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71.
研究考虑热应变的柔性并联空间机械臂动力学性态。用Jourdain速度变分原理建立各机械臂的动力学变分方程,在此基础上根据各物体之间的运动学约束关系,建立柔性多体系统的微分代数混合动力学方程。数值仿真结果表明,当温度升高时,机械臂的轴向约束力和中心刚体的质心运动速度均出现显著振荡,而适当减小温度变化率,可以有效地控制振幅。 相似文献
72.
热/机械载荷下功能梯度材料矩形厚板的弯曲行为 总被引:5,自引:2,他引:5
采用Reddy高阶剪切板理论,考虑材料物性参数随坐标和温度变化的特性,研究在均匀变化的温度场内功能梯度材料矩形板在面内与横向载荷共同作用下的横向弯曲问题,基于一维DQ法和Galerkin技术,给出了一对边固支,另对边任意约束时板弯曲问题的半解析解,以Si3N4/SUS304板为例考察了材料组份,温度场,面内载荷及边界约束条件等对功能梯度材料板弯曲行为的影响。 相似文献
73.
一类强非线性机械基础系统的亚谐振动解析解 总被引:3,自引:0,他引:3
建立了机械基础动力系统的强非线性动力学模型,利用能量法对该系统的周期解进行了解析研究,确定了系统动态参数满足周期解的条件、系统的周期解以及解的稳定性判别式。发现了亚谐振动,并给出了系统在满足周期解条件下的一组参数对应的主振动、1/3亚谐振动和1/5亚谐振动。最后利用数值积分方法计算了系统在给定条件下的主振动及亚谐振动解,考察了解析解的正确性。 相似文献
74.
国外微机械惯性仪表的进展 总被引:3,自引:1,他引:3
高钟毓 《中国惯性技术学报》1996,(1)
本文综述了国外微机械惯性仪表的进展;分别介绍了微硅型加速度计、微硅型陀螺仪、多功能加速度计陀螺以及微惯性测量单元的原理、结构、电路组成及性能指标;初步探讨了这类仪表的应用前景和技术发展的途径。 相似文献
75.
76.
本文利用边界元方法,通过krichhoff变换将描述叶栅流动的控制方程转换成线性方程。并将广义k-J条件与边界积分方程联立求解,避免了非线性项和叶片出气角的迭代计算。完成了一种快速求解任意迥转面叶栅流场的计算程序,实用表明与其它数值方法及实验结果符合较好,具有快带、简明、实用的特点。 相似文献
77.
研究在热载及拉伸共同作用下,光纤传感器涂层的材料特性和厚度变化对光纤-涂层-基体基体性能的影响,分析表明在埋入式光纤附近的应力集中涂层的特性有关。在热应力和机械应力共同作用下,对于给定的基体材料和裸光纤,存在可减少基体,涂层与裸光纤之间或裸光纤中应力集中的涂层性能和尺寸的最优组合。 相似文献
78.
采用机械剥离石墨烯修饰电极快速检测食品接触材料中双酚A的迁移量。X射线电子衍射表征显示机械剥离石墨烯表面不存在含氧官能团,与化学还原石墨烯相比,机械剥离石墨烯对双酚A具有更好的电催化性能,降低了双酚A的氧化过电位,提高了电流响应。在优化的试验条件下,双酚A的浓度在1.0×10-7~1.5×10-5mol·L-1范围内与氧化峰电流呈线性关系,检出限(3S/N)为3.0×10-8mol·L-1。采用该电极对食品模拟物中的双酚A进行检测,加标回收率在85.1%~104%之间,测定值的相对标准偏差(n=6)在2.7%~5.9%之间。 相似文献
79.
80.
半导体芯片化学机械抛光过程中材料去除机理研究进展 总被引:8,自引:7,他引:8
就国内外关于集成电路芯片化学机械抛光(CMP)材料去除机理研究的现状和进展进行了评述,总结了集成电路芯片常用介电材料二氧化硅以及导电互连材料钨、铝及铜的化学机械抛光研究现状和进展,进而分析了化学机械抛光过程中化学作用同机械作用的协同效应,指出关于芯片化学机械抛光的材料去除机理尚存在争议,因此有必要在CMP研究领域引入原子力显微镜和电化学显微镜等先进分析测试设备和相关技术,以便在深入揭示CMP过程中材料去除机理的基础上,为更好地控制CMP过程和提高CMP效率提供科学依据. 相似文献