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自从80年代金刚石薄膜的低压化学汽相淀积获得成功以来,人们对用金刚石薄膜制作高温、高速和大功率器件产生了浓厚的兴趣,因为金刚石的禁带宽,载流子迁移率高,同时具有优异的热学、光学和力学性质.本文对金刚石的电子学特征和金刚石器件的研制现伏作了评述,对发展金刚石器件的若干问题特别是金刚石薄膜的n型掺杂、金刚石膜的异质外延和降低缺陷浓度等作了分析和讨论.金刚石薄膜是一种潜在的新型半导体材料,但要实现器件应用尚需作大量的材料研究. 相似文献
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高硼掺杂金刚石膜电极的电化学应用研究 总被引:1,自引:0,他引:1
概述了高硼掺杂金刚石膜电极的电化学研究的最新进展,介绍了高硼掺杂金刚石膜电极的制备,金刚石膜电极在水介质中的电化学行为,金刚石膜电极在废水处理,微量有机化合物成分探测和蜂窝状金刚石电极双电层电容器方面的应用。 相似文献
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具有广阔应用前景的纳米金刚石膜 总被引:11,自引:1,他引:10
纳米金刚石膜的制备、表征和应用研究已经成为CVD金刚石膜研究领域的一个新的热点.文章重点介绍了Gruen等人在贫氢和无氢环境中制备纳米金刚石膜的开创性工作,并和在富氢气氛中制备的纳米金刚石膜进行了对比评述.对纳米金刚石膜的表征技术和应用前景进行了讨论. 相似文献
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本文报道了在同一直流电弧等离子体射流CVD装置上,采用不同的沉积条件高速合成金刚石,类金刚石,高取向热解石墨以及无定形碳等四种碳膜。经X射线衍射(XRD),拉曼散射谱(Raman),扫描电镜(SEM)形貌分析以及显微硬度测试表明,该方法制得的金刚石膜和高取向热解石墨膜具有很高的纯度和良好的晶性,类金刚石具有独特的形貌和Raman散射特征以及可与金刚石膜比拟的硬度。 相似文献
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介绍了一种新型THz辐射源和它在电子学与光电子学方面的应用。THz脉冲电磁辐射已成为研究电子学、准光学和光电子学的有力工具。该技术可用于研究物理学、电子工程、化学以及生物学等领域中的瞬态现象。 相似文献
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激光技术的一种特殊应用--镀类金刚石膜的探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
讨论了类金刚石膜的特性及应用,介绍了激光镀膜系统的结构原理.探讨了激光镀类金刚石膜的特点及金刚石膜生成工艺中的关键问题及解决途径. 相似文献
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利用非平衡磁控溅射物理气相沉积技术制备了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜.分析沉积工艺参数对所得类金刚石薄膜的电学特性的影响以及溅射粒子的大小、能量、碰撞及沉积过程中的相变机理后认为:溅射粒子越小、与环境气体分子的碰撞次数越多、与衬底相互作用时具有适当动量等,能够有效提高薄膜中sp3杂化碳原子的含量.利用拉曼光谱 、纳米力学探针、红外光谱、扫描电镜等分析了所得类金刚石膜的结构、力学及光学性能、 表面形貌等特征.结果表明,类金刚石膜中sp3杂化碳原子的含量较高,显微硬 度大于11GPa,薄膜光学透过率达到89.4%,折射系数为1.952,沉积速率为0.724μm/h,表 面光滑、致密、均匀,不存在明显的晶粒特征.
关键词:
非平衡磁控溅射
类金刚石膜
拉曼光谱
红外光谱 相似文献
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采用脉冲激光沉积技术制备出无氢钨掺杂非晶态类金刚石膜.膜中的钨含量与靶材中的钨含量保持稳定的线性关系,显示了脉冲激光沉积在难熔金属掺杂技术方面的亮点.由于碳-钨结构的形成和表面粗糙度影响,膜层的干摩擦系数随着钨含量的增加显现出先减后增的趋势,钨含量为9.67 at.%时达到最低值0.091.钨含量的增大降低了类金刚石膜纳米硬度和杨氏模量,但最佳的膜层耐磨性参数并非表现在硬度最大(52.2 GPa)的纯类金刚石膜中,而是出现在低掺杂含量(6.28 at.%)的类金刚石膜中.研究为脉冲激光沉积技术制备低摩擦、高硬度无氢钨掺杂类金刚石膜的应用提供了技术实践. 相似文献
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张天行李钱陶何光宗熊长新 《光学与光电技术》2015,(3):50-53
硫化锌在3~5μm和7.7~9.3μm两个波段具有较高透过率,但其脆性大、耐摩擦性能较差,在其表面镀制类金刚石膜保护膜可显著提高其使用性能。直接在硫化锌基底沉积类金刚石膜难以实现,采用匹配层与过渡层的设计思想,制备出类金刚石膜与硫化锌基底之间相互牢固结合的过渡层。通过等离子体化学气相增强法在过渡层上成功制备类金刚石膜。研究了射频功率、气压等对保护膜系力学性能的影响。结果表明,镀制了硬质保护薄膜的硫化锌窗口在3~5μm和7.7~9.3μm双波段的平均透过率均高于90%,膜层硬度为硫化锌窗口近5倍。经环境试验之后,膜层光学性能与机械性能均无变化。 相似文献
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微波等离子体化学气相沉积金刚石膜 总被引:7,自引:0,他引:7
微波等离子体化学气相沉积是制备金刚石膜的一个重要方法,能制备出表面光滑平整的大面积均匀金刚石膜,文章概述了MPCVD制备金刚石膜的情况,介绍了MPCVD制备金刚石膜装置的典型类型及其特点,在国内研制成功天线耦合石英钟罩式MPCVD制备金刚石膜装置,并在硅片上沉积出大面积均匀的优质金刚石膜。 相似文献
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LB膜的物理性能与应用 总被引:2,自引:0,他引:2
LB膜是一种分子有序排列的有机超薄膜,这种膜不仅是薄膜科学研究的重要内容,也是物理学,电子学,生物学等多种学科相互交叉渗透的新的研究领域,为近年来国内外研究的热点之一,本文对LB膜的发展历史,基本要领组装制备,物理特性及栽些应用作了全面扼要的介绍。 相似文献
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应用微波等离子体化学气相沉积技术, 在低气压下对(100)晶面金刚石膜的表面形貌、质量、取向和生长率进行了可控性生长研究. 结果表明: 基片温度与甲烷浓度对(100)晶面金刚石膜的生长存在耦合规律. 为了获得表面形貌相似的(100)晶面金刚石膜, 在沉积过程中, 增加碳源浓度的同时需要同时升高基片温度; 当甲烷浓度为3.0%, 基片温度从740 ℃上升至1100 ℃ 的过程中, 金刚石膜的晶面取向变化可分为五个阶段, 其中当基片温度在860 ℃至930 ℃时, 很适合高取向(100)晶面金刚石膜生长; 另外, 金刚石膜的质量和生长速率分别与基片温度和甲烷浓度成正比. 为了获得高质量高取向(100)晶面金刚石膜, 应当选择合适的基片温度和甲烷浓度. 相似文献
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利用微波ECR全方位离子注入技术,在单晶硅(100)衬底上制备类金刚石薄膜.分析结果表明,所制备的类金刚石碳膜具有典型的类金刚石结构特征,薄膜均匀、致密,表面粗糙度小,摩擦系数小.其中,薄膜的结构和性能与氢流量比关系密切,随氢流量比的增加,薄膜的沉积速率减小,表面粗糙度降低,且生成sp3键更加趋向于金刚石结构,表面能 更低,从而使摩擦系数大幅降低.
关键词:
全方位离子注入
类金刚石碳膜
拉曼光谱
摩擦磨损 相似文献