首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   9888篇
  免费   5249篇
  国内免费   3898篇
化学   4915篇
晶体学   985篇
力学   1501篇
综合类   356篇
数学   1178篇
物理学   10100篇
  2024年   99篇
  2023年   328篇
  2022年   389篇
  2021年   387篇
  2020年   248篇
  2019年   330篇
  2018年   262篇
  2017年   384篇
  2016年   404篇
  2015年   501篇
  2014年   946篇
  2013年   830篇
  2012年   728篇
  2011年   745篇
  2010年   788篇
  2009年   903篇
  2008年   1042篇
  2007年   865篇
  2006年   982篇
  2005年   977篇
  2004年   879篇
  2003年   789篇
  2002年   677篇
  2001年   657篇
  2000年   504篇
  1999年   443篇
  1998年   419篇
  1997年   436篇
  1996年   398篇
  1995年   368篇
  1994年   255篇
  1993年   204篇
  1992年   218篇
  1991年   201篇
  1990年   163篇
  1989年   154篇
  1988年   45篇
  1987年   30篇
  1986年   14篇
  1985年   11篇
  1984年   8篇
  1983年   8篇
  1982年   12篇
  1980年   3篇
  1979年   1篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 171 毫秒
51.
The effects of the external electric field on the ferroelectric superlattice with two alternating layers have been studied using the transverse Ising model based on the effective-field theory with the differential technique. The hysteresis loops and susceptibility of the system have been given. The stronger the external electric field, the smaller the susceptibility, reflecting that the polarization is weaker.  相似文献   
52.
We analyse the influence of properties of organic/organic interface (OOI) on the characteristics of recombination efficiency of organic double-layer light-emitting diodes. Based on the disordered hopping theory model, spatial and energetic disorder of hopping states are also discussed for the case of space charge limited currents in hole transmitting layers but injection-limited currents in electron transporting layers. The results show that the recombination efficiency increases firstly and then decreases for different OOI parameters, and there is a maximum value changed with different spatial disorder parameters and energetic disorder scale. Different spatial disorder parameters make carrier mobilities change greatly, and the energetic disorder scale causes various localized state densities. Our calculated results are qualitatively in agreement with the experimental data.  相似文献   
53.
Based on the band anticrossing model, the effects of the strain-compensated layer and the strain-mediated layero n the band structure, gain and differential gain of GalnNAs/GaAs quantum well lasers have been investigated. The results show that the GaNAs barrier has a disadvantage in increasing the density of states in the conduction band. Meanwhile, the multilayer quantum wells need higher transparency carrier density than the GalnNAs/GaAs single quantum well with the same wavelength. However, they help to suppress the degradation of the differential gain. The calculation also shows that from the viewpoint of band structure, the strain-compensated structure and the strain-mediated structure have similar features.  相似文献   
54.
A novel super-hydrophobic stearic acid (STA) film with a water contact angle of 166o was prepared by chemical adsorption on aluminum wafer coated with polyethyleneimine (PEI) film. The micro-tribological behavior of the super-hydrophobic STA monolayer was compared with that of the polished and PEI-coated Al surfaces. The effect of relative humidity on the adhesion and friction was investigated as well. It was found that the STA monolayer showed decreased friction, while the adhesive force was greatly decreased by increasing the surface roughness of the Al wafer to reduce the contact area between the atomic force microscope (AFM) tip and the sample surface to be tested. Thus the friction and adhesion of the Al wafer was effectively decreased by generating the STA monolayer, which indicated that it could be feasible and rational to prepare a surface with good adhesion resistance and lubricity by properly controlling the surface morphology and the chemical composition. Both the adhesion and friction decreased as the relative humidity was lowered from 65% to 10%, though the decrease extent became insignificant for the STA monolayer. The project supported by the National Natural Science Foundation of China (50375151, 50323007, 10225209) and the Chinese Academy of Sciences (KJCX-SW-L2)  相似文献   
55.
李雪春  王友年 《物理学报》2004,53(8):2666-2669
针对等离子体浸没离子注入技术在绝缘体表面制备硅薄膜工艺,采用一维脉冲鞘层模型描述介质靶表面的充电效应对鞘层厚度、注入剂量及靶表面电位等物理量的影响.数值模拟结果表明:随着等离子体密度的增高,表面的充电效应将导致鞘层厚度变薄、表面电位下降以及注入剂量增加,而介质的厚度对鞘层特性的影响则相对较小. 关键词: 等离子体浸没离子注入 脉冲鞘层 绝缘介质 充电效应  相似文献   
56.
以铝酸镧(001)单晶为基片,采用两步法制备Tl2Ba2CaCu2Oy(Tl 2212)高 温超导薄膜.首先,利用脉冲激光沉积(PLD)工艺沉积Ba2CaCu2Ox非晶前驱体薄膜;然后,前驱体薄膜在高温(720—850℃)下密封钢容器里铊化结晶形成Tl 2212薄膜.XRD结果表明Tl2212 薄膜是沿c轴方向生长的,其相组成为Tl 2212,摇摆曲线(0012)的半高宽为0.72° ,SEM图像显示其表面光滑平整,其零电阻温度为106.2K. 关键词: Tl 2212超导薄膜 脉冲激光沉积  相似文献   
57.
使用高真空电子束蒸发在p型Si(1 0 0 )衬底上制备了高kHfO2 薄膜 .俄歇电子能谱证实薄膜组分符合化学配比 ;x射线衍射测量表明刚沉积的薄膜是近非晶的 ,高温退火后发生部分晶化 ;原子力显微镜和扫描电子显微镜检测显示在高温退火前后薄膜均具有相当平整的表面 ,表明薄膜具有优良的热稳定性 ;椭偏测得在 6 0 0nm处薄膜折射率为 2 0 9;电容 电压测试得到的薄膜介电常数为 1 9.这些特性表明高真空电子束蒸发是一种很有希望的制备作为栅介质的HfO2 薄膜的方法  相似文献   
58.
离子束增强沉积VO2多晶薄膜的温度系数   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
李金华  袁宁一 《物理学报》2004,53(8):2683-2686
用改进的离子束增强沉积方法和恰当的退火从V2O5粉末直接制备了VO2多晶薄膜.实验测试表明,薄膜的取向单一、相变特性显著、结构致密、界面结合牢固、工艺性能良好,薄膜的电阻温度系数(TCR)最高可达4.23%/K.从成膜机理出发,较详细地讨论了离子束增强沉积 VO2多晶薄膜的TCR高于VOx薄膜的TCR的原因.分析认为,单一取向的VO2结构使薄膜晶粒具有较高的电导激活能,致密的薄膜结构减少了氧空位和晶界宽度,使离子束增强沉积 VO2多晶薄膜结构比其他方法制备的VOx薄膜更接近于单晶VO2是其具有高TCR的原 关键词: VO2多晶薄膜 离子束增强沉积 热电阻温度系数  相似文献   
59.
薄膜外延生长的计算机模拟   总被引:8,自引:0,他引:8       下载免费PDF全文
以Cu膜为例,用Monte-Carlo算法模拟了薄膜生长的随机过程,并提出了更加完善的模型.在合理选择原子间相互作用计算方法的基础上,考虑了原子的吸附、在生长表面的迁移及迁移所引起的近邻原子连带效应、从生长表面的脱附等过程.模拟计算了薄膜的早期成核情况以及表面粗糙度和相对密度.结果表明,随着衬底温度的升高或入射率的降低,沉积在衬底上的原子逐步由离散型分布向聚集状态过渡形成一些岛核,并且逐步由二维岛核向三维岛核过渡.在一定的原子入射率下,存在三个优化温度,成核率最高时的最大成核温度Tn、薄膜的表面粗糙度最低 关键词: Monte-Carlo算法 计算机模拟 薄膜生长  相似文献   
60.
晶格失配对异质外延超薄膜生长中成核特性的影响   总被引:3,自引:0,他引:3       下载免费PDF全文
王晓平  谢峰  石勤伟  赵特秀 《物理学报》2004,53(8):2699-2704
利用动力学蒙特卡罗方法模拟了异质外延超薄膜生长中的成核过程.研究了薄膜与衬底的晶格失配对超薄膜生长中成核密度、平均核尺寸、标度关系及生长模式的影响.结果发现产生压(张)应变的晶格负(正)失配使生长过程更早(迟)从成核区进入过渡区,失配越大,这一效应越明显.在相同的沉积条件下,负失配导致超薄膜形成较低的成核密度与较大的平均核尺寸,而正失配则相反.成核密度满足标度关系Ns≈(F/D)χ,随着失配度从-0.04增加到0.02,标度系数χ从0.37逐渐减小到0.33,对应超薄膜生长过程从包含二聚体扩散模式转变到无 关键词: 薄膜生长 成核 晶格失配 蒙特卡罗模拟  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号