首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   5篇
  免费   7篇
  国内免费   1篇
化学   1篇
晶体学   4篇
物理学   8篇
  2014年   1篇
  2011年   1篇
  2010年   1篇
  2008年   1篇
  2007年   5篇
  2006年   3篇
  2004年   1篇
排序方式: 共有13条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1.
分别在苏打石灰玻璃、Mo箔、无择优取向的Mo薄膜以及(110)择优取向的Mo薄膜四种不同衬底上,采用共蒸发工艺沉积约2 μm厚的Cu(In,Ga)Se2薄膜,用X射线衍射仪测量薄膜的织构,研究衬底对Cu(In,Ga)Se2薄膜织构的影响.在以上四种衬底上沉积的Cu(In,Ga)Se2薄膜的(112)衍射峰强度依次逐渐减弱,(220/204)衍射峰从无到有且强度逐渐增强.在苏打石灰玻璃和Mo箔衬底上的Cu(In,Ga)Se2关键词: 择优取向 Cu(In 2薄膜')" href="#">Ga)Se2薄膜 太阳电池  相似文献   
2.
Composition dependence of quaternary CuIn1-x GaxSe2 films on Ga content has been systematically investigated by Raman scattering. The dominant A1 mode shifts from 174cm^-1 for CuInSe2 to 185cm^-1 for CuGaSe2 in an approximately polynomial curve other than a linear curve, indicating existence of asymmetric distribution of Ga and In on a microscopic scale in films. With Ga content x 〉 0.3, the significantly broadening and intensity decrease of A1 modes suggest the degradation of crystalline quality of chalcopyrite phase. Additionally, the quenching of additional Raman band at 183cm^-1 for the Ga-rich films reveals that CuAu-ordered phase can coexist in nominal chalcopyrite CuInSe2 films but not in CuGaSe2, due to Ga inhibition effect.  相似文献   
3.
采用两步法制备CuGaxIn1-xSe2薄膜,Cu-In-Ga金属预制层采用铜镓合金靶及铟靶通过磁控溅射方法沉积而成,采用固态源硒化法在硒蒸气密闭环境中硒化,通过调整镓(Ga)比例及分布控制CIGS薄膜的带隙,采用镓元素梯度分布,使CIGS薄膜带隙呈现抛物线状分布,电池的量子效率得到明显提高,制备出的CIGS薄膜电池开路电压与转换效率都得到很大程度的改善,电池最高转换效率已达9.4;.  相似文献   
4.
本论文通过实验制备得到CuIn0.7Ga0.3Se2(CIGS)、CdS、ZnO三种半导体材料,然后根据这三种半导体的相关材料参数和实验数据,得出了它们形成异质结前后的能带图,并计算它们的能带边失调值ΔEC、ΔEV.其中,CdS/CIGS的导带边失调值ΔEc对高效率CIGS薄膜太阳电池的影响作用最大,为-0.298eV(高效电池的理想值范围为0~0.4eV),说明这对电池整体性能不是很好.  相似文献   
5.
孪生对靶直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜及其特性研究   总被引:3,自引:1,他引:3  
李微  孙云  何青  刘芳芳  李凤岩 《人工晶体学报》2006,35(4):761-764,815
本文以ZnO:A l(ZAO)陶瓷为靶材,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出高质量的铝掺杂氧化锌透明导电膜,研究了该薄膜的结构、光电及力学特性。采用孪生对靶制备ZAO薄膜可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤。制备的薄膜具有结晶程度高、电阻率低、迁移率高等优点。ZAO薄膜的最低电阻率达到了4.47×10-4Ω.cm,在可见光区的平均透过率达到85%以上,非常适合做为铜铟硒(C IS)薄膜太阳电池窗口层。  相似文献   
6.
在CuCl2、InCl3、GaCl3及H2SeO3组成的酸性水溶液电沉积体系中, 对Mo/玻璃衬底上一步法电沉积Cu(In1-x, Gax)Se2(简写为CIGS)薄膜进行了研究. 为了稳定溶液的化学性质, 在溶液中加入邻苯二甲酸氢钾和氨基磺酸作为pH缓冲剂, 将溶液的pH值控制在约2.5, 并提高薄膜中Ga的含量. 通过大量实验优化了溶液组成及电沉积条件, 得到接近化学计量比贫Cu 的CIGS薄膜(当Cu与In+Ga的摩尔比为1时, 称为符合化学计量比的CIGS薄膜; 当其比值为0.8-1时, 称为贫Cu或富In的CIGS 薄膜)预置层, 薄膜表面光亮、致密、无裂纹. 利用循环伏安法初步研究了一步法电沉积CIGS薄膜的反应机理, 在沉积过程中, Se4+离子先还原生成单质Se, 再诱导Cu2+、Ga3+和In3+发生共沉积. 电沉积CIGS薄膜预置层在固态硒源280 ℃蒸发的硒气氛中进行硒化再结晶, 有效改善了薄膜的结晶结构, 且成份基本不发生变化,但是表面会产生大量的裂纹.  相似文献   
7.
衬底对Cu(In,Ga)Se2薄膜织构的影响   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
分别在苏打石灰玻璃、Mo箔、无择优取向的Mo薄膜以及(110)择优取向的Mo薄膜四种不同衬底上,采用共蒸发工艺沉积约2μm厚的Cu(In,Ga)Se2薄膜,用X射线衍射仪测量薄膜的织构,研究衬底对Cu(In,Ga)Se2薄膜织构的影响.在以上四种衬底上沉积的Cu(In,Ga)Se2薄膜的(112)衍射峰强度依次逐渐减弱,(220/204)衍射峰从无到有且强度逐渐增强.在苏打石灰玻璃和Mo箔衬底上的Cu(In,Ga)Se2薄膜具有明显的(112)择优生长,而在(110)取向的Mo薄膜衬底上,Cu(In,Ga)Se2薄膜的织构为(220/204)取向.研究结果表明,只有(110)择优取向的Mo薄膜衬底对Cu(In,Ga)Se2薄膜(220/204)织构的形成有重要影响.  相似文献   
8.
主要研究了采用溅射后硒化方法制备CIGS(铜铟镓硒)薄膜太阳电池的吸收体材料中的表面层掺杂调节问题。并利用Raman散射谱分析研究了样品表面层特征峰的移用,研究结果表明: CIGS薄膜表面层由富In表面层调节为富CuGa表面层后,Raman特征峰位向高波数移动,表明薄膜表面的Ga含量随之变化,并导致表面能带的相应改变,经计算证实了富CuGa表面层样品较之富In表面层样品具有更高的表面能带,从而改善了以此材料为吸收层的太阳电池器件性能, Voc提高了74 mV,填充因子上升8%,最终使器件转换效率η相应提高了约2%。提高了Voc与FF。同时表明Raman散射谱作为一种灵敏的表面表征手段,在研究太阳电池吸收层表面状态时十分有力。  相似文献   
9.
张毅  李博研  党向瑜  武莉  金晶  李凤岩  敖建平  孙云 《中国物理 B》2011,20(11):116802-116802
The scaling behavior and optical properties of Zn(S, O and OH) thin films deposited on soda-lime glass substrates by chemical bath deposition method were studied by combined roughness measurements, scanning electron microscopy and optical properties measurement. From the scaling behaviour, the value of growth scaling exponent β , 0.38±0.06, was determined. This value indicated that the Zn(S, O, OH) film growth in the heterogeneous process was influenced by the surface diffusion and shadowing effect. Results of the optical properties measurements disclosed that the transmittance of the film was in the region of 70%-88% and the optical properties of the film grown for 40 min were better than those grown under other conditions. The energy band gap of the film deposited with 40 min was around 3.63 eV.  相似文献   
10.
中频溅射制备ZnO薄膜可改善射频磁控溅射方式中沉积速率过慢的缺点.对于多层薄膜的制备,对向靶的设计可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤.本文采用这项技术制备厚度约为50nm的ZnO薄膜,通过调整工作压强、溅射功率、氧氩比等工艺条件,制备出均匀致密,结晶质量高,电阻率在102~103Ω·cm之间,可见光区透过率达到90;的ZnO薄膜.将其应用到CIGS太阳电池中发现,具有50nm厚度的ZnO层的CIGS太阳电池的性能较无ZnO层的太阳电池都有了很大提高.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号