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31.
对不同的本底真空条件下,采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术沉积的氢化微晶硅(μc_Si∶H)薄膜中的氧污染问题进行了比较研究.对不同氧污染条件下制备的薄膜样品的x射线光电子能谱与傅里叶变换红外吸收光谱测量结果表明:μc_Si∶H薄膜中,氧以Si—O,O—O和O—H三种不同的键合模式存在,不同的键合模式源自不同的物理机理.μc_Si∶H薄膜的Raman光谱、电导率与激活能的测量结果进一步显示:沉积过程中氧污染程度的不同,对μc_Si∶H薄膜的结构特性与电学特性产生显著影响;而不同氧污染对μc_Si∶H薄膜电学特性的影响不同于氢化非晶硅(a_Si:H)薄膜.
关键词:
氢化微晶硅薄膜
甚高频等离子体增强化学气相沉积
氧污染 相似文献
32.
33.
代数$A$ 称为不可分解的,如果 $A$ 不能分解成理想的直和.文中将证明满足$C(L_{\bar{0}})=C(L)=\{0\}$的限制李超代数能够分解成不可分解限制理想的直和,这种分解在不计理想次序的前提下是唯一的.而且还证明了限制李超代数的一些结果. 相似文献
34.
35.
36.
本文探索了聚丙烯酰胺功能化树脂对人血清免疫球蛋白的吸附。丙烯酰胺共聚物在甲醛作用下,与α—氨基酸相连,能够选择性吸附人血清免疫球蛋白。通过实验发现:交联剂占单体用量10%的共聚物连接D,L—脯氨酸和L—酪氨酸所制备的免疫吸附剂,有较大的吸附量和较好的选择性。本文利用单向免疫扩散法测定吸附前后免疫球蛋白量的变化。 相似文献
37.
本文着重研究OU-型Markov过程的两个问题:第一,关于单点击中概率的问题,并在此基础上进一步确定OU型Markov过程局部时的存在性条件,这个问题的研究是受Kesten,H的影响,但本文中所用方法与[1]有本质的区别。第二,关于Range方面的问题,本文阐述了几类过程以概率1具有包含区间的Range。 关于OU型Markov过程,Tokuzo,Shiga研究了其常返性的判断准则,Sato,K研究了其平稳分布,Hadjiev,D,I,研究了其初遇问题,本文涉及的单点击中概率,局部时及Range尚没人研究过。 相似文献
38.
39.
本文给出Om×GLn作用于Cm,n上的复多项式环上的最高权向量环的Krull维数公式,从而改正了Aslaksen,Tan及Zhu的一个错误. 相似文献
40.