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31.
The Anomalous Effect of Interface Traps on Generation Current in Lightly Doped Drain nMOSFET's 下载免费PDF全文
The anomalous phenomenon of generation current ICD in the lightly doped drain (LDD) nMOSFET measured under the drain bias VD-step mode is reported. We propose an assumption of activated (A) and frozen (F) traps for the VD-step mode: The A traps contributes to ICD while the F process can make them lose the roles as generation centers. The A and F regions can form the F-A region. The comparison of the F and A regions decides the role of the F-A region. The experiments confirm the assumption. 相似文献
33.
研究了金属氧化物半导体(MOS)器件在高、中、低三种栅压应力下的热载流子退化效应及其1/fγ噪声特性.基于Si/SiO2界面缺陷氧化层陷阱和界面陷阱的形成理论,结合MOS器件1/f噪声产生机制,并用双声子发射模型模拟了栅氧化层缺陷波函数与器件沟道自由载流子波函数及其相互作用产生能级跃迁、交换载流子的具体过程.建立了热载流子效应、材料缺陷与电参量、噪声之间的统一物理模型.还提出了用噪声参数Sfγ表征高、中、低三种栅应力下金属氧化物半导体场效应管抗热载流子损伤能力的方法.根据热载流子对噪声影响的物理机制设计了实验并验证这个模型.实验结果与模型符合良好. 相似文献
34.
压力膨化处理工艺能够显著改善聚丙烯蜂窝薄膜(cellular polypropylene) 驻极体的压 电活性.通过热脉冲技术、表面电位衰减测量及TSD 电流谱分析等研究了经恒压正电晕充电 的聚丙烯蜂窝膜的陷阱能级分布特征,讨论了压力膨化处理工艺对这类蜂窝膜驻极体电荷稳 定性及电荷输运特性的影响.结果说明,PP 蜂窝膜内存在着位于中能级区的能值各异的三种 分立陷阱,深能值陷阱和浅能值陷阱的大多数位于孔洞膜近表面的体层或体内,而中等能值 陷阱则主要位于自由面附近.压力膨化处理改变了PP 蜂窝膜的能阱状态并在一定程度上降低 了这类孔洞膜驻极体的电荷储存稳定性,但没有明显影响其由慢再俘获效应占主导地位的脱 阱电荷输运特性.
关键词:
压力膨化处理
聚丙烯蜂窝膜
驻极体
电荷储存与陷阱分布
电荷输运 相似文献
35.
为了改善聚芴的载流子注入特性,采用密度泛函理论B3LYP/6-31G*方法计算比较了芴、芴-联吡啶和芴-菲咯啉低聚物的几何结构、电子结构、最低激发能及重组能等,并外推到相应聚合物.结果发现:联吡啶/菲咯啉含氮芳杂环的缺电子性质能够诱导聚芴的最高占据轨道(HOMO)和最低空轨道(LUMO)能级分别下降0.45/0.47eV和0.32/0.38eV,提高电子注入能力的同时,调控载流子注入平衡;联吡啶单元的引入导致电子和空穴重组能升高(降低聚芴的载流子迁移率),而芴-菲咯啉共聚物显示了与聚芴相似的迁移性能. 相似文献
36.
Xu DH 《光谱学与光谱分析》2011,31(5):1204-1207
利用液体基质材料9-(2-ethylhexyl)carbazole(EHCz)掺杂有机染料分子5,6,11,12-tetraphenyl-nathacene(rubrene)制备了具有液体发光层的有机电致发光器件,其结构为:ITO/PEDOT:PSS/EH Cz:rubrene/Cs2CO3/ITO,PEDOT:PSS... 相似文献
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