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采用sol-gel法在Pt/TiO2/SiO2/p-Si(100)衬底上制备了Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)铁电薄膜,研究了在750 ℃时不同退火气压(pO2:10-4—3 atm)对薄膜微观结构和电学性能的影响.XRD和拉曼光谱结果表明在10-4和3 atm氧气压下退火
关键词:
3.25La0.75Ti3O12')" href="#">Bi3.25La0.75Ti3O12
铁电性能
sol-gel法
正交化度 相似文献
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采用脉冲激光沉积(PLD)工艺,制备了以Bi4Ti3O12(BIT)为过渡阻挡层的Au/PZT/BIT/p-Si异质结.研究了BIT铁电层对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜晶相结构、铁电及介电性能的影响,对Au/PZT/BIT/p-Si异质结的导电机制进行了讨论.氧气氛530℃淀积的PZT为多晶铁电薄膜,与直接淀积在Si基片上相比,加入BIT铁电层后PZT铁
关键词:
铁电薄膜
异质结构
脉冲激光沉积(PLD) 相似文献
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在铁掺杂的Tl-1223相中,铁对超导电性有明显的破坏作用,霍尔系数测量、热重分析和穆斯堡尔谱表明占据铜晶位的铁杂质原子不仅直接破坏CuO2面的完整性而使超导转变温度降低,更重要的是铁的掺入诱导了额外氧原子进入晶格,形成了对载流子的强局域束缚作用,致使载流子浓度随铁掺杂量呈线性下降.额外氧导致了与其近邻的铁和铜原子产生了偏离CuO2平面的位移,从而形成新的铁氧配位.针对额外氧缺陷精细结构的讨论,对研究额外氧和阳离子在CuO2平面上的无序排列 相似文献