用表面热透镜技术测量1315nm高反射硅镜弱吸收的研究

运用表面热透镜技术精确测量了1315nm高反射硅镜的弱吸收，判断引起吸收的原因，从而为工艺上减少吸收降低损耗提供了保证。     

Laser-conditioning mechanism of ZrO_2/SiO_2 HR films with fitting damage probability curves of laser-induced damage

<正>The method of fitting damage probability curves of laser-induced damage is introduced to investigate the laser-conditioning mechanism of ZrO_2/SiO_2 high reflection(HR) films.The laser-induced damage thresholds(LIDTs) of the sample are tested before and after the laser-conditioning scanning process.The parameters of the defects are obtained through the fitting process of the damage probability curve.It can be concluded that the roles of laser conditioning include two aspects:removing defects with lower threshold and producing new defects with higher threshold.The effect of laser conditioning is dependent on the competition of these two aspects.     

低损耗193 nm增透膜

计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底材料的吸收损耗对增透膜元件的影响很大,超过一定值时,增透膜元件的设计透过率将达不到理想水平.对单面增透膜的设计与制备结果表明,当吸收损耗降低到一定程度,散射损耗成为不可忽略的因素.采用热舟蒸发方法实现了性能良好的193 nm减反射膜,剩余反射率在0.2%以下. 关键词： 193nm 增透膜 光学损耗 剩余反射率     

单脉冲飞秒脉冲激光对单层和高反光学薄膜的损伤

用电子束蒸发的方法在BK7玻璃上制备了ZrO2单层膜和ZrO2/SiO2高反膜,利用掺Ti:sapphire飞秒激光系统输出的中心波长为800 nm,脉宽为50 fs的激光脉冲对这两种样品进行了激光损伤阈值测试.实验结果表明,ZrO2单层膜的阈值比ZrO2/SiO2高反膜的高;这与传统的纳秒脉冲激光的损伤情况相反.利用光离化和碰撞离化激发电子到导带,形成电子等离子体基本模型并对此现象进行了解释.同时,用显微镜对样品的损伤形貌进行了观测,对损伤的特点进行了表征.     

离子束清洗在激光薄膜中的应用

介绍了在激光薄膜中End Hall型离子源离子束清洗的应用。通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化。研究了用离子束清洗基片时对薄膜抗激光损伤阈值的作用。分析了用离子束清洗基片时其基片表面的性质,如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理。指出了杂质微粒的去除和附着力的增加是如何使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的。     

倾斜入射时偏振分束棱镜的角宽压缩效应

从理论上计算了由于光束倾斜入射产生的棱镜起偏系统角谱宽度的压缩效应,计算结果表明,入射光束相对于棱镜入射面的入射角越大对角谱宽度的压缩就越明显,不同材料的基底折射率的差别对角谱宽度的压缩影响不大。通过举例从膜系设计的角度进一步论证了这一结论。还指明在实际系统中可以保持入射光束的相对角度不变的情况下,通过改变棱镜的形状来达到倾斜入射的目的从而实现角谱宽度的压缩。对如何设计出高性能的宽角宽光谱偏振分束镜具有重大的指导意义。     

飞秒脉冲激光器中色散补偿膜的设计

阐述了用光学薄膜进行色散补偿的基本原理, 介绍了设计的基本过程. 根据Ti∶Sapphire飞秒激光器中腔内色散补偿的要求, 设定了色散补偿目标, 通过计算机优化, 得到了一种40层的Ta2O5/SiO2介质膜系. 该膜系能在720~870 nm范围获得大于99.5%的反射率, 在510~550 nm获得大于90%的透射率, 在740~850 nm提供较平滑的－40 fs2的群延迟色散. 这样的结果经过7次反射后, 可以补偿5-mm Ti∶sapphire晶体产生的绝大部分群延迟色散.     

吸收杂质热辐射诱导光学薄膜破坏的热力机制

光学元件的破坏是限制高功率激光系统发展的主要问题,理解光学元件的破坏机制对于高功率激光系统的设计、运行参量选择以及器件技术发展有重要影响.以热辐射模型为基础研究了杂质吸收诱导光学薄膜破坏的热力过程.研究发现薄膜发生初始破坏所需时间很短,脉冲的大部分时间是引起薄膜发生更大的破坏.在考虑吸收杂质发生相变的情况下,计算了吸收杂质汽化对薄膜产生的蒸汽压力,论证了薄膜发生宏观破坏的可能性.此模型能很好地解释光学薄膜的平底坑破坏形貌.     

Design of internal Brewster guided-mode resonance filter

An internal Brewster guided-mode resonance （GMR） filter is designed. For this kind of GMR filter, the Brewster reflection occurs at the interface of grating/waveguide layers rather than at the interface of air/grating layers. At Brewster angle of 60~, the GMR filter owns almost 100% reflection at the resonance wavelength of 800 nm with the full-width at half-maximum （FWHM） of 0.2 nm. Its angle response changing with the fabrication deviation is also discussed.     

缓冲层对LBO晶体上1 064 nm，532 nm增透膜附着力的影响

 采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1 064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明：所有样品在1 064 nm和532 nm波长的剩余反射率都分别小于0.1％和0.2％;与无缓冲层样品相比,预镀Al₂O₃缓冲层样品的附着力提高了43.1％,具有SiO₂缓冲层样品的附着力显著提高,而MgF₂缓冲层的插入却导致薄膜附着力降低。应用全塑性压痕理论和剪切理论对薄膜的附着力增强机制进行了分析。薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO₂缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值。