单晶硅晶格间距的测量技术进展及应用

单晶硅晶格间距是许多重要物理常数测量的基础。本文介绍了硅晶格间距测量技术的发展历程,包括X射线干涉仪直接测量和晶格比较仪间接测量两种方法,以及影响测量结果不确定度的关键因素。得益于晶格间距测量的进展,在纳米尺度,硅晶格间距被国际计量局(BIPM)批准成为新的米定义复现形式。最后介绍了硅晶格在计量学中的应用,以及基于硅晶格实现纳米几何量测量的溯源体系的研究趋势。     

钙钛矿型Sr_（1－x）Bi_xFeO_（3－y）系列物的结构、电性及铁氧化态研究

在１１００℃制备了钙钛矿型非计量系列物Ｓｒ_（１－ｘ）Ｂｉ_ｘＦｅＯ_（３－ｙ），与文献相比，明显具有温度低、时间短、能耗少的特点。用化学分析方法测得其化学式及Ｆｅ离子的平均价态，用ＸＲＤ、交流阻抗、ＩＲ、Ｍｏｓｓｂａｕｅｒ谱等方法研究了其结构与性质，该类化合物具有Ｐｍ３ｍ对称性和半导体性质，铁离子会产生电荷歧化现象。     

一般回归模型中的U统计量

本文考虑一般回归模型中回归系数的方向的估计问题。一般回归模型的定义中,应变量y在自变量x给定之下的分布只依赖于x之分量的线性组合。这个线性组合的系数向量β就是回归系数向量。一般回归模型是通常线性模型的推广。本文中,我们构造了一个U统计量作为β之方向的估计。在适当的光滑性条件下,本文证明了该U统计量作为β的方向的估计具有相合性与渐近正态性。     

采用多元化的教学手段,提高物理人才的综合素质——南开大学物理学基础科学人才培养基地建设经验介绍

介绍了南开大学国家物理学基础科学研究人才培养基地在十多年的建设中,通过多元化的教学手段提高学生的学习自主性,通过加强科研训练提高物理人才综合素质的经验和取得的成果.     

可变抽样区间的非参数控制图

最近几年一些学者研究了可变抽样区间的质量控制图。Amin等提出了可变抽样区间(VSI)的非参数控制图———符号 (Sign)统计量图〔1〕。本文在此基础上研究位置VSI符号控制图的制定方法 ,并设计离散VSI符号控制图。符号控制图的优点是对非正态总体亦可应用 ,并且不需要过程方差的信息。本文将所设计的VSI符号控制图同固定抽样区间 (FSI)的常规图作比较 ,并举实例说明符号控制图的应用     

多媒体教学手段的不断改进

针对多媒体教学手段存在的问题及如何改进所进行的思考和实践。     

光电子技术在205所40年的发展

扼要介绍205所自1962年以来在各个发展阶段的主要技术定向及科研任务。着重论述光电子系统总体技术、微光夜视技术、光纤技术及光电计量测试技术的发展状况、研究成果及应用前景．阐述205所在我国光学领域各个主要方面所处的领先地位及科研能力，分析、论证光电子技术在现代兵器中的重要作用及205所在新形势下的努力方向和发展前景。     

光辐射计量测试技术

简要介绍国外光辐射计量采用的主要方法、测试手段和发展趋势。为了满足国防系统对光辐射计量的需要建立了一批计量标难，解决了光辐射源辐射特性和探测器特性计量测试问题。