全文获取类型
收费全文 | 6943篇 |
免费 | 1561篇 |
国内免费 | 3168篇 |
专业分类
化学 | 4652篇 |
晶体学 | 199篇 |
力学 | 2566篇 |
综合类 | 177篇 |
数学 | 720篇 |
物理学 | 3358篇 |
出版年
2024年 | 55篇 |
2023年 | 155篇 |
2022年 | 173篇 |
2021年 | 220篇 |
2020年 | 162篇 |
2019年 | 176篇 |
2018年 | 123篇 |
2017年 | 181篇 |
2016年 | 228篇 |
2015年 | 220篇 |
2014年 | 437篇 |
2013年 | 358篇 |
2012年 | 377篇 |
2011年 | 409篇 |
2010年 | 455篇 |
2009年 | 503篇 |
2008年 | 494篇 |
2007年 | 510篇 |
2006年 | 563篇 |
2005年 | 511篇 |
2004年 | 505篇 |
2003年 | 505篇 |
2002年 | 414篇 |
2001年 | 422篇 |
2000年 | 352篇 |
1999年 | 357篇 |
1998年 | 305篇 |
1997年 | 353篇 |
1996年 | 311篇 |
1995年 | 345篇 |
1994年 | 315篇 |
1993年 | 254篇 |
1992年 | 234篇 |
1991年 | 242篇 |
1990年 | 154篇 |
1989年 | 166篇 |
1988年 | 47篇 |
1987年 | 44篇 |
1986年 | 14篇 |
1985年 | 8篇 |
1984年 | 8篇 |
1983年 | 4篇 |
1982年 | 3篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 390 毫秒
11.
红外光谱表明,一步法和两步法制备的Nafion-Os(bpy)2 3(X=3)修饰膜明显不同,说明不同制备方法强烈影响膜的微结构.同时还显示一步法制备的X=3和X=20膜红外光谱特性也有明显不同. 相似文献
12.
CeOs4Sb12晶体中由于导电电子与Ce3+ 4f1电子之间存在c-f杂化作用导致费米面附近存在能量间隙.这种c-f近藤相互作用和能量间隙是理解CeOs4Sb12物理性质,如近藤绝缘体行为、Ce3+磁矩在低温下猝灭以及重费米性等电、磁性质的关键.当用LAM-D中子谱仪对粉末CeOs4Sb12进行测量时,可以得到不同温度下CeOs4Sb12的非弹性中子散射谱.结果表明CeOs4Sb12中存在近藤相互作用,其作用强度为3.1 meV,证实了CeOs4Sb12为近藤绝缘体.中子测量得出CeOs4Sb12德拜温度为317 K.
关键词:
非弹性中子散射
填充式方钴矿
近藤绝缘体 相似文献
13.
以酵母菌为脱氧剂,以透气性和透水气性好的聚乙烯醋酸乙烯酯(EVA)为基质,来制备一种新型的绿色脱氧包装膜。本文研究了EVA型号、脱氧剂含量、环境温度和湿度对这种脱氧膜的脱氧性能的影响。结果表明,这种新型的酵母菌脱氧膜有较好的脱氧性能,具有一定的市场应用前景。 相似文献
14.
本文运用有限元方法结合动态光弹性分析,对动态应力强度因子的计算进行了分析研究.作者在钱伟长教授[1]的基础上,将动态裂尖的奇异性分析解引入有限元计算;并以动态光弹性分析所得的裂纹扩展长度与时间的关系曲线作为定解补充条件,据此建立了有效模拟裂纹扩展的数值模型.通过具体算例证明,本文的方法取得了与实验结果相吻合的效果. 相似文献
15.
16.
单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在碱性条件下通过TEOS和MTES的共水解缩聚反应制备了单甲基原位改性的SiO2溶胶,并使用提拉法在K9玻璃基片上镀制了疏水减反膜。通过透射电镜(TEM)考察了镀膜溶胶的微结构,分别使用红外光谱(FTIR)分析了薄膜的组分,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌和起伏状况,用紫外可见光谱(UV-vis)考察了薄膜的减反射性能,用接触角仪测量了薄膜对水的接触角。并使用“R-on-1”的方式测量了薄膜在Nd:YAG激光(1 064 nm,1 ns)作用下的损伤阈值。结果表明,通过共水解缩聚反应可以把甲基引入镀膜溶胶簇团中,改善了溶胶簇团的网络结构,使薄膜得到相当好的疏水性能和更好的抗激光损伤性能,同时薄膜能保持较好的减反射性能。 相似文献
17.
18.
以CF4和C6H6的混合气体作为气源,在微波电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)装置中制备了氟化非晶碳薄膜(aC:F),并在N2气氛中作了退火处理以考察其热稳定性.通过傅里叶变换红外吸收谱和紫外可见光谱获得了薄膜中CC双键的相对含量和光学带隙,发现膜中CC键含量与光学带隙之间存在着密切的关联,在高微波功率下沉积的氟化非晶碳膜具有低的光学带隙和较好的热稳定性.
关键词:
氟化非晶碳膜
光学带隙
退火温度
热稳定性 相似文献
19.
为了准确计算出镀膜过程中每层膜的折射率,介绍了实时监控过程中确定膜层折射率的2种方法:一种是由实测的透射比光谱直接反算出膜层的折射率;另一种是用最小二乘法的优化算法实时拟合折射率。试验结果表明:在线反算适合单点监控,所得折射率误差小于2%。然而在实际镀膜过程中,由于宽带内膜层参数误差较大,一般大于25%。为此,采用最小二乘法拟合,即在整个宽光谱范围内采集每个波长点的信息,所得结果误差很小,一般都在2%~5%之间,有时可达到10%,在很大程度上提高了实际镀膜时膜厚监控的精度。 相似文献
20.