和等效基片等效菲涅尔系数法,在一个入射角下同时测定双层和多层介质膜的厚度和折射率,且可通 相似文献
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将Sc2O3替代层引入到532 nm高反膜(HfO2/SiO2)n中,利用Sc2O3在盐酸中具有较好的溶解性这个特点,把膜层与基片脱离,以方便基片返修,缩短返修周期,降低成本。能量色散谱元素测试表明,脱离后Sc元素残留率为0。用Lamada900分光光度计、WykoNT1100轮廓仪和ZYGO干涉仪分别表征了替代层引入对高反膜的光谱、表面粗糙度和应力的影响,并测试了膜系在532 nm的激光损伤阈值的变化,结果表明Sc2O3替代层的引入对高反膜的性能几乎没有负面影响。 相似文献
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以锆酸丙酯[Zr(OPr)4]、正硅酸乙酯(TEOS)为原料, 用溶胶-凝胶(sol-gel)提拉法涂膜, 制备高透过的λ/ 4~λ/ 4型ZrO2/SiO2双层减反膜.该减反膜的表面均匀, 均方根(RMS)粗糙度为1.038 nm, 平均粗糙度(RA)为0.812 nm.制备的双层减反膜具有很好的减反效果, 在石英玻璃基片二面涂膜, 在激光三倍频波长351 nm处透射比达到99.41%, 比未涂膜石英玻璃基片的透射比提高了6.14%;在基频波长1053 nm处透射比达到99.63%, 比未涂膜K9光学玻璃基片的透射比提高了7.67%.膜层具有较高的激光损伤阈值, 在激光波长为1053 nm, 脉冲宽度为1 ns时, 薄膜的激光损伤阈值达到16.8 J/cm2.膜层具有良好的耐擦除性能. 相似文献
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本文介绍了在真空中用电子束蒸发法把A1、SiO_2和TiO_2淀积到不加热的基片上而得到高反射镜的一种方法,并指出此膜层镀制简便、机械牢固度好和反射率超过96%。 相似文献
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ITO透明导电膜玻璃的翘曲度是评价大尺寸薄基片ITO玻璃的重要指标之一。利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。研究了基片加热前、后的翘曲度和ITO膜层应力对ITO玻璃翘曲度的影响以及ITO成膜温度分布对ITO玻璃翘曲度的影响。结果表明,薄基片ITO玻璃的翘曲度主要是在镀膜时ITO膜层压应力大引起的,选择合适的成膜温度分布可明显减小ITO玻璃的翘曲度。 相似文献