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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 109 毫秒
1.
研究了用产中分熔化法制备Tl-1223超导体的工艺。样品的名义组成为(Tl0.5Pb0.5)(Sr0.8Ba0.2)Ca2Cu3Oy。经熔化退火的样品,其磁化电流的77K和1T下大于2×10^4/cm^2。用熔化-退火的超导粉作原料制得的复Ag带短样,Jc达1.6-1.7×10^4A/cm^2(77k,0T)。采用烧结后的超导粉作原料,在制备复Ag带的工艺中,如用熔化-退火的热处理制度,可以免除…  相似文献   

2.
采用蠕爬型助熔剂CaO-CuO和蒸发型复合助熔剂CaO-CuO-NaCl来制备Tl-Ba-Ca-Cu-O超导单晶,生长炉最高温度890℃和850℃,因而实现了铊系单晶的低温生工。生长出的单晶分别是典型尺寸为2.0×1.5×0.2mm^3,Tc在100K与119K之间的Tl-2212相单晶和尺寸为1.2×1.0×0.1mm^3。Tc约为115K的Tl-2223相超导单晶。  相似文献   

3.
Bi系银衬底厚膜的制备及其传输电流性质   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用物理沉积法制了名义组分为Bi1.8Pb0.4Sr2Ca2Cu3Oy的银夹板厚膜成相的影响表现为热处理过程中银夹板阻止了厚膜中的物质尤其是Pb的挥发,使厚膜处于低氧压状态,加速了80K相向110K相的转化,测量了银衬底厚膜在外加磁场平行和垂直于厚膜表面的传输临界电流密度Jc与磁场H的关系。典型数据为Jc=2.31×10^4A/cm^2(77K,0T),3.6×10^2A/cm^2(77K,1T)  相似文献   

4.
测量了高温超Hg0.9Tl0.2Ba2Ca2Cu3O8+δ的热导率,温度范围为20~300K。在超导转变温度Tc以下观察到热导率明显的增加。在65K(~0.5Tc)附近,超导体的热导率表达到了一个宽的极大,热导率的极大值为的1.6倍。用正常态电子散射的模型对实验结果进行了拟合。  相似文献   

5.
本采用柠檬酸盐热解法成功地制备了反应活性高、均匀、超微(~100A)超导原粉,在份调节和粒度控制方面具有独到之处。用这种粉末合成的YBa2Cu3O7-δ超导体,其主相为正交123相,TR=0=91,2K,Jc(0T,77K)=1.8×10^5(A/cm^2),制备中烧结时间短,温度低(≤880℃),反应周期短(≤36hours),是一种很有发展前途的方法。  相似文献   

6.
我们用熔融法制备了Ba1-xKxBiO3氧化物超导体,其超导转变温度28.5K,零电阻温度25.2K.以此为靶,用脉冲激光淀积技术,制备了Ba1-xKxBiO3超导薄膜,Tc(onset)=24.5K,Tc(R=0)=20.8K.  相似文献   

7.
我们测量了Hg09Tl0.2Ba2Ca2Cu3O8+δ的热电势率与温度的关系,并着重研究了不同退火条件对其超导电性及热电势率的影响.结果表明:室温热电势率S(290K)与CuO2平面的空穴浓度p及超导转变温度Tc的关系,与J.L.Talon等人对Y系、Bi系及Tl系高温超导材料给出的结果一致.因此热电势率可提供高温超导材料内空穴浓度p的信息.  相似文献   

8.
本研究高Tc大块超导体YBa2Cu3O7-b(Fx)(其中x=0.0,0.5,0.75,1.0,1.5,2.0,2.5)的磁性。X射线衍射实验表明相当多的F进入了YBaCuO(123)晶格并被O空位俘获。用振动样品磁强计(VSW)测试这些样品的质量比磁矩σ与温度T的关系,以及抗磁性磁滞回线。未掺氟样品的Tc为89K,掺F(x=0.75)的样品具有最高的Tc0=93K和最强的抗磁性。在150K样品  相似文献   

9.
本研究了Ar气和H2/Ar混合气体退火对Tl2Ba2CaCu2Ox(2212)超导体超导电性的影响。实验表明,在Ar气中400℃退火1至12小时后Tl2Ba2CaCu2Ox的Tc(R=0)随退火时间的增长明显降低。X-光衍射分析证实,在Ar气或H2/Ar混合气体中退火前后,Tl2Ba2CaCu2Ox超导体的结构没有发生变化。  相似文献   

10.
于扬  金新 《低温物理学报》1994,16(2):119-122
本介绍了用熔融法制备Bi2.2Sr1.8Ca1.05Cu2.15-xNaxO8+y(x=0,0.4~0.8)样品,发现诸样品零电阻温度都在90K左右,其中x=0.7,Tc0达到92.5K。在81K较高温区,该类样品仍然表现出良好的超导电性,其临界电流密度还达到10^3A/cm^2量级。  相似文献   

11.
在成功制备C60外延薄膜的基础上,我们又尝试了碱金属Rb对该膜的掺杂。结果表明,从室温至80K左右,Rb3C60薄膜的电阻温度系数大于0,并近似符合公式:ρ(T)=a+bT^2,与单晶样品一致。但是,当温度低于80K以后,出现了弱的对数局域。在5K、零场下,样品的Jc值一般为10^3-10^4A/cm^2,且有如下规律:Jc(T)=Jc(0)(1-T/Tc)^a,α=1.3-2.0。此外,我们还测  相似文献   

12.
本文研究了c轴取向的Hg0.9Tl0.1Ba2Ca2Cu3O8+δ超导膜(Tc〉124K)在混合态下的电阻展宽及霍尔效应。低电阻区域的展宽显示出热激活磁通蠕动行为。在膜的超导转变温度以下,我们观察到霍尔电阻率符号反常现象。霍尔电阻率(ρxy)和纵向电阻率(ρxx)具有ρxy(T)=kρxx^β(T)的标度关系。  相似文献   

13.
铊系超导单晶的低温生长   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用蠕爬型助熔剂CaO-CuO和蒸发型复合助熔剂CaO-CuO-NaCl来制备Tl-Ba-Ca-CU-O超导单晶,生长炉最高温度分别为890℃和850℃,因而实现了铊系单晶的低温生长.生长出的单晶分别是典型尺寸为2.0×1.5×0.2mm3,Tc在100K与119K之间的Tl-2212相单晶和尺寸为1.2×1.0×0.1mm3,Tc约为115K的Tl-2223相超导单晶.采用蠕爬型助熔剂可以降低熔点而不引进其它非组元杂质,但导致熔料蠕爬,对生长大块单晶不利.采用蒸发型复合助熔剂克服了熔料的蠕爬现象,减少了铊的损失,对生长多铜氧层的单晶有利.  相似文献   

14.
在波长γ=632.8nm,入射功率约0.8m的He-Ne激光照射下,对TlBa2Ca2CuO2(Tl-2212)外延膜的光响应行为进行了实验研究。结果显示:在样品转变温度(Tc=105.5K)附近,TlBa-CaCuO外延膜的光响应行为表现为辐射热与非辐射热效应共存现象。光响应信号电平与样品温度、偏置电流、及入射光束的调制频率等诸因素有密切关系的关系。实验结果还表明,辐射热与非辐射热效应的响应行为  相似文献   

15.
对于La0.2Ba0.8-xCax(O,CO3)其中x=0.0、0.2、0.4、0.6氧化物在973K及甲烷氧化偶联(OCM)条件下,无Ca^2+的样品可用表面BaCO3和(LaO)2CO3的Raman谱及810cm^-1附近的O2^2-特征峰来表征;含Ca^2+的样品,则表现了混合碳酸盐(Ca,Ba)CO3的特征,还有位于1135cm^-1(w)和810cm^-1(w)的O2^-、O2^2-瞬时  相似文献   

16.
采用高温高压合成方法,合成出了Pr1-xCaxBa2Cu3O7-δ(04≤x≤06)系列块材超导体,在缺氧的Pr0.5Ca0.5Ba2Cu3O7-δ四方123结构样品中得到了Tc为98K.实验结果表明Pr在123结构中的价态为大于3+的混合价态,因而空穴填充和杂化导致的载流子局域化是Pr抑制123相超导电性的关键因素.  相似文献   

17.
用脉冲激光沉积法在先在MgO衬底上制备一层Sr2(AlTa)O6薄膜作为过渡层,再制备(Y0.6Ho0.4)Ba2Cu3O7-δ超导薄膜,新超导薄膜的零电阻温度Tc0为89K,临界电流密度Jc为2.3*10^6A/cm^2(77K),用X射线衍射仪及扫描电子显微镜分析了薄膜特性。  相似文献   

18.
本文通过透射电子显微镜观察、超导电性测量、X射线衍射、氧含量测定等手段研究了淬火和制备工艺对Bi(Pb)-2223相超导体超导电性、氧含量和微结构的影响.结果表明,随着淬火温度的提高,Tc(0)呈现一个不连续的变化,在100-400℃范围内,Tc(0)基本不变,在500-600℃,Tc(0)略有升高,在750℃.Tc(0)呈现一个极小值.在500—600℃淬火处理可以增加样品中的氧含量,具有Tc(0)近110K的Bi1.7Pb0.3Sr2Ca2Cu3O10+6的最佳氧含量在δ=0.14—0.29之间.在800—820℃淬火处理可以改善样品晶粒间的弱连接状态,而样品的弱连接和微结构与阳离子和氧的组成及其制备工艺密切相关.  相似文献   

19.
本文对Bi2-xPbxSr2CaCu2Qδ(x=0 ̄0.5)系列样吕以及在真空下不同温度退火的Bi1.6Pb0.4Sr2CaCU2Oδ样品进行了X射线衍射和Raman谱实验研究。测量表明,随着退火温度的升高,a,b,c轴晶格常数增加,与O(1)CuBg模式相关的294cm^-1的峰强减少,峰位红移。研究结果进一步表明,464cm^-1和630cm^-1峰分别与O(3)BiA1g和O(2)SrA1g  相似文献   

20.
本用第一原理的LDF-LMTO-ASA方法,以超元胞Ba4Bi4O12,(Ba3K)BiO12,(BaK)Bi2O6,(BaK3)Bi4O12,K2Bi2O6五种“样本”计算由于Bi^+3和Bi^+5二种价态以及K掺杂引起各芯态能级化学位移的变化,“样本”的电子结构与实验相符,即Ba4Bi4O12是g=-2.0eV的半导体,(Ba3K)Bi4O12j Eg=1.6eV其价带顶有不量空穴的半导体,  相似文献   

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