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本文报道了4.2~300K温度范围的富含Si的Si1-xGex合金的晶格振动红外透射光谱.实验首次观察到Ge杂质诱发的一个新的共振模吸收.结果还表明,直拉法生长的Si1-xGex合金存在严重的氧沾污,且氧的振动峰随温度的降低向高频方向移动. 相似文献
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