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等离子体离子注入国际学术讨论会简讯等离子体离子注入国际学术讨论会于1993年8月4日至6日在美国威斯康辛州麦迪逊市举行,来自澳大利亚、比利时、中国、英国、德国、南朝鲜、南非、泰国和美国约100名代表参加了会议。会议主要讨论和交流了近年来迅速发展起来的... 相似文献
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The relationship between the transported ion current and the cathodic arc current is determined in a vacuum arc plasma source equipped with a curved magnetic filter. Our results suggest that the outer and inner walls of the duct interact with the plasma independently. The duct magnetic field is a critical factor of the plasma output. The duct transport efficiency is to maximize at a value of bias plate voltage in the range +10 V to +20 V, and independent (within our limit of measurement) of the magnetic field strength in the duct. The plasma flux is composed of two components: a diffusion flux in the transverse direction due to particle collisions, and a drift flux due to the ion inertia. The inner wall of the magnetic duct sees only the diffusion flux while the outer wall receives both fluxes. Thus, applying a positive potential to the outer duct wall can reflect the ions and increase the output current. Our experimental data also show that biasing both sides of the duct is more effective than biasing the outer wall alone. 相似文献
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AISI304钢表面低电压等离子体基离子注入层摩擦磨损性能研究 总被引:6,自引:0,他引:6
采用高频低电压等离子体浸没离子注入(HLPIII)技术对AISI304不锈钢表面进行了氮离子注入处理;用球-盘摩擦磨损试验机考察了注入处理后钢表面改性层的摩擦磨损性能;用扫描电子显微镜(SEM)、俄歇电子能谱仪(AES)和X射线衍射(XRD)考察了改性层的相组成、N元素的深度分布及磨损机理。研究结果表明:HLPIII处理能够显著提高样品的摩擦学性能,且其摩擦学性能对温度有较大的依赖性,400℃下处 相似文献
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利用轴对称PIC模型对轴承滚珠等离子体浸没离子注入(PIII)过程进行了数值模拟,对归一化电势的扩展情况进行了研究。在滚珠批量处理过程中,为了避免相邻滚珠周围鞘层的相互重叠对注入均匀性造成不良影响,对滚珠在靶台上摆放的最小距离进行了数值计算,计算结果表明:在电压为-40kV, 氮等离子体密度为4.8×109 cm-3,脉冲宽度为10μs时,滚珠摆放的最小距离应大于34.18cm。分析了滚珠圆周方向注入剂量的分布情况,针对静止滚珠改性处理后剂量分布很不均匀的问题,通过旋转靶台使滚珠注入均匀性明显得到改善。利用朗谬尔探针测量了滚珠周围鞘层扩展的情况测量,模拟结果和实验测量结果相吻合,最大相对误差小于8.4 %。 相似文献
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用一个取样离子源-E×B质谱系统测定了等离子体浸没离子注入中氮等离子体的质谱,测量出的氮等离子体的离子比率作为计算机模拟TAMIX程序的输入参数,以预测原子的浓度-深度分布曲线,氮注入的Ti6Al4V样品用扫描俄歇微探针(SAM)分析,获得了原子浓度-深度分布的试验数据,理论预测和用俄歇分析的结果比较,显示出很好的一致性. 相似文献
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等离子体源离子注入(Ⅰ)—原理和技术 总被引:12,自引:0,他引:12
等离子体源离子注入(PSII)是用于材料表面改性的一种新的、廉价的、非视线技术。它消除了一般束线离子注入(IBII)所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉。介绍了PSII过程、装置和基本物理与技术问题,也介绍了在美国威斯康辛大学和哈尔滨工业大学PSII研究室中进行的PSII技术研究及其工业应用的初步结果。 相似文献