软X射线多层膜及多层膜光栅的研究进展

对目前的几种软Ｘ射线光学元件的性能作了简要的阐述和分析。综合介绍了多层膜作为软Ｘ射线光学元件的新进展。同时对多层膜光栅这种新型软Ｘ射线光学元件的原理、性能、制作工艺进行了详细的说明。     

软X射线多层膜的应用及发展

文章主要介绍了近十年来软Ｘ射线多层反射发展现状以扩制备过程中的技术难点，介绍了软Ｘ射线多层膜在软Ｘ射线光学中的的些应用。     

软X射线多层膜色散元件

介绍研制软Ｘ射线多层膜色散元件的初步结果，结合Ｍ０／Ｓ１、Ｓ／Ｓ１色散元件的研制实例，讨论了包括设计、性能模拟计算、镀膜工艺、检测等在内的制备过程，这些元件将在Ｘ射线光学和Ｘ射线光谱学的有关研究工作中得到应用。     

光电子学与光电子产业专题系列介绍：用于X射线光学的多层膜

用于Ｘ射线，特别是软Ｘ射线（波长范围约为３０－１ｎｍ）光学中的多层膜近十年来引起了人们的广泛重视，取得了许多重要进展．本文对这类多层膜的特点、制备和检测方法以及应用等作简要介绍．     

北京同步辐射装置软X射线光学实验站进展

简单介绍了ＢＳＲＦ软Ｘ射光学实验反射率计装置，并给出了近年来本组在软Ｘ射线多层膜方面的研究结果。     

无碎屑激光等离子体软X射线源的研究及应用前景

分析了常规金属靶激光等离子体源产生固体碎屑的原因及其对软Ｘ射线光学元件的危害，介绍了近年来发展起来的无碎屑激光等离子体软Ｘ射线源，归纳了无碎屑激光等离子体软Ｘ射线源的几种形式和特点，并且描述了这种新型光源在软Ｘ射线显微术及光刻术中的应用．     

表面粗糙度对软X射线多层膜光学特性的影响

从理论和实验结果两方面探讨了基底表面和多层膜膜面的均方根粗糙度对软Ｘ射线多层膜的光学特性的影响。指出了分析表面粗糙度最合适的方法和对表面粗糙度的着重研究方向。     

制备长波段X射线多层膜的新方法

叙述用离子束溅射镀膜机OXFORD进行X射线长波段多层膜实验及制备X射线多层膜光学元件方面的工作。简述离子束油射镀膜机的工作原理,X射线多层膜的制备过程,主要工艺参数,以及用X射线小角衍射仪对制备样品周期结构的检测和用软X射线反射率计测反射率的部分结果。     

基于多层膜偏振元件的同步辐射光束线偏振特性测量研究

利用自行研制的同步辐射软X射线多层膜综合偏振测量装置, 对北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线的偏振特性进行了系统的研究. 给出了多层膜偏振元件起偏前后的测量结果, 测量能量为206eV时, 经反射镜、光栅等光束线光学元件后输出的线偏振度(起偏前)为0.585, 经多层膜偏振元件起偏后输出光的 线偏振度达到0.995.     

软X射线Bragg-Fresnel二维聚焦镜的设计理论和方法

Ｘ射线Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件是近十年发展起来的一种用于Ｘ射线波段的新型光学元件。本文介绍一种具有二维聚焦效能的Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件的设计理论和方法。设计中采用衍射理论并用Ｃ语言编制计算机程序系统对衍射图形进行设计。对于使用波长１３．８ｎｍ，入射角５°，使用焦距２００ｍｍ的使用条件，设计结果为３５Ｍｏ／Ｓｉ双层多层膜，周期厚度７．１４ｎｍ，理论反射率约为６０％；衍射图形共４００个环带，最内环半宽度５２．５μｍ，最外环宽度１．３μｍ。     

0.154nmCu Ka射线作用下多层膜矩形光栅组合结构的特性研究

在矩形不栅上镀制软Ｘ射线多层膜，得到了多层膜光栅组合式结构，报道用ＣｕＫａ线小角度对多层膜光栅的衍射特性研究结果。用Ｘ射线运动学理论进行了分析，得到两个衍射条件，分别对应决定衍射角的光栅方程和决定多层膜峰值的布拉格定理，发现光栅级效率受多层膜反射调制。     

软X射线多层膜反射式偏振光学元件设计

叙述了软X射线波段反射式多层膜起偏器和检偏器的设计原则和设计方法,计算了不同波段软X射线反射式多层膜起偏器和检偏器的性能,讨论了多层膜制作过程中,表界面误差(表面粗糙度和扩散)对起偏器和检偏器性能的影响,探讨了光谱分辨率对偏振元件测试过程的影响,这些设计、计算和分析为制作实用软X射线多层膜偏振光学元件提供了理论基础。     

正入射Mo/B_4C软X射线多层膜

采用Ｍｏ／Ｂ４Ｃ材料在短波长波段（λ＜１０．０ｎｍ）进行软Ｘ射线多层膜实验研究。在指定波长（８．０ｎｍ附近）处对多层膜进行结构设计，并制备出了周期结构准确的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ多层膜样品。     

X射线光学进展

Ｘ射线光学的发展，有利于Ｘ射线分析技术的进一步发展，进而提高人们的认识水平。本从Ｘ射线光源、光学元件和应用领域几方面来概述Ｘ射线光学的最新进展。     

研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟

在特定波长下,用四层结构模型模拟了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dMo-on-Si和dSi-on-Mo对Mo/Si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害Mo/Si多层膜的光学性能,通过合理设计dMo-on-Si和dSi-on-Mo厚度,增加dMo-on-Si与dSi-on-Mo的比值,也能提高多层膜的软X射线反射率.     

0．154nmCuKα射线作用下多层膜矩形光栅组合结构的特性研究

在矩形光栅上镀制软Ｘ射线多层膜，得到多层膜光栅组合式结构。报道用ＣｕＫα线小角度对多层膜光栅的衍射特性研究结果。用Ｘ射线运动学理论进行了理论分析，得到两个衍射条件，分别对应于决定衍射角的光栅方程和决定多层膜峰值的布拉格定理，发现光栅级效率受多层膜反射调制。对镜面反射扫描、样品扫描、探测器扫描不同情况下各衍射峰峰位和强度的实验值和理论进行了比较，两者符合得很好。     

多层膜优化设计方法

传统多层膜设计所用的全局寻优法的速度非常慢，有时还很难得到理想的膜系。根据Frensnel反射系数公式计算多层膜的反射率，利用单纯形法对软X射线和X射线波段多层膜进行调优，可在短时间内优化出最接近目标光学性能的多层膜膜系结构。计算了不同波长软X射线周期性多层膜的最高理论反射率。单纯形调优算法在保证优化结果与随机搜索法优化结果近似相同的基础上，使优化计算速度提高了十倍以上。同时还用单纯形调优法优化设计了X射线超反射镜，得到了非常理想的非周期膜系。     

正放射Mo／B4C软X射线多层膜

采用Ｍｏ／Ｂ４Ｃ材料在短波长波段进行软Ｘ射线多层膜实验研究。在指定波长处对多层膜进行结构设计，并制备出了周期结构的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ多怪膜样品。     

软X光多层膜位相型矩形光栅的实验研究及其光学特性

详细给出了软Ｘ光多层膜位相型矩形光栅的实验，分析测试结果以及在北京国家同步辐射实验室测得的光学衍射特性，并进行了分析。     

用网格衰减膜相对标定SIOFM─5FW软X光底片

点聚焦激光等离子体发出的Ｘ射线经晶体色散形成均匀的单色Ｘ射线源，在此基础上，用单层网格作为衰减膜，得到未经衰减和经过衰减的Ｘ射线谱，对无保护膜ＳＩＯＦＭ５ＦＷ软Ｘ光底片作了试验性的相对标定，得到了０．９１ｎｍ波长的特性曲线