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分别采用99.99%的多晶铜片和99.95%的磷脱氧铜片作为沉积金刚石薄膜的基片，通过热丝化学汽相沉积法在两种基片上都获得了大面积、自支撑的多晶金刚石膜.使用高分辨率光学显微镜、扫描电子显微镜、Raman光谱和X射线衍射比较分析了两种铜基片上的金刚石膜.脱氧铜上的金刚石膜质量并不亚于多晶铜上的金刚石膜，而且它的成核密度、生长速率以及应力都高于多晶铜上金刚石膜的同类参数.特别采用了退火工艺和优化的生长条件来获得大面积的连续金刚石膜.
关键词： 相似文献
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金刚石膜生长过程原位光发射谱研究 总被引：2，自引：0，他引：2
近年来由于化学气相沉积（CVD）金刚石膜具有优异的物理、化学性能及广阔的应用前景而引起人们的普遍关注．现在人们越来越多地把注意力移向金刚石膜生长过程的研究，即生长机理的实验和理论研究·这些研究致力于探讨反应过挥中存在的基团种类、作用及气相如何转变为固态的金刚 相似文献
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