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11.
Thermal characteristics of multiple laser stripes integrated into one chip is investigated theoretically in this paper. The temperature pattern of the laser diode mini-array packaged in a TO-can is analyzed and optimized to achieve a uniform temperature distribution among the laser stripes and along the cavity direction. The temperature among the laser stripes varies by more than 5 K if the stripes are equally arranged, and can be reduced to less than 0.4 K if proper arrangement is designed. For conventional submount structure, the temperature variation along the cavity direction is as high as 7 K, while for an optimized trapezoid submount structure, the temperature varies only within 0.5 K. 相似文献
12.
13.
14.
在石英管流化床反应器中对胜利褐煤进行快速热解实验,考察了773~1 173 K下酸洗脱矿对胜利褐煤热解过程中N迁移转化规律的影响。通过比较原煤和酸洗后煤中N的不同逸出规律可以得出,影响酸洗前后胜利褐煤热解过程中N迁移转化规律的主要是碱金属Na及碱土金属Ca;热解过程中,煤中的Na和Ca促使煤中的N向NH3转化并有效抑制了HCN的生成,金属离子的存在对催化焦油N转化为NH3的作用较为明显;原煤中的碱金属和碱土金属的赋存使半焦裂解反应加剧,降低了固体半焦的产率,半焦N的产率也随之减少;与原煤相比,酸洗煤热解半焦中的吡啶型N(N-6)含量较多,而吡咯型N(N-5)和季N(N-Q)相对较少。 相似文献
15.
16.
17.
在稳流条件下,考察了KNO3体系中离子液体辅助煤浆电解脱硫效果.研究了煤浆电解过程中离子液体结构、浓度、温度和时间对脱硫率的影响.当咪唑类离子液体有机结构相同时,不同阴离子脱硫率由高到低顺序为:Br- >BF4- >Cl-;当阴离子同为Br-时,咪唑脱硫效果优于吡啶.随着吡啶类离子液体([BPy]Br)浓度增加,脱硫率先增加,在0.3 mol/L处达到最大值,而后下降.此外,脱硫率随温度和时间增加而增大.最后,通过X射线光电子能谱(XPS)分析技术对实验前后煤中有机硫形态进行了分析.结果表明,噻吩主要通过萃取-氧化反应脱除,而其他形式有机硫(如硫醚、亚砜)则主要通过促进氧化及水解反应脱除. 相似文献
18.
A voltammetric enzyme-linked immunoassay based on a new system of ODA-H2O2-HRP has first been developed and used in the detection of HRP and labelled HRP. By this method, the enzyme-catalyzing reaction of H2O2 oxidizing odianisidine (ODA) couples the electrode-reduction reaction of the oxidizing product of odianisidine, which produces a sensitive polarographic wave at potential of -0.56V (SCE) in Britton-Robinson buffer solution. In using this polarographic wave, a detection limit to HRP is 3.7×10-12g/mL and a linear range 1.0×10-11-2.0×10-9g/mL. And the mechanisms of the coupling reaction and the process of electro-reduction in the ODA-H2O2-HRP voltammetric enzyme-linked immunoassay system have also been carefully studied. 相似文献
19.
20.
Influence of AlN buffer layer thickness on structural properties of GaN epilayer grown on Si (111) substrate with AlGaN interlayer 下载免费PDF全文
We present the growth of GaN epilayer on Si (111)
substrate with a single AlGaN interlayer sandwiched between the GaN
epilayer and AlN buffer layer by using the metalorganic chemical
vapour deposition. The influence of the AlN buffer layer thickness
on structural properties of the GaN epilayer has been investigated
by scanning electron microscopy, atomic force microscopy, optical
microscopy and high-resolution x-ray diffraction. It is found that
an AlN buffer layer with the appropriate thickness plays an important
role in increasing compressive strain and improving crystal quality
during the growth of AlGaN interlayer, which can introduce a more
compressive strain into the subsequent grown GaN layer, and
reduce the crack density and threading dislocation density in GaN
film. 相似文献