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21.
22.
在(2+1)维情况下,利用数值模拟研究了Kuramoto-Sivashinsky (K-S)与Karda-Parisi-Z hang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程.结果表明,KPZ与K-S模型都表现出明 显的时间和空间标度特性.相对于KPZ模型而言,K-S模型所对应的表面具有更明显的颗粒特 征,当生长时间较长时,生长界面呈现蜂窝状结构.通过数值相关分析得到了生长界面的粗 糙度指数、生长指数和动态标度指数等参数.从两种模型对应的表面形貌特征和表面参数来 看,在(2+1)维情况下,KPZ与K-S模型所决定的表面具有完全不同的动态标度行为,属于不 同的两类物理模型.
关键词:
Kuramoto-Sivashinsky (K-S)模型
Karda-Parisi-Zhang(KPZ)模型
分形
数值模拟 相似文献
23.
A series of Mo/Si multilayers with the same periodic length and different periodic number were prepared by magnetron sputtering, whose top layers were respectively Mo layer and Si layer. Periodic length and interface roughness of Mo/Si multilayers were determined by small angle X-ray diffraction (SAXRD). Surface roughness change curve of Mo/Si multilayer with increasing layer number was studied by atomic force microscope (AFM). Soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers was measured in National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL). Theoretical and experimental results show that the soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayer is mainly determined by periodic number and interface roughness, surface roughness has little effect on reflectivity. 相似文献
24.
Two problems of half-wave hole and high ripples in the transmittance region for a harmonic beam splitter had been pointed out and analyzed. Based on the application of a half-wavelength control and a new admittance matching methods, a harmonic beam splitter was designed and fabricated. The former method eliminated the half-wave hole fundamentally, and the latter smoothed high ripples in the transmittance region effectively. The matching stack consisted of a symmetrically periodic structure and provided a complete matching at the desired wavelength, i.e., both conditions for the equivalent admittance and phase thickness were fulfilled. Furthermore, both the theoretical and the tested curves had been given, and a good agreement between them was obtained. 相似文献
25.
26.
利用光热偏转技术实施光学薄膜弱吸收的多波长测量 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了光热表面形变光束偏转技术用于测量光学薄膜弱吸收的基本原理,简述多波长吸收测量装置的建立和测试过程,最后给出简单的测量实例. 相似文献
27.
研究了磁控溅射制备的Ag5In5Te47Sb33相变薄膜的光谱及短波长静态记录性能。研究结果表明,晶态薄膜反射率较高,并在600~900nm波长范围内,晶态与非晶态的反射率和折射率相差很大。在CD-E系统的工作波长780nm处,晶态反射率高达50%,光学常数为5.34-1.0i;非晶态反射率为23%,光学常数为2.5-1.03i。从这一角度讲,Ag5In5Te47Sb33相变薄膜适于做CD-E系统的记录介质。另外,采用波长为514.4nm的短波长光学静态记录测试仪对Ag5In5Te47Sb33薄膜的记录性能进行了测试,结果表明,这种薄膜短波长记录性能较好,它在较低功率和短脉宽的激光束作用下就可得到较高的反射率对比度。 相似文献
28.
c轴定向氮化铝薄膜的制备 总被引:3,自引:0,他引:3
利用电子回旋共振 (ECR)微波增强化学气相沉积法 (PECVD)并使用氮气 (N2 ) ,氩气 (Ar)和AlCl3蒸气作为气源在直径为 6 .35cm的 (10 0 )单晶硅片表面制备了c轴定向氮化铝 (AlN)薄膜 ,并使用X射线衍射仪及其X射线特征能谱和扫描电镜 (SEM)分析了薄膜特征 ,研究了微波功率、基板温度和N2 流量对薄膜c轴定向的影响 ,得到了c轴偏差角小于 5°的高质量大面积AlN薄膜。 相似文献
29.
30.
光学薄膜厚度的均匀性 总被引:2,自引:0,他引:2
<正> 光学薄膜厚度的均匀性,是薄膜制备技术中最重要的问题之一。这是因为,光学薄膜的性质,在很大程度上取决于它的厚度。在工作范围内薄膜厚度没有足够的均匀性,就无法获得优质的光学薄膜。有关膜厚分布问题, 相似文献