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以Raman散射、X射线电子能谱和红外吸收光谱细致研究了PECVD法250℃衬底温度下制备的氢化非晶硅氧(a-SiOx∶∶H)薄膜的微结构及键构型. 研究表明, 在0.52≤x≤1.58的氧含量范围内,a-SiOx∶∶H薄膜成分和结构不是均一的,依赖于局域键构型氧化程度的不同,大致存在着5种在一定程度上相互分离的结构组分,即Si, Si2O(∶H), SiO(∶H), Si2O3(∶H)和SiO2. 其中的Si相以非氢化的非晶硅(a-Si)颗粒形式存在,随氧含量x的增加其尺度持续减小但始终存在. 提出一种多壳层模型来描述a-SiOx∶H薄膜的结构,认为a-SiOx∶H薄膜中a-Si颗粒依次为Si2O(∶H), SiO(∶H), Si2O3(∶H)和SiO2壳层所包围. 随薄膜氧含量x的增加,各壳层厚度相应变化但各自的化学构成基本保持不变. 相似文献
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在取值于有限群G的二维格子旋系统模型中, 可以定义场代数F. 群G的Double代数D(G), 进而由子群H决定的子Hopf代数D(G;H), 在F上有自然作用, 使得F成为模代数. 给出F的D(G; H)-不变子空间AH的具体结构, 通过构造AH到AG的条件期望γG的拟基, 得到γG的C*-指标, 等于子群H在G中的指标. 相似文献
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给出空间弱(K1, K2) -拟正则映射的定义, 并以Hodge分解及弱逆Hölder不等式为工具, 得到了其正则性结果:对任意满足 的q1, 都存在可积指数 使得对任意弱 (K1, K2) -拟正则映射 都有 即f为通常意义下的(K1, K2) -拟正则映射. 相似文献
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讨论了声学悬浮泥沙浓度估计方法,获得了两种泥沙浓度估计的方法.第1种是曲线拟合法,根据声反向散射原理,提出声学方法得到的浓度M(r)和6点法得到的浓度M0(r)间的拟合因子K1(r)是距离r的高次幂函数,采用最小二乘法,使M(r)与M0(r)在整个水深上的差值最小,确定出高次幂曲线中的待定系数.方法对水中悬浮物引起的声吸收系数未加任何限制.第2种方法是递推拟合法,采用6点法的M0(r)作为初始条件和判定条件,对递推过程加了合理的约束条件,递推过程稳定.大量试验数据分析表明,第1种方法的误差小于第2种方法,但是第2种方法不但可得到泥沙浓度估计,还可得到声波的吸收系数.两种方法均已取得良好的应用成果. 相似文献
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研究了Cn中Reinhardt域Dp = {(z1, z2, …, zn)∈Cn: 上正规化双全纯凸映射的结构问题, 给出了该类映射的分解定理. 作为特例, 证明了每个这样的映射f的第j个分量fj (j= 1, 2, …, n), 展开式的前k项仅与zj有关, 其中k是满足k<min{ p1 , p2 , …, pn}≤k + 1的自然数. 当p1 , p2 , …, pn→∞时, 这将导出T. J. Suffridge关于多圆柱上凸映射类的分解定理. 相似文献
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研究了添加微量元素Co和Dy对HDDR工艺制备各向同性Nd-Dy-Fe-Co-B粘结磁体磁性能的影响. 结果表明, (Nd0.65Dy0.35)12.5(Fe0.9Co0.1)81B6.5磁体的内禀矫顽力Hcj高达1.53 MA·m-1,剩磁的可逆温度系数为-0.059%/℃(25~155℃). 使磁体具有高矫顽力、低温度系数的原因一方面是由于Dy和Co的加入提高了硬磁性相的各向异性场和TC温度,另一方面是由于材料显微结构的改善. 相似文献
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设L 是连续半格,用 USC(X, L) 表示乘积空间 X×ΛL 的包含集合 X×{0} 的所有闭的下集之族,用 ↓C(X, L) 表示由X到ΛL的连续函数的下方图形全体.赋予 Vietoris 拓扑后, USC(X, L)是拓扑空间,↓C(X, L) 是它的子空间. 证明了如果X是无限的局部连通的紧度量空间且ΛL是绝对收缩核,则USC(X, L) 同胚于 Hilbert 方体 [-1,1]ω. 此外, 如果L是可数个闭区间的乘积,则↓C(X, L)在USC(X, L)中是同伦稠的,即存在同伦 h: (X, L)×[0,1]}→ USC(X, L), 使得h0=idUSC(X, L), 且对任意的t>0, 有ht(USC(X, L))Ì↓C(X, L). 但 ↓C(X, L)不是可完备度量化的. 相似文献
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利用脉冲激光淀积法(PLD)在α-Al2O3衬底上淀积了ZnO薄膜, 通过ZnO和α-Al2O3固相反应制备了具有ZnAl2O4覆盖层的α-Al2O3衬底. X射线衍射谱(XRD)表明ZnAl2O4薄膜随反应时间由单一(111)取向转变为多晶取向, 然后变为不完全的(111)择优取向. 同时扫描电子显微镜(SEM)照片表明ZnAl2O4表面形貌随反应时间由均匀的岛状结构先变为棒状结构, 然后再变为突起的线状结构. 另外, XRD谱显示低温制备的ZnAl2O4在高温下不稳定. 在ZnAl2O4覆盖的α-Al2O3衬底上利用光加热低压MOCVD法直接生长了GaN薄膜. XRD测量表明随ZnAl2O4厚度增加GaN由c轴单晶变为多晶, 单晶GaN的摇摆曲线半高宽为0.4°. 结果表明薄ZnAl2O4覆盖层的岛状结构有利于GaN生长初期的成核, 从而提高了GaN的晶体质量. 相似文献
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在Lenstra H W 的工作的基础上,给出了关于K2(Q)的5阶元的Browkin猜想的一个简洁证明. 相似文献
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设D是一个2-(v, k, 1)设计, G是D的自同构群. Delandtsheer证明了如果G是区本原的, 且D不是射影平面, 则G是几乎单群, 即存在一个非交换单群T , 使得T≤G≤Aut(T). 本文证明了T不同构于单群3D4(q), 这是区本原设计分类工作的一个不可缺少的组成部分. 相似文献