LY12CZ铝合金表面等离子浸没离子注入氮层的摩擦磨损性能研究

对LY12CZ(2024)铝合金进行了氮等离子体浸没离子注入(PIII)处理,分析比较了不同工艺参数下离子注入前后试样的化学组成、各元素的化学价态及其摩擦磨损性能.结果表明:铝合金表面改性层中形成了弥散强化的氮化铝(AlN)相;与基体相比,铝合金试样在不同条件下处理后的表面显微硬度均有所提高,最大增幅达1.4倍;铝合金的磨损质量损失减少了75%,摩擦系数显著降低,表面综合性能得到了显著改善.     

绝缘栅双极晶体管固体开关技术研究

 采用二只1.2kV,75A的绝缘栅双极晶体管（IGBT）串联，对用于加速器的IGBT固体开关技术进行了研究；通过采取动态电压和静态电压平衡措施来解决IGBT串联中的瞬态电压平衡问题。在不同工作条件下，串联IGBT开关工作性能稳定，重复性好。在纯阻性负载上得到了上升时间约300ns、下降时间约164μs、峰值电压1.8kV的输出。     

等离子体离子注入国际学术讨论会简讯

等离子体离子注入国际学术讨论会简讯等离子体离子注入国际学术讨论会于１９９３年８月４日至６日在美国威斯康辛州麦迪逊市举行，来自澳大利亚、比利时、中国、英国、德国、南朝鲜、南非、泰国和美国约１００名代表参加了会议。会议主要讨论和交流了近年来迅速发展起来的...     

GUIDING OF PLASMA BY ELECTRIC FIELD AND MAGNETIC FIELD

The relationship between the transported ion current and the cathodic arc current is determined in a vacuum arc plasma source equipped with a curved magnetic filter. Our results suggest that the outer and inner walls of the duct interact with the plasma independently. The duct magnetic field is a critical factor of the plasma output. The duct transport efficiency is to maximize at a value of bias plate voltage in the range +10 V to +20 V, and independent (within our limit of measurement) of the magnetic field strength in the duct. The plasma flux is composed of two components: a diffusion flux in the transverse direction due to particle collisions, and a drift flux due to the ion inertia. The inner wall of the magnetic duct sees only the diffusion flux while the outer wall receives both fluxes. Thus, applying a positive potential to the outer duct wall can reflect the ions and increase the output current. Our experimental data also show that biasing both sides of the duct is more effective than biasing the outer wall alone.     

钇的预注入对Ti-6Al-4V合金氮等离子体浸没离子注入行为的影响

为了提高氮等离子体浸没离子注入Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ合金时氮原子的峰值深度,利用钇来增加氮在基体中的注入深度和扩散深度,先用２０ｋＶ的电压进行钇等离子体浸没离子注入处理,然后用３０ｋＶ的电压进行氮等离子体浸没离子注入处理。俄歇能谱测试表明氮原子的峰值深度有明显提高,注钇时间为３０ｍｉｎ的试件,氮原子的峰值深度从５０ｎｍ上升到１００ｎｍ。摩擦性能式表明处理后试件的抗磨损能力大大提高。     

表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响

利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入（ＰⅢ）Ｋ ,具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况,计算了鞘层扩展过程中的电热分布、离子速度和离子密度变化获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况,为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。     

AISI304钢表面低电压等离子体基离子注入层摩擦磨损性能研究

采用高频低电压等离子体浸没离子注入（ＨＬＰＩＩＩ）技术对ＡＩＳＩ３０４不锈钢表面进行了氮离子注入处理;用球－盘摩擦磨损试验机考察了注入处理后钢表面改性层的摩擦磨损性能;用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、俄歇电子能谱仪（ＡＥＳ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）考察了改性层的相组成、Ｎ元素的深度分布及磨损机理。研究结果表明：ＨＬＰＩＩＩ处理能够显著提高样品的摩擦学性能,且其摩擦学性能对温度有较大的依赖性,４００℃下处     

轴承滚珠等离子体浸没离子注入过程的数值模拟

 利用轴对称PIC模型对轴承滚珠等离子体浸没离子注入（PIII）过程进行了数值模拟，对归一化电势的扩展情况进行了研究。在滚珠批量处理过程中，为了避免相邻滚珠周围鞘层的相互重叠对注入均匀性造成不良影响，对滚珠在靶台上摆放的最小距离进行了数值计算，计算结果表明：在电压为－40kV, 氮等离子体密度为4.8×10⁹ cm^-3，脉冲宽度为10μs时，滚珠摆放的最小距离应大于34.18cm。分析了滚珠圆周方向注入剂量的分布情况，针对静止滚珠改性处理后剂量分布很不均匀的问题，通过旋转靶台使滚珠注入均匀性明显得到改善。利用朗谬尔探针测量了滚珠周围鞘层扩展的情况测量，模拟结果和实验测量结果相吻合，最大相对误差小于8.4 %。     

等离子体浸没离子注入过程中离子质谱测量

用一个取样离子源－Ｅ×Ｂ质谱系统测定了等离子体浸没离子注入中氮等离子体的质谱，测量出的氮等离子体的离子比率作为计算机模拟ＴＡＭＩＸ程序的输入参数，以预测原子的浓度－深度分布曲线，氮注入的Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ样品用扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）分析，获得了原子浓度－深度分布的试验数据，理论预测和用俄歇分析的结果比较，显示出很好的一致性．     

等离子体源离子注入（Ⅰ）—原理和技术

等离子体源离子注入（ＰＳＩＩ）是用于材料表面改性的一种新的、廉价的、非视线技术。它消除了一般束线离子注入（ＩＢＩＩ）所固有的视线限制，克服了保持剂量问题，使注入装置变得简单和价廉。介绍了ＰＳＩＩ过程、装置和基本物理与技术问题，也介绍了在美国威斯康辛大学和哈尔滨工业大学ＰＳＩＩ研究室中进行的ＰＳＩＩ技术研究及其工业应用的初步结果。