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相似文献
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1.
同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米级图形的 超微细加工，特别是ＬＩＧＡ技术的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域．使它不仅适合于超大规模 集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作．文章简要介绍了 ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展．  相似文献   

2.
胡一贯 《物理》1996,25(2):111-114
同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米图形的超微细加工，特别是ＬＩＧＡ的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域，使它不仅适合于超大规模集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作，文章简要介绍了ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展。  相似文献   

3.
深度同步辐射光刻初探   总被引：1，自引：0，他引：1  
田扬超  傅绍军 《光学学报》1994,14(4):47-448
ＬＩＧＡ技术被认为是制作微机械最有前途的方法，而ＬＩＧＡ技术较为关键的一步是深度同步辐射光刻。报道了深度同步辐射光刻的进展，刻蚀出了外圆直径为３８μｍ～３９μｍ，叶长约８μｍ，高约２５μｍ的扇叶状微结构元件。  相似文献   

4.
封面说明     
中国科学院高能物理研究所以北京正负电子对撞机上的同步辐射装置为依托 ,从 2 0世纪 90年代初开始微细加工技术研究 ,主要以ＬＩＧＡ、准ＬＩＧＡ技术为主 .目前实验室具有开展微细加工所必需的洁净环境以及各种加工、检测设备 ,可以开展多种镀膜、多种光刻、干 湿法腐蚀、电铸、模压塑铸等多种技术的复合加工 .目前加工出的微结构最小线宽达 5 0ｎｍ ,最大深度达 2ｍｍ ,微结构的深度 宽度之比最高达 10 0 .图为深度光刻获得的高深宽比微结构的扫描电镜照片封面说明$中国科学院高能物理研究所@彭良强…  相似文献   

5.
董宝中  唐鄂生 《物理》1995,24(11):670-674
简要介绍北京同步辐射装置及其在生物学、材料科学、催化学、地矿和Ｘ射线光刻等领域的科学研究进展。  相似文献   

6.
LD Pumped Q-Switching and Self-starting Mode-locked All Fiber Laser   总被引：1，自引：0，他引：1  
ＬＤＰｕｍｐｅｄＱ－ＳｗｉｔｃｈｉｎｇａｎｄＳｅｌｆ－ｓｔａｒｔｉｎｇＭｏｄｅ－ｌｏｃｋｅｄＡｌｌＦｉｂｅｒＬａｓｅｒ￥ＺＨＡＮＧＪｉａｎ；ＬＩＪｉｎｇｈｕｉ；ＪＩＡＮＧＸｉｎｇ；ＬＩＵＸｉａｏｍｉｎｇ；ＰＥＮＧＪｉａｎｇｄｅ（Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔｏ...  相似文献   

7.
微细加工新方法——LIGA技术   总被引：2，自引：0，他引：2  
本文介绍了一种微细加工新方法 ＬＩＧＡ（ｉｎ Ｇｅｒｍａｎ　ＬＩｔｈｏｇｒａｈｙ，ＧａｌｖａｎｏｆｏｒｍｕｎｇＡｂｆｏｒｍｕｎｇ）技术的基本原理及特点．同时还简单说明了这种方法的技术要求．报道了国内外在这方面开展研究的成果  相似文献   

8.
简要介绍了北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）及其在生物科学、材料科学、催化剂、地矿和Ｘ射线光刻等领域的科学研究进展。  相似文献   

9.
张东平  乐德芬  胡一贯 《应用光学》2001,22(4):40-44,48
同步辐射X射线光刻（SRXL）是本世纪超大规模集成电路（VLSI）发展中最有希望的深亚微米图形加工技术,本文综述了SRXL技术研究的现状及存在的问题,并对其今后的发展进行展望。  相似文献   

10.
ＧｅｏｍｅｔｒｉｃＡｒａｎｇｅｍｅｎｔｗｉｔｈＭｕｌｔｉｐｌｉｃｉｔｙｏｆＬａｓｅｒＢｅａｍｓｉｎＴａｒｇｅｔＡｒｅａＴＡＮＪｉｃｈｕｎＷＥＩＸｉａｏｆｅｎｇ１）ＣＨＥＮＧＺｈｅＹＵＡＮＸｉａｏｄｏｎｇ１）ＬＩＵＬｉｒｏｎｇＳＨＩＺｈｉｑｕａｎ（Ｄｅ...  相似文献   

11.
ＸＡＦＳ方法是一种新型物质结构分析手段，近年来已成为非常活跃的学科领域．文章简要介绍了ＸＡＦＳ的物理概念，同步辐射ＸＡＦＳ实验方法的基本原理及实验装置，我国建造的第一个也是目前唯一的同步辐射ＸＡＦＳ实验系统的主要物理参数、运行状况，以及我国ＸＡＦＳ研究工作的进展  相似文献   

12.
石化企业典型雷害成因及防护技术初探娄仁杰张雷周本谋（中国石化总公司安全技术研究所，大连１１６０３１）（收稿日期：１９９８－０５－２５）ＴＹＰＩＣＡＬＣＡＵＳＥＳＯＦＦＯＲＭＩＮＧＬＩＧＨＴＮＩＮＧＤＡＭＡＧＥＳＡＮＤＬＩＧＨＴＮＩＮＧＰＲＯＴＥＣＴＩ...  相似文献   

13.
利用同步辐射光，在对称Ｌａｕｅ情况下，于Ｇａ的Ｋ吸收限附近，测定了ＧａＡｓ（２００）的衍射波和透射波的摇摆曲线．通过测定的透射波的摇摆曲线和Ｘ射线衍射动力学理论的相应计算结果的定量比较，求得ＧａＡｓ中的Ｇａ原子在其Ｋ吸收限附近的反常散射因数 关键词：  相似文献   

14.
ＴｈｅＳｕｐｅｒｐｏｓｉｔｉｏｎｏｆＣｏｈｅｒｅｎｔＳｔａｔｅｓＡｌｏｎｇａＳｔｒａｉｇｈｔＬｉｎｅｗｉｔｈＴｈｅｒｍａｌＮｏｉｓｅ￥ＺＨＵＫａｉｃｈｅｎｇ；ＭＡＳｏｎｇｔｉｎｇ；ＴＡＮＧＨｕｉｑｉｎ；ＨＵＡＮＧＤｕｚｈｉ；ＬＩＸｉｎｇｕａｎｇ（Ｄｅ...  相似文献   

15.
Ａ０．９８μｍＬａｓｅｒＤｉｏｄｅＰｕｍｐｅｄＥｒｂｉｕｍ－ＤｏｐｅｄＦｉｂｅｒＡｍｐｌｉｆｉｅｒｗｉｔｈ４０ｎｍＢａｎｄｗｉｄｔｈ￥ＬＩＪｉｎｇｈｕｉ；ＰＥＮＧＪｉａｎｇｄｅ；ＪＩＡＮＧＸｉｎ；ＹＡＯＭｉｎｙｕ；ＷＵＧｅｎｇｓｈｅｎｇ；ＦＡＮＣｈｏ...  相似文献   

16.
ＲａｎｇｅａｎｄＬｉｎｅＲｅｓｏｌｖｅｄＢｒｉｌｌｏｕｉｎＳｃａｔｔｅｒｉｎｇｉｎＰｕｒｅＷａｔｅｒＵｓｉｎｇＰｕｌｓｅｄＮｄ：ＹＡＧＬａｓｅｒ￥ＬＩＵＤａｈｅ；ＱＵＡＮＸｉａｏｈｏｎｇ（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，ＴｅｘａｓＡ＆ＭＵｎｉ...  相似文献   

17.
用XRF微探针研究掺杂元素锗在单晶硅中的分布   总被引：2，自引：0，他引：2  
用同步辐射及Ｘ光管激发Ｘ射线荧光微区分析技术研究了单晶硅中掺杂元素Ｇｅ的定性分布，为半导体材料中掺杂元素行为的研究提供了一种新的方法。  相似文献   

18.
同步辐射光刻的三维聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate，PMMA）微结构制造对X射线光刻掩膜板的吸收体形状和PMMA所吸收的X射线能量分布有直接影响，即三维PMMA微结构形状取决于X射线光刻掩膜板的吸收体形状。如果不对X射线光刻掩膜板进行补偿，在被曝光的结构中可观察到结构侧面的变形。研究了引起这种结构侧面变形的各种原因并提出X射线剂量对刻蚀深度非线性曲线是最直接的原因。基于X射线光刻掩膜板图形形状和实际制造的三维PMMA微结构的误差，X射线光刻掩膜板从双直角三角形变为双半圆图形使得微注射针阵列的强度得到增强。为了量化实际制造的三维PMMA微结构的误差，给出了X射线吸收能量分布与微结构的结构形状数据。  相似文献   

19.
ＡｄｖａｎｃｅｄＨｅｔｅｒｏｄｙｎｅＩｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒｗｉｔｈＣｏｍｍｏｎＰａｔｈｆｏｒＲｏｕｇｈｎｅｓｓＭｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ￥ＬＩＸｉａｎｇ；ＷＡＮＧＪｉａ；ＺＨＡＯＹａｎｇ；ＬＩＤａｃｈｅｎｇ；ＣＡＯＭａｎｇ（Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆ...  相似文献   

20.
ＦｒｅｑｕｅｎｃｙＣａｌｉｂｒａｔｉｏｎｏｆＭＯＴＥｘｐｅｒｉｍｅｎｔｕｓｉｎｇＡｔｏｍｉｃＢｅａｍＡｐｐａｒａｔｕｓＬＩＵＸｕｎｍｉｎｇＬＩＮＹｕｅｍｉｎｇＺＨＯＵＳｈａｎｙｕＨＵＯＹｕｎｓｈｅｎｇＷＡＮＧＹｕｚｈｕ（ＬａｂｏｒａｔｏｒｙｆｏｒＱ...  相似文献   

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