共查询到20条相似文献,搜索用时 203 毫秒
1.
实验上探讨了Y3+离子掺杂对La2/3-xYxCa1/3MnO3(0<x<0.2)单相样品的结构及其输运性质的影响.结果表明,随着Y的掺杂,晶胞参数收缩,从顺磁性半导体到铁磁性金属的转变温度Tc明显降低,而巨磁阻效应却大大提高.为了探讨其物理起因,我们对Tc温度以上的导电机理通过定量分析电阻随温度的变化而得以研究,结果表明,载流子的迁移遵从跳跃方式而不是热激活形式,在此基础上对Y掺杂作用进行了讨论. 相似文献
2.
采用固态反应法制备了(La2/3Ca1/3)(Mn(3-x)/3Gax/3)O3(x=0.00,0.10,0.15,0.20,0.30)体系的系列样品。通过系统地测量其零场和1.6特斯拉(T)磁场下样品的电阻率-温度关系以及一定温度下磁电阻率与磁场的关系,发现随Ga^3+替代量的增加其磁电阻率峰和电阻率峰均向低温方向移动,磁电阻率峰值增大,并伴生磁电阻率峰展宽效应。作者认为,上述结果是由于Ga^3 相似文献
3.
L12/3Ca1/3MnOz薄膜中的巨磁阻效应 总被引:1,自引:0,他引:1
采用直流磁控溅射法在ZrO2衬底上首次成功地制备了La2/3Ca1/3MnOz薄膜,X-射线衍射结果表明该膜具有良好的择优取向,并首次观察到十分明显的巨磁阻效应,在6个特斯拉磁场下,室温时的磁阻比为6%,而78度K时竟高达2500%,中还对磁阻比的磁场关系作了简单的讨论 相似文献
4.
5.
6.
7.
8.
本文系统地分析了在Y1-xAlxBa2Cu3Oy(x=0~0.7)中用Al替代Y的替代效应.我们发现当x<0.4时,Al主要替代在Y位,引起结构畸变,从而导致氧含量的减少和O-T相变,转变温度随Al含量增加而下降.当掺杂量大于0.4,Al开始占据Cu(1)和Cu(2)位,样品变为四方结构,Tc迅速下降.XPS分析表明,Al的位置依赖于掺杂量,随掺杂浓度的增加Al依次替代Y,Cu(1),Cu(2).同时我们观察到Tc和CuO2平面间相互作用的正比关系. 相似文献
9.
10.
使用分子束外延方法生长了一种新的基于Siδ掺杂的AlxGa_1-xAs/GaAs异质结,测量了0.3-30K低温下异质结处二维电子气的横向磁阻、迁移率和Hall电阻,磁阻的Shubni-kov-deHass(SdH)振荡非常明显。对振荡曲线作快速Fourier变换分析,获得了二维电子气中每一子能带上占据的电子数密度和有效质量(m_0/m_0=0.073,m_1/m_0=0.068).随温度降低,子带上占据的电子增多,实验中发现:当样品温度为0.3K,横向磁场从0到7T扫描时,磁阻振荡出现间歇性的反常峰,磁阻振幅陡然增大5-6倍。 相似文献
11.
12.
研究了La2-xSrxCu1-yFeyO4(x=0.13,0.15,0.17和y=0.0,0.002,0.004,0.006)多晶样品在不同磁场下(H=1,3和5T)正常态直流磁化率与温度的关系和超导转变温度与Fe掺杂含量的关系.结果表明,不掺杂样品的正常态直流磁化率呈宽峰行为.随着Fe掺杂量的增多,直流磁化率与温度的关系由宽峰行为变为Curie-Weiss行为.与此同时,超导转变温度随Fe掺杂含量的变化而变化.这表明载流子浓度是影响超导的重要因素.对Fe掺杂样品,其正常态直流磁化率与温度的关系可以用X=a+bT+c/(T-T0)很好的表示.我们认为,其中a+bT项是带Pauli顺磁的贡献.对同一掺Fe样品,增加外磁场时,居里常数c增大而常数项a减小.这是由于在Fermi面存在不满的窄带(dx2上Hubbard带),它是导致居里顺磁的原因.增加磁场时它往高能方向移动,窄带的电子空得更多,这些电子移向较宽的杂化带,导致每个Cu离子的磁矩增大,而带的Fermi面电子态度减小.我们的实验结果也表明,超导电性与能带结构密切相关. 相似文献
13.
制备条件对La0.67Sr0.33MnO3外延薄膜结构及磁电阻的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
利用直流溅寺在LaAlO3基片上生长了La1-xSrxMnO3外延薄膜。测量了薄膜样品退火前后在零场和外加磁场中的电阻率和磁阻随温度的变化。实验发现,随着基片温度的升高,磁阻在减少;电阻在率最高峰位高温区移动;溅射温度为650℃的样品,磁阻效应最大。 相似文献
14.
15.
16.
17.
18.
La2/3Ca1/3MnO3的巨磁熵效应 总被引:6,自引:0,他引:6
本文对超大磁阻材料La2/3Ca1/3MnO3的巨磁熵效应进行了研究,通过测量不同磁场下的磁化-温度曲线,发现伴随铁磁-顺磁相变有一个大的磁熵变化,这个结果表明钙钛矿锰氧化物可以作为磁致冷技术中的工作物质。 相似文献
19.
GexSi1—x/Si应变超晶格雪崩光电探测器的分析与优化设计 总被引:1,自引:1,他引:0
对GexSi1-x/Si应变超晶格雪崩光电探测器进行了分析与优化设计,优化结构为:i-Si雪崩区厚是1.8~2μm;p-Si区的掺杂浓度是10^18cm^-3厚为17nm超晶格总厚为340nm,它可探测1.3~1.6μm的红外光。 相似文献
20.
本采用倒筒式直流溅射法原位生长和Tc值为95K的NdBa23Cu3Ox外延薄膜,样品的XRD分析表明,样品为强烈c轴织构,c轴晶胞参数为1.174nm,样品衍射峰的FWHM=0.29°,RBS分析表明:薄膜的化学计量为Nd1.0Ba2.0Cu3.3Ox。对影响NdBa2Cu3OX薄膜Tc值的因素进行了讨论。 相似文献