微细光束固化的蒙特卡罗建模

光固化是光束与光敏树脂之间的光化学反应,其作用过程对光固化加工分辨率有着直接影响.基于光子输运理论,利用蒙特卡罗方法追踪光子往树脂中的运动轨迹,对曝光光束人射、传输过程进行抽样,建立了微细光束固化模型;利用遗传算法并结合光同化实验重构获得了树脂材料的光学参数;利用该崮化模型,模拟计算了微细会聚紫外光束(λ=365 nm)单点曝光同化过程和固化单元点的形状和大小,分析了不同曝光最对固化结果的影响规律,计算结果与实验结果一致.研究表明,该模型可以有效地对微细光束与光敏树脂作用的复杂过程进行仿真,并能对不同入射光和曝光工艺条件下的固化物进行模拟计算,为微细光固化机理的研究和工艺优化提供了基础.     

光固化快速成型中光敏树酯的光学特性对成型的影响

研究了光固化快速成型中光敏树酯的光化学过程、光敏树脂与固化光源的匹配性以及对光吸收特性和固化特征,分析了这些因素对成型过程的影响,为快速成型机的实际应用提供了参考.     

激光固化快速成形SL7510型光敏树脂性能研究

利用红外光谱仪、紫外激光固化快速成形设备、旋转黏度计、电子拉力试验机以及热机械性能分析仪对美国Huantsman公司的SL7510型光敏树脂进行了性能研究.实验结果表明,SL7510型光敏树脂是一种环氧树脂-丙烯酸酯混杂型光敏树脂,它在30℃时的黏度为335 mPa·s,临界曝光量为10.9 mJ/cm2,透射深度为0.14 mm,固化体积收缩率为4.03%,固化物托伸强度为40.8 MPa,拉伸弹性模量为2009.2 MPa,断裂伸长率为13.6%,玻璃化温度为62℃.同时,根据所测定的光敏树脂临界曝光量和透射深度数值,选定了紫外激光固化快速成形设备的加工参数,制作了电话机外壳,其制作效果较好.     

贝克兰（Baekeland，Leo Hendrik，1863—1944）比利时-美国化学家（Chemist，Belgium—America）

贝克兰出生于比利时港口城市根特，1884年获夏洛腾堡工业大学博士学位。1887年任布鲁日大学教授。1888年回到根特大学任化学副教授，从事照相化学研究。1889年移居美国，曾发明高光敏性照相纸。1905年转向研究苯酚与甲醛的反应及其产物，在近5年的工作中，完成了以催化剂类型和用量控制缩聚反应；树脂的三阶段固化机理；     

扬州血卟啉衍生物(YHPD)抗癌的分子机理的Raman光谱研究

为探讨卟啉类光敏药物抗癌的分子机理,我们用拉曼光谱研究和比较了YHPD和PhotofrinⅡ对DNA空间结构的微观光敏损伤,又研究了YHPD对蛋白质空间结构的微观光敏损伤。随着研究的深入,我们还从分子水平研究了YHPD和PhotofrinⅡ的3个主要活性组分:HP,PP和DHE对DNA和蛋白质的光敏杀伤特征,以便了解它们在上述光敏药物抗癌中扮演的角色。     

掺锗光纤的光敏机理及增敏方法的研究现状与发展

光纤光栅的出现使光纤通信和光纤传感技术有了很大的变化。光纤光栅的物理基础是掺锗光纤的光敏性。首先对目前较为广泛接受的两种光敏机理作了阐述和分析,然后对多种光纤增敏方法进行了讨论。可以预见,通过对光敏性的不断深入了解,将会大大地促进光纤通信、光纤传感等领域的发展。     

微光学元件复制技术研究

本文介绍了一种用硅橡胶做模具、光照固化光敏胶的微光学元件复制技术.利用这种方法成功地复制了各种单元尺寸的微光学元件.获得复制精度高、表面粗糙度低、光学性能良好的元件.并可批量生产,降低生产成本.     

紫外光固化暗反应过程中CC双键转化率的红外光谱研究

利用红外光谱分析技术,测定了紫外光固化体系中CC双键在1 648～1 589 cm-1 特征吸收峰面积,以此研究紫外光辐照后暗反应过程中的CC双键转化率。系统地考察了光引发剂、活性稀释剂和光敏树脂等对紫外光固化暗反应的影响。研究结果表明：在45 s的紫外光辐照后,体系中40%～85%的CC双键转化是在暗反应过程中完成的,暗反应在1.75 h以后趋于平缓,但要达到95%的CC双键转化率则需要24 h以上。体系中CC双键的转化速率和最终转化率受光引发剂的种类和用量、氧阻效应以及活性稀释剂的官能度影响较大,而光敏树脂的种类及其官能度只影响转化速率,但对最终转化率影响不大。     

荧光标记微管的光敏断裂及机理

荧光标记的微管经激发光照射会引起微管的断裂，但其断裂过程及机理并不清楚.通过光镊研究了微管光敏断裂的动态过程.实验结果表明组成微管的原丝并不是同时断裂的，而是相继断裂最终导致微管的断裂.经过一系列生物学实验，确定了活性氧中的自由基是造成微管光敏断裂的主要因素.根据光镊研究的结果推测了自由基作用于微管的机理. 关键词： 光镊 微管 断裂 自由基     

光敏胶常识

<正> 光敏胶也叫光敏胶粘剂或光固化胶粘剂。其种类较多。电子工业中应用的光刻胶就是其中的一种。在光学工业中,光敏胶可用来胶合透镜及棱镜等。目前,光敏胶在我国还处在研究和试用阶段。从本质上说,光敏胶是一种对光敏感的高分子化合物。正象稍一加压力即可粘住物体的压敏胶对压力敏感一样,光敏胶接受外来辐射光源(如具有一定辐射剂量的紫外光)的照射,会很快发生光化学反应,产生分子交联聚合而固化,其分子由原来的线型结构转变为三维架桥式交联网状结构(即立体结构)。这种经光照射后形成的光硬化型无色胶层,一般具有较高的强度,耐高温低温,难溶于各种有机溶剂,毒性极小,甚至完全无毒,蒸汽压低,无味无嗅,对皮肤和眼睛无刺激,粘度小,使用     

湿度传感器的可靠性研究

本文详细分析了湿敏陶瓷的微观结构和感湿机理,阐述了引起陶瓷湿敏元件性能漂移的因素和机理。     

电磁诱导透明和导致极慢光速的机制

根据有关文献 ,描述了电磁诱导透明和导致光速极慢的物理机制 ,并对实验结果也做了介绍     

Au在Si-Si3N4界面的电学效应

本文系统地研究了Au在Si-Si₃N₄界面的电学效应及其热处理行为,对MNS结构进行了电子能谱分析,并探讨了Au在界面处的作用机制。 关键词：     

超导材料的各向异性特征与超导转变温度T_c

在本文中,以电声子机制超导电性理论为基础,用电负性均衡原理研究了由于超导材料的各向异性引起的电子态密度分布的不均匀性,晶格稳定性的差异性及超导材料中元素成键特征对超导转变温度影响的特征,提出了在各向异性的超导材料中电声子机制可以产生高的超导转变温度Tc.     

类前缘局部热防护的场协同问题初步分析

本文针对二维类前缘外形在带表面吹气情况下的高超声速流场进行了数值模拟,结果表明表面吹气能起到局部防热作用。本文应用场协同的概念,分析了流场中速度场与温度场的关系,从机理上进一步认识有关冷却的原理。     

桑色素荧光法测定痕量锗的反应机理研究

本文对桑色素荧光法测定痕量锗的反应机理进行了较为详细的研究。确定了该反应的络合比，用荧光法，紫外吸收法和红外吸收法确定了反应的位置，从而得到了桑色素荧光法测痕量锗的理论根据。     

THE NON-LINEAR DYNAMIC BEHAVIOR OF AN ELASTIC LINKAGE MECHANISM WITH CLEARANCES

In terms of Newton two-state model, by choosing two sets of generalized co-ordinates, this paper develops a unified dynamic model between the separation and collision process for the elastic linkage mechanism. This model incorporates the effects of rigidity and elasticity coupling and the angular velocity of crank is assumed to be variable in the operation. In addition, this paper provides a more simple and practical numerical solution method for convenient analysis. Through an example, the dynamic responses of the elastic linkage mechanism with clearances are analyzed, both the effects of elasticity and clearance on the dynamic behaviors of the mechanism are analyzed simultaneously and the non-linear behaviors caused by the clearance joints are analyzed by the dynamic model of rigid mechanism.     

用激光散斑场检测药液内杂质含量分布

本文分析了利用散斑斑纹检测大输液药品杂质含量的机理，报道了检测大输液药品杂质的实例．     

用激光散斑场检测药液内杂质含量分布

本文分析了利用散斑斑纹检测大输液药品杂质含量的机理,报道了检测大输液药品杂质的实例.     

稀磁合金中“电阻极大”现象的双杂质散射理论

本文基于s-d相互作用,考虑杂质之间存在RKKY相互作用,提出了一种新的双杂质散射模型。按照这个模型,当一个杂质作自旋翻转散射时,由于杂质之间存在着RKKY关联,它的自旋作为内部自由度会受到限制。由于这种关联,抑制了杂质的自旋翻转散射,结合Kondo的logT项,能形成电阻极大。本文计算了所有可能的“DIS”图(双杂质自能图),在Kondo电阻公式中加入了A/(T₀²—T²)这样的项。其中A是一个正常数。T₀是一个临界温度。当T≤T₀时,这个公式不再有意义。这个理论和已有的分子场理论在本质上是不同的.因为它并不依赖于合金中的磁有序.因此当T≥T_c时(T_c是磁有序转变温度),这种机制仍起作用,但分子场理论则不行.这是一种顺磁效应.我们和Cd-Mn(杂质浓度从0.01到0.1at./0)的实验曲线进行了比较,发现符合得很好.最后,我们认为即使在极低浓度下这种机制也是消除Kondo logT发散的主要原因. 关键词：