Antireflective characteristics of triangular shaped gratings

It is well known that conventional multi-layers are oftenused for antireflective coatings[1,2]. There are, however,only a handful of optical materials available, thus limit-ing the performance that could ideally be achieved. Onthe other hand, sub-wavelength structure surfaces, whichare surface-relief gratings with periods smaller than theincident wavelength, have been researched and foundto have antireflective properties[3,8]. Compared withstandard optical thin-film coating technologies, the h…     

用e+e－→h′s反应中类双喷注事例研究部分子末态的色联接

借助JETSET事例产生器对e⁺e^－→h′s反应中的类双喷注事例进行研究.研究发现,在QCD微扰与非微扰的界面上,部分子系统的色中性流和色分离单态两种不同色联接方式导致了强子末态某些可观测量的显著差别.因此,它们可以用于判别部分子的色联接方式.     

二极管伏安特性曲线测试电路的改进

指出了文献中所给出的伏安法测二级管特性曲线电路存在的问题，并给出了改进电路。     

基于交换耦合模型纳米双相(硬磁/软磁)自旋体系的磁性

采用MonteCarlo方法对由异类自旋组成混合Heisenberg自旋体系进行了数值计算,以模拟和预测基于交换耦合模型纳米双相(硬磁软磁)磁性体系的磁性.区别于以往所报道的那些直接针对硬磁NdFeB与软磁纳米αFe复合磁体的微磁学计算工作,着眼于符合Heisenberg模型的两类完全不同的原子自旋集团(硬磁自旋和软磁自旋)之间的直接交换耦合作用,模拟计算了由这两类自旋组成的复合自旋体系的内禀矫顽力Hc、剩余磁化强度Mr、最大磁能级(M×H)max等宏观磁性参量随软磁自旋集团的尺度和体积百分比、两类自旋集 关键词： Heisenberg模型 MonteCarlo模拟 纳米复合磁体 Nd-Fe-B     

量子交换代数及其对偶

若代数A关于拟三角Hopf代数H的作用是量子交换的,则H的模范畴_H^m的张量结构诱导出相应smash积代数A＃H的模范畴_A＃H^m的张量结构.进一步研究_H^m的辫结构诱导_A＃H^m的辫结构的条件,对偶地,引入量子余交换概念,获得对偶情形的结果     

自锁模掺钛宝石激光器的泵浦研究

对自锁模掺钛宝石激光器的原理作了较详细的描述，指出克尔透镜效应是形成自锁模的主要原因，但是，只有将克尔透镜自聚焦、振荡光参数和泵浦光参数三者结合起来考虑，才能全面了解自锁模的形成过程，本文从速率方程出发，得出了激光介质增益与光束参数的相对变化曲线，并据此来优化自锁模钛宝石激光器的设计，最后，将计算结果与实验作了比较，两者符合得较好。     

用Laurent级数展开法化有理分式为部分分式

将函数Laurent展开定理及留数概念应用于有理分式得到将有理分式化为部分分式的一种行之有效的方法.     

Kuramoto-Sivashinsky与Karda-Parisi-Zhang模型中生长界面分形特性研究

在（2＋1）维情况下，利用数值模拟研究了Kuramoto-Sivashinsky (K-S)与Karda-Parisi-Z hang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程.结果表明，KPZ与K-S模型都表现出明 显的时间和空间标度特性.相对于KPZ模型而言，K-S模型所对应的表面具有更明显的颗粒特 征，当生长时间较长时，生长界面呈现蜂窝状结构.通过数值相关分析得到了生长界面的粗 糙度指数、生长指数和动态标度指数等参数.从两种模型对应的表面形貌特征和表面参数来 看，在(2+1)维情况下，KPZ与K-S模型所决定的表面具有完全不同的动态标度行为，属于不 同的两类物理模型. 关键词： Kuramoto-Sivashinsky (K-S)模型 Karda-Parisi-Zhang(KPZ)模型 分形 数值模拟     

Wideband Antireflection Film Fabricated by Glancing Angle Deposition

Graded-index ZrO2 films has been fabricated on K9 glass by glancing angle deposition. Because the index mismatch at the interface has been reduced, the film results in wideband high-transmission antireflection. From 400nm to 1200nm, the film reflection is lower than 0.8% and the lowest value is 0.2% at 432nm.