超大规模集成电路的一些材料物理问题（I）——Cu互连和金属化

21世纪初，超大规模集成电路（ULSI）的特征尺寸将由150nm逐代缩至50nm。文章以100nmULSI器件为主，简要介绍与互连相关的一些材料物理问题，其中包括Cu互连、金属化及低介电常数介质。     

利用网络资源进行四级物理实验的科研设计

以科研实验为主题的大学四级物理实验,其目的是引导学生科研入门以及培养锻炼其科研能力。中国科学技术大学物理实验中心在这方面做了许多有益的探索。     

用电泳法制备ZnxMg1-xO薄膜及其特性研究

用电泳法制备了一系列ZnxMg1 -xO薄膜 .对ZnxMg1 -xO薄膜的光致发光研究表明 ,在薄膜发射谱的紫外区域有两个显著的峰 ,分别对应自由激子和激子间碰撞的发光 .在可见光区域 ,发射谱的强度基本保持恒定 ,没有发现通常报道的绿光发射 ,说明生长的薄膜中氧与其他元素保持很好的化学配比 ,抑制了基于氧空位的绿带发射机理 .另一方面 ,薄膜成分中Mg含量的变化和退火温度的变化对薄膜的发射谱有显著的影响 ,表现在ZnxMg1 -xO的紫外发射峰随Mg含量的增加向短波方向移动 ,同时峰强度随退火温度的升高显著增加     

具有科学研究特征的物理实验教学

将大学物理实验分为四级是面向 2 1世纪教学改革的重要举措[1] .划分依据是按实验内容的基础普遍性、难易程度与学生知识水平相适应分为四级实验 .其中一级实验为基本操作与测量 ,属于普及型 .在二、三级实验中逐步增加综合性与设计性实验的比例及难度 ,由教师安排 ,过渡到学生     

Nonlinear Shift of the Raman A1 Mode in Ga-Incorporated CuInSe2 Thin Films

Composition dependence of quaternary CuIn1-x GaxSe2 films on Ga content has been systematically investigated by Raman scattering. The dominant A1 mode shifts from 174cm^-1 for CuInSe2 to 185cm^-1 for CuGaSe2 in an approximately polynomial curve other than a linear curve, indicating existence of asymmetric distribution of Ga and In on a microscopic scale in films. With Ga content x 〉 0.3, the significantly broadening and intensity decrease of A1 modes suggest the degradation of crystalline quality of chalcopyrite phase. Additionally, the quenching of additional Raman band at 183cm^-1 for the Ga-rich films reveals that CuAu-ordered phase can coexist in nominal chalcopyrite CuInSe2 films but not in CuGaSe2, due to Ga inhibition effect.     

镨和铕离子注入硅的快速热退火研究

利用离子注入技术将稀土Ｐｒ和Ｅｕ离子引入外延硅片中，经快速热退火使注入层再结晶和电激活。对Ｐｒ离子注入样品，在较低温度９４０℃下退火，样品具有电子导电性，注入离子起施主作用，而在较高强度１２４０℃下退火，则具有穴穴导电性，注入离子起受主作用，即有两种导电行为。     

超大规模集成电路的一些材料物理问题(Ⅱ)──尺寸缩小带来的巨大挑战

随着CMOS技术缩至 10 0nm或更小 ,在CMOS器件结构、接触电阻以及大直径硅晶片等方面均遇到一些材料物理的巨大挑战 .     

Pd/W/Si(111)双层膜界面X射线光电子能谱与俄歇电子能谱研究

利用X射线衍射（XRD），X射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）对Pd/W/Si（111）界面进行了研究。实验结果表明，当系统作低温退火时，受W膜的阻挡，未生成硅化物，但Pd/W界面和W/Si（111）界面均有互扩散。升高退火温度，Pd－W原子在Si衬底上形成互溶体，Pd原子已穿过W阻挡层而到达W/Si（111）界面处，随着退火温度的继续升高，首先在W/Si（111）界面处生成PdSi_x,WSi_x也随之生成，这样就形成Pd-W原子分布的“反转”，在薄     

用电泳法制备ZnxMg1-xO薄膜及其特性研究

用电泳法制备了一系列ZnxMg1-xO薄膜. 对ZnxMg1-xO薄膜的光致发光研究表明，在薄膜发射谱的紫外区域有两个显著的峰，分别对应自由激子和激子间碰撞的发光. 在可见光区域，发射谱的强度基本保持恒定，没有发现通常报道的绿光发射，说明生长的薄膜中氧与其他元素保持很好的 化学配比，抑制了基于氧空位的绿带发射机理. 另一方面，薄膜成分中Mg含量的变化和退火 温度的变化对薄膜的发射谱有显著的影响，表现在ZnxMg1-xO的紫 外发射峰随Mg含量的增加向短波方向移动，同时峰强度随退火温度的升高显著增加. 关键词： 发射谱 x射线衍射 电泳法 ZnMgO薄膜