|
|||||
|
|
| 等离子体浸没离子注入过程中离子质谱测量 | |
| 引用本文： | 王松雁,汤宝寅.等离子体浸没离子注入过程中离子质谱测量[J].物理,1997,26(9):558-561. |
| 作者姓名： | 王松雁 汤宝寅 |
| 作者单位： | 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家实验室 |
| 基金项目： | 航空航天工业总公司资助 |
| 摘 要： | 用一个取样离子源－Ｅ×Ｂ质谱系统测定了等离子体浸没离子注入中氮等离子体的质谱，测量出的氮等离子体的离子比率作为计算机模拟ＴＡＭＩＸ程序的输入参数，以预测原子的浓度－深度分布曲线，氮注入的Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ样品用扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）分析，获得了原子浓度－深度分布的试验数据，理论预测和用俄歇分析的结果比较，显示出很好的一致性． |
| 关 键 词： | 等离子体浸没 离子注入 离子质谱 材料 表面处理 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |