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以10~5精度测量物质的折射率则需要很短的时间,测量折射率完全是光学所必需的、迫切期望简单的测量方法;美国新泽西州测量概念公司的爱德华·科菜研究用45°入射光只用所需波长的光源、偏振镜、衰减器、光度计以及数字电压表就能在短时间内以10°的精度测量折射率的方法。 相似文献
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一、前言研究基片上的薄膜吸附强度和膜层从基片上脱落的破坏过程,对考虑薄膜的应用技术和牢固性等都是十分重要的,对膜层物理特性也是有意义的。本文对玻璃基片上真空蒸镀金属膜(Ag、cu、Al)时,附着力和膜厚及基片温度的关系进行了研究,同时还研究了胶合剂的性能。二、试片的制作用附着力测定的试片(Ag、cu、Al)的蒸镀,可在油扩散泵排气系统排气的真空室内进行。试料纯度为99.999—99.99%,在钨舟中加热。其蒸镀速度为2—4A/s;蒸镀过程中真空度为4×10~(-3)Pa,所用基片是26×10×1.5mm的玻璃片。基片温度最高 相似文献
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松下电器公司以研究能高精度、高效率生产投影电视用的大口径非径面透镜的新技术为目标,约用六年的时间引进了从非球面光学设计到光学注入模加工、塑料成形、增透(防止反射)膜制备、非球面形状测量、光学性能评价各单元技术的几个新试验,到1983年大体上达到了预期的目的。本文主要叙述有关它的发展经过和技术内容。 相似文献
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本文叙述了淀积光学膜应用磁偏转电子束扫描电子枪的优越性,并着重介绍给无扫描装置磁偏转电子枪加装扫描系统的方法及其原理和结构特点。 相似文献
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本文分析了球对称折射率平方分布的平板透镜的傍轴光路,并用P·J·Sands提出的非均匀透镜的三级象差理论推导出三级象差象系数。 相似文献
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广泛用子光学多层膜的真空蒸发ZrO_2~-薄膜若用于多层增透膜则存在一个缺点,这个缺点是由薄膜的折射率随着厚度增加而降低的光学非均匀性产生的。为了改善ZrO_2~-膜的光学均匀性,在ZrO_2~-蒸发物中添加TiO_3~-和Y_2O_3,并研究了用电子束蒸发的淀职膜的晶体结构。添加TiO_2的淀积膜的光折射率几乎是均匀的,薄膜的结构是不定形的;添加Y_2~-O_3~-的淀积膜显示出相当低的光学不均匀性和稳定的立方晶构造。通过适当添加Ti_2~-和Y_2~-O_3得到了用于多层膜的最适宜的ZrO_2~-膜;这种膜具有好的光学均匀性及足够的和可变的折射率,增加了硬度,并具有可靠的重复性。此外,从一种蒸发料片反复蒸发的薄膜的X射线衍射和X射线荧光分析的结果,推测了ZrO_2~-淀积膜的不均匀性的原因。 相似文献
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