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A two-dimensional, nonlinear, compressible, diabatic, nonhydrostatic photochemical-dynamical gravity wave model has been advanced. The model includes diabetic process produced by photochemistry and the effect of gravity wave on atmospheric chemical species. In the horizontal direction, the pseudospectral method is used. The finite difference approximations are used in vertical direction z and time t. The FICE method is used to solve the model. The model results on small amplitude fluctuation are very close to those of linear theory, which demonstrates the correctness of the model.
相似文献44.
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采用基于第一原理的全势能线性缀加平面波加局域轨道((L)APW lo)方法对Nd(Fe,Si)11Cx化合物(x=0,2)的电子结构进行了计算,得到了化合物态密度和磁矩等信息.计算结果表明NdFe9Si2化合物中Si原子主要与4b和32i位Fe原子产生杂化,导致Fe原子磁矩减小.NdFe9Si2C2化合物C原子使32i位Fe原子磁矩进一步降低,同时减弱了Si原子的影响,使得4b位Fe原子磁矩增大. 相似文献
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A new method is introduced to generate a elliptical hollow beam inside a cavity. Using a matrix eigenvalue method, the laser resonator with optical diffraction elements is theoretically analyzed and simulated. A elliptical hollow beam of good quality is realized experimentally. The interaction between linearly polarized elliptical hollow beam and a two-level atom is investigated theoretically. Although the linearly polarized elliptical hollow beam does not carry angular momentum, it can produce very high torque. The atoms initially at rest and located at off-beam- axis positions will rotate under the drive of the torque of the beam. The atomic motion trajectory in the field of elliptical hollow beam has been demonstrated. The study shows that the elliptical hollow beam might be a useful tool in the study of vortex property of Bose-Einstein condensate or ultra cold atom media. 相似文献
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Bo Jin Xi Wang Jing Chen Feng Zhang Xinli Cheng Zhijun Chen 《Applied Surface Science》2006,252(16):5627-5631
The oxidation of SiGe film epitaxial grown on top of SOI wafers has been studied. These SiGe/SOI samples were oxidized at 700, 900, 1100 °C. Germanium atoms were rejected from SiGe film to SOI layer. A new Si1−xGex (x is minimal) layer formed at SiGe/Si interface. As the germanium atoms diffused, the new Si1−xGex (x is minimal) layer moved to Si/SiO2 interface. Propagation of threading dislocation in SiGe film to SOI substrate was hindered by the new SiGe/Si interface. Strain in SOI substrate transferred from SiGe film was released through dislocation nucleation and propagation inner. The relaxation of SiGe film could be described as: strain relaxed through strain equalization and transfer process between SiGe film and SOI substrates. Raman spectroscopy was used to characterize the strain of SiGe film. Microstructure of SiGe/SOI was observed by transmission electron microscope (TEM). 相似文献
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给出了线和n-2的n阶(0,1)-矩阵的最大积和式的积分表达式,并证明了该积分表达式与[1]得到的组合表达式等价。 相似文献