二氧化钒薄膜的光学特性及应用前景

本文着重介绍二氧化钒（ＶＯ２）薄膜的性质，相变原理，若干制备工艺对ＶＯ２薄膜相变特性的影响并给出ＶＯ２薄膜的应用方向。     

紫外光学薄膜的镀制结果

介绍使镀膜设备具有镀紫外光学薄膜功能进行的技术改造，给出几种紫外光学薄膜的镀制结果。     

用ZnS做诱导金属滤光片的间隔层

从制备工艺稳定性出发,设计的诱导金属滤光片的膜系结构与以往设计的膜系结构有所不同,即将n_L低折射率冰晶石间隔层改用n_H高折射率ZnS做间隔层。如果金属与间隔层结合良好,本文中给出的设计计算公式适合于做间隔层的任意膜层。通常膜系的透光率T是膜层厚度nd的函数T=f(nd)。高折射率n_H的膜层函数T_H=f(n_Hd)变化较快,低折射率n_L的膜层函数T_L=f(n_Ld)变化较慢,尤其是在膜层厚度接近λ_0/2的区域更为明显。实践证明选用高折射率ZnS做诱导金属银滤光片的间隔层比选用低折射率冰晶石做间隔层制备工艺稳定,产品合格率高。     

激光高反射膜的研究

研究混合膜（TiO2 Ta2O3;Ta2O5 ZrO2)的色散规律，用Ta2O5 ZrO2和SiO2成功地镀制出两个波段（632．8nm,1.06μm)的激光反射膜，使激光破坏阈值提高5％－15％（1．06μm)，膜层吸收小，机械强度增加。     

稳定高温氧化物薄膜折射率的一种方法

<正> 现在,真空蒸镀高温氧化薄膜愈来愈多地引起人们的注意。但是,几乎所有高温氧化物薄膜在一定的成膜工艺条件下,都具有变折射率的特性,想得到折射率不变的均质薄膜是很困难的。为了在通常的蒸镀条件下,得到折射率较为稳定的高温氧化薄膜,我们在ZrO_2和La_2O_3膜料中掺入适量的Ta_2O_5粉末,用电子束加热混合膜料,只要充分预熔除气,就能基本上稳定折射率。实验是在DMD-450型镀膜机上进行的,用JT-75-1型椭圆仪测量了所镀薄膜的折射率和厚度。用EPS-3T型自动记录分光光度计测量了λ/4单层膜的分光曲线。下面仅就稳定ZrO_2和La_2O_3两种氧化物薄膜折射率的方法加以介绍: 1.ZrO_2薄膜在不加Ta_2O_5粉末的情况下,一般为折射率负变(折射率随膜厚的增加而减小)的膜层。我们给ZrO_2膜料里掺入Ta_2O_5     

以二氧化钛为主的光学薄膜

本文描述在氧气中用反应蒸发一氧化钛法在光学表面上淀积二氧化钛膜(膜的折射率 n=2.5),研究膜层折射率与温度的关系,得到了以二氧化钛为主的单层和多层分光膜的光谱透过率。     

诱导透射干涉滤光片的设计及其镀制工艺

介绍可见光区诱导透射滤光片(简称ITF)的设计和镀制方法,给出透射率随膜层变化的部分理论曲线和实验曲线,讨论金属Ag层厚度和间隔层的变化对ITF透射率和截止宽度的影响。应用直透法监控层厚的工艺,第一间隔层最终控制在透射率高于起始点0.5—0.7％左右时较佳。镀Ag时厚度最终控制在其透射率起始下降到最低点附近较为适宜。     

消除光学仪器视埸发黄的W形双层增透膜

用简单的真空镀膜工艺镀制出来的W形双层增透膜,能够消除光学仪器的视场发黄。本文扼要介绍光学仪器视场发黄的原因和W形双层增透膜的解析计算公式、镀制工艺、光谱特性、机械强度以及化学稳定性等。     

宽光谱梯度折射率消色差增透膜

制备有效的宽光谱低反射消色差膜的主要困难是没有低折射率的成膜材料。由于从基底到空气界面折射率减小的非均质膜的出现,近来在这方面取得了很大的成绩。在硼硅酸盐玻璃表面上获得的这种膜可分为富氧化硅和贫氧化硅两个阶     

绿色薄膜的膜系结构

本文设计的高级次膜系结构Ｇ５Ｍ５Ｈ６Ｌ的特性是：膜层的光学厚度为绿色光谱中央波长５λ／４与６λ／４的叠加厚度；其光谱反射特性对绿色光谱人有高反射率，在绿色光谱中央波长λ两 ４个极小反射率波长；对绿色光谱两个紫、蓝、青和黄、橙、红等６个光谱均具有低反射率的效果，欲求绿色的不同深浅程度，可选用ｎｍ、ｎｋ、ｎｌ的不同值进行组合，本文给出不同深浅绿色膜系结构的实例和镀制工艺程序。