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本文利用分子光谱理论系统的计算和分析N2第二正带系(C3∏u→B3∏g)的发射光谱, 以研究光谱强度的分布规律与不同温度条件和气体条件的关系. 基于N2的三重态能级结构特性, 重点计算和讨论了发射光谱的概个重要参数: 通过求解高、低电子态的哈密顿矩阵得到了振转能级特性; 利用r质心近似法求取了能级间跃迁的电偶极矩函数和爱因斯坦跃迁概率; 进而计算了不同振动和转动温度条件下谱线的强度分布. 进行了N2和Ar的混合放电实验, 利用实验光谱数据同理论结果进行拟合分析, 确定了N2分子的振动温度和转动温度分别约为4300 K和800 K. 另外由于潘宁离化效应, N2浓度减小时谱线强度呈现先增强后减弱的趋势. 实验结果很好的验证了N2第二正带系光谱理论计算的正确性. 相似文献
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利用单分散的SiO2微球自组装制备了含一种尺寸微球的SiO2胶体晶体和含多种尺寸微球的多层异质结构。对含一种尺寸微球的SiO2胶体晶体进行煅烧和刻蚀处理后,胶体晶体中空隙所占比例大于立方密堆结构的26%,形成了非密堆结构,而且刻蚀时间越长,空隙比例越大。在同样的热处理和刻蚀条件下,微球尺寸越小的胶体晶体被刻蚀的程度越高,结构中空气空隙所占的比例越大。对SiO2多层异质结构经过煅烧和刻蚀处理后,得到了空隙梯度变化的多层结构,以此为模板制备了密度梯度变化的聚苯乙烯多孔薄膜。薄膜各层之间形成了平滑的过渡,没有显示出明显的层间缺陷,且孔与孔之间没有出现3维有序多孔结构中常见的大的连通孔道。 相似文献
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Two localized CO2 laser treatment methods for mitigation of UV damage growth in fused silica 下载免费PDF全文
Two methods:high-power,short-time,single-shot irradiation(Method A) and low-power,long-time,multi-shot irradiation(Method B) are investigated to mitigate the UV damage growth in fused silica by using a 10.6-μm CO2 laser.To verify the mitigation effect of the two methods,the laser induced damage thresholds(LIDTs) of the mitigated sites are tested with a 355-nm,6.4-ns Nd:YAG laser,and the light modulation of the mitigation sites are tested with a 351-nm continuous Nd:YLF laser.The mitigated damaged sites treated with the two methods have almost the same LIDTs,which can recover to the level of pristine material.Compared with Method A,Method B produces mitigated sites with low crater depth and weak light modulation.In addition,there is no raised rim or re-deposited debris formed around the crater edge for Method B.Theoretical calculation is utilized to evaluate the central temperature of the CO2 laser beam irradiated zone and the radius of the crater.It is indicated that the calculated results are consistent with the experimental results. 相似文献
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水印的不可见性和算法的鲁棒性是图像版权保护领域关注的重要问题,然而大多数算法不能很好地平衡二者的关系。为此,提出了一种基于二维经验模态分解(BEMD)、离散余弦变换(DCT)和奇异值分解(SVD)的不可见性高、鲁棒性强的混合图像水印算法。首先,对水印图像采用Arnold置乱,增强算法的安全性,并对置乱后的水印图像进行二维DCT。然后,对宿主图像进行BEMD,得到有限个尺度不同的内蕴模态函数(IMF)及余量,选择与宿主图像相关性较低的IMF执行二维DCT,根据水印的大小对其进行不重叠分块,分别对每个分块图像以及经DCT的水印图像执行SVD。最后,根据自适应最优嵌入准则确定水印嵌入强度,并将水印嵌入每个分块,以增强算法的容错性。大量实验以及与现有算法的对比表明,所提算法不仅具有抵抗大尺度攻击的鲁棒性,而且具有较高的不可见性。 相似文献
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对ISO/IEC17025-1999和ISO/IEC指南25-1990进行了比较,分析了ISO/IEC17025-1999的显著变化,提出了由ISO/IEC指南25-1990质量体系向ISO/IEC17025-1999质量体系过渡的措施。 相似文献
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