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1.
X射线衍射摇摆曲线的计算机模拟是一种获得材料晶体质量参量的有效方法,其中材料本征摇摆曲线的计算是计算机模拟的基础。用X射线动力学理论计算了Hg1-xCdxTe和Cd1-zZnzTe本征反射率曲线,并研究了组分、膜厚分别对本征反射率和半峰全宽的影响。结果表明Hg1-xCdxTe和Cd1-zZnzTe的本征反射率和半峰全宽与材料组分和厚度有明显的依赖关系,且该依赖关系取决于X射线在材料中的散射和吸收的相对强弱。薄膜的厚度也是直接影响本征摇摆曲线峰形、半峰全宽和反射率的重要因素,当薄膜厚度小于穿透深度时,表征本征反射率曲线的各个参量均与薄膜厚度有直接的关系。对于(333)衍射面,碲镉汞材料厚度大于7μm后,本征反射率和半峰全宽将不再发生明显变化。  相似文献   
2.
讨论了Hg1-xCdxTe外延薄膜的自由载流子吸收光谱,分析了外延层的纵向组分分布及Te沉淀物对吸收曲线的影响.结果表明,由于外延薄膜存在着纵向组分的不均匀性,其吸收特性与体材料有区别;对某些透过率较低的样品,则应考虑Te沉淀物对吸收的贡献  相似文献   
3.
采用切克劳斯基技术,观察了按不同晶向从熔态生长InSb单晶时固液界面的形貌。实验表明,结晶面上{111}小平面的发展和性质与单晶体的外形及孪晶的形成有着密切的关系,采用一个闪锌矿结构的{1ll}面八面协及双八面体模型能成功地解释各种实验现象。 关键词:  相似文献   
4.
讨论了Hg1-xCdxTe外延薄膜的自由载流子吸收光谱,分析了外延层的纵向组分分布及Te沉淀物对吸收曲线的影响.结果表明,由于外延薄膜存在着纵向组分的不均匀性,其吸收特性与体材料有区别;对某些透过率较低的样品,则应考虑Te沉淀物对吸收的贡献  相似文献   
5.
Hg_(1-x)Cd_xTe液相外延薄膜的质量与生长过程中的汞压有关。根据缔合溶液模型及相图理论,计算了汞压不平衡时液相点温度移动及组份的变化,并就液相外延的生长条件进行了分析。  相似文献   
6.
陈新强  张敬 《有机化学》2023,(8):2711-2719
伯醇来源广泛且廉价易得,是生产各种化学品,如农用化学品、食品添加剂、香料和药物等的重要化工原料.伯醇的脱羟甲基反应是一种利用伯醇制备少一个碳原子的碳氢化合物的方法,在生物质降解和药物合成等方面有着广泛的应用,引起了有机化学家的关注.根据反应类型综述了伯醇的脱羟甲基反应的发展,根据反应特点分为四个部分综述:过渡金属催化脱羟甲基转化为甲烷和水的反应、过渡金属催化脱羟甲基转化为一氧化碳和氢气的反应、过渡金属催化脱羟甲基转化为甲醛的反应、无过渡金属脱羟甲基转化为甲酸和水的反应.主要从反应体系、适用范围、反应机理等方面阐述了伯醇的脱羟甲基反应的研究进展.  相似文献   
7.
在取向不同的CdTe衬底上用液相外延技术生长了Hg1-xCdxTe薄膜,结合金相显微镜、红外显微镜、X射线双晶衍射、红外吸收及Raman光谱等手段分析了不同邻晶面外延层的性质,结果表明,在“近平面”(衬底偏角δ<0.1°)或“无台阶面”(δ≈1.2°)上生长的外延层的晶格质量及光学性能较好 关键词:  相似文献   
8.
本征反射率是X射线衍射摇摆曲线计算机模拟的基础。用X射线动力学理论研究了组分不均匀对HgCdTe材料X射线反射率的影响。研究结果表明,横向组分不均匀性直接影响摇摆曲线的峰形,峰值反射率和半峰全宽随组分不均匀的增大而分别减小和增大,且与组分不均匀性的均方差近似成指数关系,但其积分反射率却基本保持不变;采用多层模型对具有线性组分梯度的HgCdTe半导体材料反射率的计算结果则表明,纵向组分梯度除导致反射率峰值强度下降外,还会引起摇摆曲线产生单边干涉效应,摇摆曲线的半峰全宽和干涉峰间距随组分梯度的增加而增大,而干涉峰间距与干涉周期之间的关系则随组分梯度的增加其偏离线性的程度增大。  相似文献   
9.
借助于电学及质谱分析方法测定了掺Te,及未掺杂InSb晶体横截面上的杂质浓度分布。结果指出,杂质在小平面上具有明显的反常分凝现象,对于小平面效应的机制进行了讨论,并根据热力学理论给出了一个能满意解释实验结果的具体表式。 关键词:  相似文献   
10.
CdZnTe材料(111)B和(211)B面上位错腐蚀坑密度的差异   总被引:4,自引:1,他引:3  
用Everson腐蚀剂对CdZnTe晶体(111)B和(211)B面上的位错进行了腐蚀和观察,发现(111)B面上的腐蚀坑密度(EPD)值明显高于(211)B面上的EPD值,(111)B面上的EPD值与双晶衍射半峰宽有明显的依赖关系,(111)B面上的FWHM值随EPD的增加而增加.而(211)B面上的EPD则与材料的双晶衍射半峰宽无关.研究结果表明,用Everson腐蚀剂得到的EPD参数依赖于材料的晶体取向,在两种常用的晶体学取向中,(111)B面上得到的EPD能较为正确的反映CdZnTe材料中的位错密度.  相似文献   
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