具有纯Tb^3＋发光光谱的有机电致发光二极管

制成了用三价Ｔｂ配合物作为发射层的有机电致发光二极管，并获得纯Ｔｂ３＋的发光光谱。二层结构为玻璃衬底／Ｉｎ－ＳｎＯ（ＩＴＯ）／ｐｏｌｙ（Ｎ－ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）（ＰＶＫ）／Ｔｂ配合物／Ａｌ，在正向直流偏压下发出明亮的绿光。器件的电致发光（ＥＬ）光谱与Ｔｂ配合物薄膜的光致发光（ＰＬ）光谱完全一致，含有一个尖锐的发射带，系典型的Ｔｂ配合物的发光谱。在驱动电压为５Ｖ下，发光清晰可见，当驱动电压达到１５．４Ｖ时，获得２１０ｃｄ／ｍ２的发光，据知这是用Ｔｂ配合物做发射层的电致发光元件的最亮的发光。同时，通过对器件光谱及电学特性的测量、比较和分析，探讨了有关稀土电致发光机理等问题     

以陶瓷厚膜为绝缘层的红色ZnSvSm,Cl电致发光器件

报道采用高介电常数的陶瓷厚膜作绝缘层、ＺｎＳｖＳｍ , Ｃｌ作为发光层的红色薄膜电致发光器件。测量了器件的电致发光光谱和亮度电压曲线, 研究了发光机理和效率电压等特性。制备的器件在市电频率驱动下１６ Ｖ启亮, 最大亮度为１８．４ ｃｄ／ｍ ２, 最大效率为０．０６ ｌｍ ／Ｗ。     

以陶瓷厚膜为绝缘层的红色ZnS:Sm,Cl电致发光器件

报道采用高介电常数的陶瓷厚膜作绝缘层、ＺｎＳ：Ｓｍ,Ｃｌ作为发光层的红色薄膜电致发光器件。测量了器件的电致发光光谱和亮度电压曲线,研究了发光机理和效率电压等特性。制备的器件在电驱动下１６Ｖ启亮,最大亮度为１８．４ｃｄ／ｍ＾２,最大效率为０．０６１ｍ／Ｗ。     

绿色陶瓷厚膜电致发光器件研究

报道了采用高介电常数的陶瓷厚膜作绝缘层、ＺｎＳ：Ｅｒ,Ｃ１作为发光层的绿色薄膜电致发光器件（ＣＴＦＥＬ）。器件结构为陶瓷基片／内电极／陶瓷厚膜／发光层（ＺｎＳ：Ｅｒ,Ｃ１）／透明电极（ＺｎＯ：Ａ１）。制备的器件在市电频率驱动下发出明亮的绿光,测量了器件的电致发光（ＥＬ）光谱和亮度－电压曲线,研究了发光机理和效率－电压等特性。     

有机薄膜电致发光器件结构与发光特性的研究

从有机电致发光薄膜的发光机理出发，通过以Ａｌｑ薄膜器件、ＰＶＫ为空穴传输层和Ａｌｑ为发光层的双层 及ＰＶＫ掺荧光材料Ｐｅｒｙｌｅｎｅ的双层薄膜器件的研制，从器件的电致姚谱、电流密度－电压特性、亮度－电压特性的曲线的测试结果，计算分析了器件的流明效率、量子效率，并对有机薄膜电致发光器件的结构与发光特性之间的关系进行研究，利用能级理论分析了器件的姚特性随器件的结构不同所具有的规律。实验表明，加入ＰＶＫ     

低压驱动薄膜电致发光激发效率分布特性的实验研究

分析了利用探针层实验方法来测量激发效率在电致发光器件的发光层中分布的机理，并利用这种实验方法测量了激光发效率在低压驱动薄膜电致发光器件的发光层中的分布特性和器件的激光发特性。实验结果表明在这种低压驱动电致发光器的发光层中激光发效率是不均匀的，其分布与器件被激发的程度有关。     

聚（2，5－二丁氧基对苯乙炔）电致发光性能的研究

本文对以聚（２，５－二丁氧基对苯乙炔）为发光层的聚合物电致发光二极管的电致发光性能和影响其性能的因素进行了研究．其发光峰值波长为５９０ｕｍ，起亮电压为１２Ｖ，最大亮度可达１１２ｃｄ／ｍ２．热处理温度和时间影响其发光强度和峰值波长，一般以２００℃，真空处理３．５ｈ为宜．还原气氛（Ｎ２＋Ｈ２）下的热处理有利于电致发光性能的提高．器件在空气中具有一定的使用寿命．其量子效率可达０．１６％光子／电子．并研究了器件制备工艺对性能的影响，初步探讨了聚合物电致发光机理．     

一种压控波长可调谐异质结有机薄膜发光二极管

利用空穴型聚合物材料ＲＯＰＰＶ－１２［聚（十二烷氧基－对苯乙炔）］与电子型有机小分子材料Ａｌｑ３（八羟基喹啉铝）配合制备了有机薄膜异质结发光二极管。发现该异质结器件在ＲＯＰＰＶ－１２的厚度保持为７０ｎｍ、Ａｌｑ３的厚度为２０ｎｍ时，器件的性能最优，且电致发光完全来自ＲＯＰＰＶ－１２；而当Ａｌｑ３的厚度为３２ｎｍ时，发光区域则跨越了ＲＯＰＰＶ－１２与Ａｌｑ３，器件在较低驱动电压下来自ＲＯＰＰＶ－１２的光发射占主导地位，随着电压的升高，Ａｌｑ３的光发射逐渐占据了主导地位。在相同电压下，前一器件的亮度、电流、发光效率都要远高于后一器件。分析了其发光机理。     

磁控溅射制备Ta2O5／TiO2薄膜及其光学与电学性能的研究

用直流平面磁控溅射沉积薄膜的方法在Ｓｉ和玻璃基片上制备了Ｔａ２Ｏ５／ＴｉＯ２混合薄膜,薄膜的透射光谱研究结果表明,在ＴｉＯ２掺入浓度为０到１７％,薄膜的折射率从２．０８到２．２３。薄膜折射率与掺入ＴｉＯ２的浓度呈近线性关系。薄膜的ＭＯＳ电容器的Ｉ－Ｖ和Ｃ－Ｖ测量表明,经过退火处理能够提高Ｔａ２Ｏ５／ＴｉＯ２混合薄膜的介电常数。     

以金刚石薄膜为空穴传导层的有机薄膜电致发光

以在半透明金膜上生长的微晶金刚石薄膜作为空穴传导层，得到了以８－羟基喹啉铝（Ａｌｑ３）为发光材料的有机薄膜的电致发光，对器件的电流－电压特性，电压－亮度特性进行了测量，并计算了量子效率，结果表明，该器件具有较高的量子效率及较小的工作电流，从能带图出发，对结果进行了分析。     

Ta2O5绝缘层厚度对ZnO基薄膜晶体管器件性能的影响

报道了不同厚度TaO5栅绝缘层对氧化锌薄膜晶体管器件性能的影响.在室温下用射频磁控溅射分别制备了100,85,60,40 nm厚度的Ta2O5薄膜作为绝缘层的一组底栅氧化锌薄膜晶体管器件.从实验结果可以得出如下结论:随着Ta2O5栅绝缘层厚度的增加,相应器件的场效应迁移率下降,其数值分别是50.5,59.3,63.8,...     

用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率

介绍了用于波长为1550nm光通讯波分复用／解复用滤光片的离子束溅射的Ta2O5和SiO2薄膜在法里－珀罗多层膜中的折射率的实时所 方法及拟合方法及拟合结果，给出了它们的淀积时间，淀积速率和计算的光学厚度，分析了这些结果的可靠性。     

Electroluminescence of double-doped diamond thin films

A new electroluminescence device is fabricated by microwave plasma chemical vapour deposition system and electron beam vapour deposition system. It is comprised of highly doped silicon/diamond/boron/nitrogen-doped diamond/indium tin oxide thin films. Effects of process parameters on morphologies and structures of the thin films are detected and analysed by scanning electron microscopy, Raman spectrometer and x-ray photoelectron spectrometer. A direct-current (DC) power supply is used to drive the electroluminescence device. The blue light emission with a luminance of 1.2 cd·m 2 is observed from this double-doped diamond thin film electroluminescence device at an applied voltage of 105 V.     

铁电薄膜性能测量实验

利用铁电性能综合测试系统测量了SrBi2Ta2O9薄膜的铁电性能,分析了电压变化对于电滞回线的影响,同时对疲劳行为进行了研究。     

Realization of Ultraviolet Electroluminescence from ZnO Homojunction Fabricated on Silicon Substrate with p-Type ZnO:N Layer Formed by Radical N2O Doping

ZnO homojunction light-emitting diodes are fabricated on Si（100） substrates by plasma assisted metal organic chemical vapour deposition. A p-type layer of nitrogen-doped ZnO film is formed using radical N2O as the acceptor precursor. The n-type ZnO layer is composed of un-doped ZnO film. The device exhibits desirable rectifying behaviour with a turn-on voltage of 3.3 V and a reverse breakdown voltage higher than 6 V. Distinct electrolumineseence emissions centred at 395nm and 490nm are detected from this device at forward current higher than 20mA at room temperature.     

有机薄膜的光致发光和电致发光

制备了以Alq3为发光物质的有机薄膜电致发光器件,得到了30V直流电压下100cd/m2的绿色发光.探讨了Alq3薄膜的光致发光和器件的电致发光机理.     

用离子束增强沉积从V2O5粉末制备高热电阻温度系数VO_2薄膜

采用了一种用离子束增强沉积从V2O5粉末直接制备VO2薄膜的新方法,将纯度为997%的V2O5粉末压成溅射靶,在用Ar离子束溅射的同时,用氩氢混合束对沉积膜作高剂量离子注入,使沉积膜中V2O5的V—O键断裂,进而被注入的氢还原,退火后获得热电阻温度系数(TCR)高达4%的VO2薄膜.高剂量的氩氢混合束注入对薄膜引入应力,使薄膜的转换温度降低、电阻温度曲线斜率变大,是薄膜TCR增大的原因 关键词： 离子束增强沉积 VO2薄膜 热电阻温度系数     

Electroluminescence of Ta2O5 Films Formed by Molecular Layer Deposition

Optics and Spectroscopy - The possibility of using electroluminescence to study Si–Ta2O5 and Si–SiO2–Ta2O5 structures and obtain information on the electronic structure of the...     

激光高反射膜的研究

研究混合膜（TiO2 Ta2O3;Ta2O5 ZrO2)的色散规律，用Ta2O5 ZrO2和SiO2成功地镀制出两个波段（632．8nm,1.06μm)的激光反射膜，使激光破坏阈值提高5％－15％（1．06μm)，膜层吸收小，机械强度增加。     

N2O Plasma表面处理对SiNx基IGZO-TFT性能的影响

采用N₂O plasma处理SiN_x薄膜作为绝缘层,以室温下沉积的铟镓锌氧化物(IGZO)作为有源层制备了 IGZO薄膜晶体管。与常规的IGZO-TFT相比,N₂O plasma处理过的IGZO-TFT的迁移率由原来的4.5 cm²·V^-1·s^-1增 加至8.1 cm²·V^-1·s^-1,阈值电压由原来的11.5 V减小至3.2 V,亚阈值摆由原来的1.25 V/decade减小至0.9 V/decade。采用C-V方法计算了两种器件的陷阱态,结果发现N₂O plasma处理过的IGZO-TFT的陷阱态明显小于普通的IGZO-TFT的陷阱态,表明N₂O plasma处理SiN_x绝缘层是一种改善IGZO-TFT器件性能的有效方法。