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81.
对不同的本底真空条件下,采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术沉积的氢化微晶硅(μc_Si∶H)薄膜中的氧污染问题进行了比较研究.对不同氧污染条件下制备的薄膜样品的x射线光电子能谱与傅里叶变换红外吸收光谱测量结果表明:μc_Si∶H薄膜中,氧以Si—O,O—O和O—H三种不同的键合模式存在,不同的键合模式源自不同的物理机理.μc_Si∶H薄膜的Raman光谱、电导率与激活能的测量结果进一步显示:沉积过程中氧污染程度的不同,对μc_Si∶H薄膜的结构特性与电学特性产生显著影响;而不同氧污染对μc_Si∶H薄膜电学特性的影响不同于氢化非晶硅(a_Si:H)薄膜.
关键词:
氢化微晶硅薄膜
甚高频等离子体增强化学气相沉积
氧污染 相似文献
82.
在超高真空分子束外延(MBE)生长技术中,反射式高能电子衍射仪(RHEED)能实时显示半导体和金属外延生长过程,给出薄膜表面结构和平整度的信息,成为MBE必备的原位表面分 析仪.为了研究氧化物薄膜如高温超导(YBa2Cu3O7) 、铁电薄膜(Sr1-xBax TiO3)及它们的同质和异质外延结构的生长机理,获得高质量的符合各种应用 需要的氧化 物多层薄膜结构,在常规的制备氧化
关键词:
高温超导薄膜
RHEED 相似文献
83.
Morphology of Platinum Nanowire Array Electrodepostied Within Anodic Aluminium Oxide Template Characterized by Atomic Force Microscopy 下载免费PDF全文
KONGLing-Bin LUMei LIMeng-Ke GUOXin-Yong LIHu-Lin 《中国物理快报》2003,20(5):763-766
Unifrom platinum nanowires were synthesized by electrodepositing the platinum under a very low altering current frequency(20Hz) and increasing voltage(5-15V)in the proes of anodic aluminium oxide(AAO) template. Atomic force microscopy observation indicates that the template membranes we obtained have hexagonally clse-packed nanochannels.The platinum nanowires have highly ordered arrays after partially dissolving the aluminium oxide membrane.With the increasing dissolvoing time,the platinum nanowire array collapsed.A concave topography of the aluminium substrate was observed after the aluminium oxide membrane was dissolved completely and the platinum nanowires were released from the template.Platinum nanowires were also characterized by transmission electron microscopy and the phase structure of the Al/AAO/Pt composite was proven by x-ray diffraction. 相似文献
84.
86.
Deposition of Diamond-Like carbon Films by High-Intensity Pulsed Ion Beam Ablation at Various Substrate Temperatures 下载免费PDF全文
Diamond-like carbon (DLC) films have been deposited on to Si substrates at substrate temperatures from 255℃ to 400O℃ by a high-intensity pulsed-ion-beam (HIPIB) ablation deposition technique. The formation of DLC is confirmed by Raman spectroscopy. According to an x-ray photoelectron spectroscopy analysis, the concentration of sp^3 carbon in the films is about 40% when the substrate temperature is below 300℃ C. With increasing substratetemperature from 25℃ to 400℃, the concentration of sp^3 carbon decreases from 43% to 8%. In other words,sp3 carbon is graphitized into sp^2 carbon when the substrate temperature is above 300℃. The results of xray diffraction and atomic force microscopy show that, with increasing the substrate temperature, the surface roughness and the friction coefficient increase, and the microhardness and the residual stress of the films decrease. 相似文献
87.
Optical Properties of ZnFe2O4—SiO2 Granular Films Prepared by Radio—Frequency Magnetron Sputtering 下载免费PDF全文
We report on the optical properties of ZnFe2O4-SiO2 granular films prepared on quartz substrates by the radio-frequency magnetron sputtering method.Post-annealing was performed at different temperatures under flow oxygen atmosphere.The morphology and Structures of ZnFe2O4 nanoparticles were characterized by x-ray different line types in the optical absorption curves of ZnFe2O4-SiO2 granular films.The critical transition of line types occurs when ZnFe2O4 changes from amorphous to crystalline,and the transition temperature increases with the increasing content of ZnFe2O4.There is an obvious blueshift of the optical absorption edge of the granular films with the decreasing annealing temperature. 相似文献
88.
The experimental conditions for photoactivated intermittent fluorescence from nanoscale silver oxide were studied with fluorescence microscopy.Strong fluorescence was observed from the Ag2O particles with size of 10-20nm excited with both blue and green light .We observed the saturation of Photoexcitation with blue light and explained the experimental results using the model of agglomeration of silver atoms to form small clusters and the fluorescence of Ag2 and Ag3 clusters. 相似文献
89.
90.
采用MEVVA源(Metal Vapor Vacuum Arc Ion Source)离子注入合成β-FeSi2薄膜,用常规透射电镜和高分辨电镜研究了不同制备参数下β-FeSi2薄膜的显微结构变化. 研究结果表明:调整注入能量和剂量,可以得到厚度不同的β-FeSi2表面层和埋入层. 制备过程中生成的α,β,γ和CsCl型FeSi2相的相变顺序为γ-FeSi2→β-FeSi2→α-FeSi2,CsCl-FeSi2→β-FeSi2→α-FeSi2或β-FeSi2→α-FeSi2. 当注入参数增加到60kV,4×1017ions/cm2,就会导致非晶的形成,非晶在退火后会晶化为β-FeSi2相,相变顺序就变为非晶→β-FeSi2→α-FeSi2. 随退火温度逐渐升高硅化物颗粒逐渐长大,并向基体内部生长,在一定的退火温度下硅化物层会收缩断裂为一个个小岛状,使得硅化物/硅界面平整度下降. 另外,对于β-FeSi2/Si界面取向关系的研究表明,在Si基体上难以形成高质量β-FeSi2薄膜的原因在于多种非共格取向关系的并存、孪晶的形成以及由此导致的界面缺陷的形成. 相似文献