过硫酸铵水溶液对聚乙烯表面作用的研究

本文利用X光电子能谱(XPS)及其它技术对过硫酸铵水溶液处理聚乙烯表面改进粘合性的作用机理进行了研究。结果表明,过硫酸铵的氧化作用使聚乙烯表面引入酮、醛、羧基等含氧基团,使其粘合强度显著提高。高密度聚乙烯表面的氧化深度小于40,低密度聚乙烯的均匀氧化深度在40—90之间。处理后的聚乙烯表面未发现明显的交联产物。     

负离子光电子能谱技术发展及应用

负离子光电子能谱已经成为探索光谱和化学动力学基础问题的最为重要的技术之一。本文简要介绍了负离子光电子能谱的发展历史,回顾了负离子光电子能谱发展过程中的几种主要技术,包括为了提高分辨率而开发出的零动能能谱和慢电子速度成像技术以及为在气相条件下研究多电荷负离子及其对应中性分子电子特性而开发的电喷雾源与负离子光电子能谱结合的技术。随后介绍其在锕系元素及化合物、含铍化合物的电子结构及成键特征研究中的应用及进展。     

俄歇电子能谱简介

最近十年中,固体表面分析方法获得了迅速的发展,它是目前分析化学领域中最活跃的分支之一。它的发展与催化研究、材料科学和微型电子器件研制等有关领域内迫切需要了解各种固体表面现象密切相关。各种表面分析方法的建立又为这些领域的研究创造了很有利的条件。在表面组分分析方法中,除化学分析用电子能谱(ESCA)以外,俄欧电子能谱是最重要的一种。目前它已广泛地应用于化学、物理、半导体、电子、冶金等有关研究领域中。本文简单介绍俄歇电子能谱(以下简称 AES)的原理、仪器和化学应用。     

MoS2的水热合成及其润滑性能

利用水热合成法在相对较低的反应温度(200 ℃)和较短的反应时间(24 h)内合成了MoS2.采用透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)分析了合成的纳米MoS2的结构.同商品MoS2（平均颗粒直径为3～5 μm）进行了摩擦学性能对比，并利用俄歇电子能谱(AES)深度剖析和XPS分析了MoS2作为润滑剂在钢磨损表面的粘着成膜作用及润滑机理.结果表明,该水热合成的产品具有较商品MoS2更低的摩擦系数，适合在大载荷、长时间工作状况下使用.     

铝合金表面稀土多元共渗及抗腐蚀性能的研究

用化学法,通过固—气界面反应,在铝合金(LY12)表面进行稀土及碳、氮等元素的多元共渗。采用离子探针、俄歇能谱、x光电子能谱及比色分析等方法,分析共渗后铝合金的表面成分及相对含量。结果证实,稀土元素确已渗入铝合金表层,并对碳、氮元素有助渗作用;稀土多元共渗铝合金表面电位分布趋向均匀;抗晶间腐蚀和抗应力腐蚀性能均有显著提高。     

薄膜CdSe及CdSexTe1-x电极的光电子能谱研究

用X射线光电子能谱(XPS)研究了不同含氧气氛中烧结的薄膜CdSe及Cdse_xTe_1-x电极表面,以及薄膜与Ti底基之间的界面。研究中发现,二种薄膜电极的表面形成了CdO,SeO₂及TeO₂氧化物,与薄膜接触的Ti底基表面上形成了TiO₂。用俄歇电子能谱(AES)对在电极表面及Ti表面所生成的氧化层分别进行了深度分析。结果表明,各种氧化物形成的程度有很大的不同,氧化层厚度也存在差异。对影响薄膜电极的光电性能的因素进行了讨论。     

二氧化碳在铜表面的吸附研究及其光致分解

使用X光电子能谱(XPS)及高分辨电子能量损失谱(HREELS)研究了二氧化碳在铜表面的吸附及其光化学反应.通过实验条件控制将物理吸附及化学吸附的二氧化碳吸附物种分别分离在规整铜表面及无序铜表面上,并使用193 nm激光对其照射研究其相应的光化学反应.结果表明只有化学吸附的二氧化碳物种在光诱导下发生了解理反应,而物理吸附的二氧化碳未发生反应.     

原子层沉积机理的原位光电子能谱研究进展

原子层沉积是一种新兴的气相薄膜沉积方法,已广泛应用于微电子、能源、光学以及催化等领域.研究和理解原子层沉积过程中的物理化学机理对于沉积高质量薄膜及其应用至关重要.光电子能谱作为一种表面分析技术,可用于原位检测原子层沉积反应过程中的表面化学变化,为原子层沉积机理研究及新型原子层沉积方法的研发提供重要的基础.本文首先介绍了原位光电子能谱的工作原理及设备构造,之后分类阐述了应用原位光电子能谱在薄膜生长过程的表面化学反应机理、初始生长过程的基底效应、薄膜生长行为模式研究、前驱体表面热解过程及影响以及界面能带结构等原子层沉积机理方面的研究进展,最后展望了光电子能谱在未来原子层沉积机理研究中的发展方向.     

上海市测试中心邀请美国表面分析专家讲学

美国材料测试学会(ASTM)表面分析专业委员会主任、美国真空学会表面分析专业委员会主任、美国国家标准局表面科学室主任鲍威尔博士(C·J·Powell)应上海市测试中心邀请于84年5月22日至6月8日来沪作“电子能谱表面分析”讲学座谈。参加者有全国从     

ESCA法的进展

自从六十年代末电子能谱法进入实用阶段以来,无论在理论、实验技术和应用等方面都得到了迅速的发展。电子能谱的奠基人——瑞典Uppsala大学的Siegbahn教授于1981年获得了诺贝尔奖金。电子能谱法的基本测量过程是用一种激发源(光子或电子)照射样品后测量从样品发射出来的电子的能量分布,从中得到有关的信息。根据激发源的不同,电子能谱法可分为紫外光电子能谱(UPS),X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)等分支。由于XPS法对化学分析最有用,又称为化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for ChemicalAnalysis),缩写为ESCA。有关电子能谱法的基本原理、实验技术和各种应用,国内已有     

多晶铑表面上碳氧共存体系的研究

用紫外光电子能谱（ＵＰＳ）和俄歇电子能谱（ＡＥＳ）对碳氧共存的多晶铑表面及ＣＯ、Ｏ_２、Ｃ_２Ｈ_４在该表面上的吸附进行了研究，发现铑表面上共存的表面碳和表面氧存在相互作用，由于表面氧的存在，外来吸附物如ＣＯ、Ｏ_２、Ｃ_２Ｈ_４等可以覆盖在表面碳上面，使表面碳占据表面位抑制其它物种吸附的屏蔽效应消失。该表面具有氧化性，可以把吸附的乙烯氧化。     

气态肼的三种电子能谱和量子化学研究

本文应用X射线光电子能谱技术测得了气态肼的内层电子能谱、Auger电子能谱和价带电子能谱,对其电子结构进行了系统研究。又采用了不同能量的X射线为激发源,对比了Mg Ka 和 Zr M:价带能谱,定性地获得了肼的分子轨道的组成。本文对肼电子能谱进行了量子化学研究,用从头计算法给出了分子轨道波函数的成分,并指认了能谱,实验结果和计算值之间的一致性很好。     

清洁及部分氧化的Ni3Ti(0001)表面CO吸附的HREELS研究

用离子散射谱，俄歇电子能谱及低能电子衍射技术对Ｎｉ３Ｔｉ表面结构与组成进行考察后，主要采用高分辨电子能量损失谱，以ＣＯ为探针分子研究了清洁及部分氧化Ｎｉ３Ｔｉ，表面上Ｎｉ，Ｔｉ间的相互作用及对ＣＯ吸附态的影响。     

空气敏感样品的电子能谱测定方法

电子能谱用于化学分析,常遇到测定一些特殊试样。如某些金属有机化合物在进样测试过程中遇潮气、氧气等就会分解或改变中心原子的化合价;有些经特殊处理的样品(如某些催化剂),其表面不宜暴露于空气;有些化学反应中间体不能与空气接触。为了适合于这些样品的测定,设计了一套隔离空气的进样装置。本装置成功地用于镧系金属有机络合物电子能谱的研究,并证明二茂镧系金属(钆、镝、钬、铒、镱和镥等)氯化物与2,2′联吡啶之间形成配位键。还测定了茂基钕与邻-菲啰啉形成的络合物,含磷钛酸酯等,最近对有机硼化合物也有应用。能谱测试国产NP-1型X射线光电子能谱仪,用MgK_αX     

金属铌表面氧化物的热稳定性研究

在早期人们认为金属铌只有在高温下才氧化,后来用表面分析方法对金属铌氧化作用的研究结果表明,它在室温下也能氧化。本文用X光电子能谱(XPS)研究了金属铌的氧化行为及其氧化物的热稳定性,发现金属铌的室温表面Nb_2O_5在真空中加热时能转变成金属Nb及其低价氧化物,而高温表面Nb_2O_5在同样条件下则不能转变成金属或其低价氧化物。     

XPS、AES研究卤素对铬酸电沉积的活化作用

测定了卤素-铬酸-硫酸体系中铬的电沉积效率及阴极极化曲线;XPS、AES测定了该体系中形成的阴极膜的组成。结果表明,硫酸能有效地催化光亮铬的形成,F~-、Cl~-能显著地提高铬沉积的电流效率;除Br~-外,F~-、Cl~-均参加成膜;膜的深度剖析曲线表明,卤素分布在膜的深层,SO_4~(2-)集中在膜的表面。由此可推测,F~-、Cl~-在金属表面和铬酸的还原产物重铬酸铬形成易发生电子转移反应的表面过渡态配合物,[Cr~Ⅲ-X-Cr~Ⅲ]~≠。     

铭酸溶液中金属铬电沉积的机理

从铬酸溶液中电沉积金属铬的机理曾经有过不少探索.许多研究者认为,阴极表面形成难溶的膜层金属铬的电沉积起着关键性的作用.本文应用交流阻抗谱研究金属铬电沉积过程中阴极表面膜的形成,利用X光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)分析了表面膜的组成,并且对SO_4~(2-)的作用进行了初步的探讨。     

钛醚络合物对3TiCl_3·AlCl_3催化剂表面结构的影响

本实验应用光电子能谱、红外光谱、核磁共振及溶剂剥离等方法证实了钛醚络合物可与3TiCl_3·AlCl_3催化剂发生固相反应。 TiCl_4·2Et_2O+2AlCl_3→TiCl_4+2AlCl_3·Et_2O 经钛醚络合物处理后的催化剂表面可用三层结构模型近似。钛醚络合物以其给电子体和Lewis酸两种组份影响着催化剂的性能。给电子体组份仍可产生诱导迁移作用,伴随固相反应还出现局域配位环境的变化,产生新的表面缺陷,这些皆有益于反应产物(四氯化钛)的键合负载。最后对高效载体型催化剂的研制也提出了一些设想。     

表面分析标准参考物质

表面分析是近十多年来迅速发展的新型分析技术。它被广泛应用于半导体、催化、冶金、腐蚀、钝化、涂膜、粘合、摩损以及晶体生长、渗杂、注入、外延等领域。据统计,表面分析技术已多达五十余种,其中最常用的是俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱     

氧化钛基深度氧化催化剂的耐硫中毒研究

考察了特定组成的Ti-Cu,Ti-Mn氧化物催化剂在甲苯深度氧化反应中二氧化硫存在下的硫中毒效应,用红外光谱和X射线电子能谱研究了催化剂表面硫中毒的原因。考察了Ti-Cu氧化物催化剂在被二氧化硫中毒前后,甲苯深度氧化催化反应动力学。在氧恒压且大大过量的条件下,催化剂中毒前后的反应速度均可用r=KPC_7H_8/(1+PC_7H_8)~2描述,催化剂中毒后仅表观活化能增大。