原子层沉积机理的原位光电子能谱研究进展

原子层沉积是一种新兴的气相薄膜沉积方法,已广泛应用于微电子、能源、光学以及催化等领域.研究和理解原子层沉积过程中的物理化学机理对于沉积高质量薄膜及其应用至关重要.光电子能谱作为一种表面分析技术,可用于原位检测原子层沉积反应过程中的表面化学变化,为原子层沉积机理研究及新型原子层沉积方法的研发提供重要的基础.本文首先介绍了原位光电子能谱的工作原理及设备构造,之后分类阐述了应用原位光电子能谱在薄膜生长过程的表面化学反应机理、初始生长过程的基底效应、薄膜生长行为模式研究、前驱体表面热解过程及影响以及界面能带结构等原子层沉积机理方面的研究进展,最后展望了光电子能谱在未来原子层沉积机理研究中的发展方向.     

石墨炉内石墨探针表面上的原子化机理研究 III. 铬的原子化机理

本文利用探针原子化技术, 研究了普通管式石墨炉内石墨探针表面上铬化合物的原子化过程。X射线衍射分析(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、化学分析光电子能谱分析(ESCA)与石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)测量的综合结果表明, 铬化合物在灰化阶段即可转化为稳定的碳化物, 最后由碳化物的热分解生成气态铬原子。     

石墨炉内石墨探针表面上的原子化机理研究 III. 铬的原子化机理

本文利用探针原子化技术, 研究了普通管式石墨炉内石墨探针表面上铬化合物的原子化过程。X射线衍射分析(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、化学分析光电子能谱分析(ESCA)与石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)测量的综合结果表明, 铬化合物在灰化阶段即可转化为稳定的碳化物, 最后由碳化物的热分解生成气态铬原子。     

宋代绿釉陶表面“银釉”的分析及其形成机理

银釉是古代铅釉陶瓷器表面较为常见一种病变。利用扫描电子显微镜能谱、X射线衍射、傅立叶红外光谱、光电子能谱等测试技术,分析了湖北黄冈地区出土宋代绿釉陶表面银釉的成分和结构。结果发现,银釉中富含钙(5.1%～9.2%)、磷(4.6%～9.2%)、铅(56.9%～70.5%)等元素,并有Pb10-xCax(PO4)(OH)2(x<2.7)物相存在。结合其出土前(弱酸性的土壤)埋藏环境,推测银釉应为土壤中羟磷灰石及各种磷酸化合物与釉陶表面Pb2 发生化学反应的产物。     

辉光放电电解等离子体处理制备铁基表面超疏水材料

利用辉光放电电解等离子体技术对铁基底表面进行活化,经硬脂酸修饰,得到铁基底超疏水性材料。 考察了放电电压、放电时间、Na2SO4浓度以及硬脂酸乙醇溶液浓度对铁基超疏水表面性能的影响。 用接触角仪、X射线光电子能谱、红外光谱和扫描电子显微镜测试技术对铁表面的浸润性、表面元素组成结构以及表面形貌进行了表征和分析。 结果表明,经修饰的铁基底表面具有良好的疏水性,其水接触角高达154°,滚动角小于5°,且具有良好的稳定性。     

连续纤维增强含二氮杂萘酮联苯结构聚芳醚砜酮树脂基复合材料的界面

利用射频感性耦合冷等离子体(ICP)处理技术改性连续纤维表面,分别采用X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)及动态接触角分析(DCA)系统研究了等离子体处理时间、放电气压、放电功率等工艺参数对连续碳纤维、芳纶纤维和对亚苯基苯并二噁唑(PBO)纤维的表面化学成分、表面形貌、表面粗糙度及表面自由能的影响.研究结...     

X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用

X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对改进材料的摩擦学性能起到理论的指导作用.作者主要介绍XPS技术的基本原理,及其在高分子与复合材料摩擦学性能研究中的应用.     

电子能谱深度剖析技术的应用和发展

表面科学及其应用只有二十年左右的历史,如今它已成为当代科学八大生长点之一。电子能谱深度剖析技术在表面科学及其应用中,占有重要地位。本文将就:一、电子能谱深度剖析的意义;二、深度剖析的方式及实施;三、应用举例;四、相对浓度及剖析深度的求算;五、存在问题等五个方面进行简要介绍。     

铝合金表面稀土多元共渗及抗腐蚀性能的研究

用化学法,通过固—气界面反应,在铝合金(LY12)表面进行稀土及碳、氮等元素的多元共渗。采用离子探针、俄歇能谱、x光电子能谱及比色分析等方法,分析共渗后铝合金的表面成分及相对含量。结果证实,稀土元素确已渗入铝合金表层,并对碳、氮元素有助渗作用;稀土多元共渗铝合金表面电位分布趋向均匀;抗晶间腐蚀和抗应力腐蚀性能均有显著提高。     

上海多国仪器仪表展览会的表面分析谱仪

今年四月在上海举行的多国仪器仪表展览会上,英国VG公司和KRATOS公司展出了ESCALAB—MK2和XSAM—800测表面元素组份的多功能谱仪,都具有X射线光电子能谱(XPS或称ESCA)、俄歇电子能谱(AES)、二次离子质谱(SIMS)三种主要的表面分析功能,能全面、准确地提供分析结果。     

MAPLE膜的制备及其X射线光电子能谱研究

MAPLE（matrix—assisted pulsed laser evaporation）技术是近年来发展起来的一门有机薄膜制备技术,与传统的有机薄膜制备技术相比,具有优越的技术特点．在非线性光学材料、发光器件、电磁材料和各种传感器方面都有着广泛的应用前景．利用MAPLE技术成功制备了聚酰亚胺薄膜,并利用X射线光电子能谱对其表面进行了分析．光电子能谱结果显示,在低激光能量密度时,单光子效应明显,化学键断裂,发生分解,不利于薄膜的制备．而在高激光能量密度时,单光子效应降低,多光子效应和光热效应增强,聚酰亚胺的结构得到保护,分解明显减弱．     

唐代铜佛像表面残片的拉曼光谱分析

本文利用共聚焦显微拉曼光谱(CRS)结合扫描电镜-X射线能谱(SEM-EDS)技术对唐代一铜佛像的表面成分、形态及元素组成进行了分析.结果显示,该铜佛像主要是由Cu- Pb- Sn三元青铜合金组成,表面腐蚀物主要是由氧化铜,氧化亚铜,碱式碳酸铜,氧化铅,氧化锡,碳酸铅和氯化铅组成,这些成分在空气中都比较稳定,不会再对铜...     

元素在石墨炉内石墨探针表面上的原子化机理研究(ⅩⅣ)─钐的原子化机理

综合运用X射线衍射、X射线光电子能谱与俄歇电子能谱等表面分析手段研究了石墨炉中石墨探针表面钐样品的原子化过程。发现在石墨炉升温过程中,钐样品先转化为Sm₂O₃,再由Sm₂O₃热分解为SmO,原子化起源于SmO的热分解;在Sm₂O₃与探针接触的表面有碳化物生成,碳化物是造成记忆效应的重要原因。     

元素在石墨炉内石墨探针表面上的原子化机理研究（ⅩⅣ）—钐的…

综合运用Ｘ射线衍射、Ｘ射线光电子能谱与俄歇电子能谱等表面分析手段研究了石墨炉中石墨探针表面钐样品的原子化过程。发现在石墨炉升温过程中，钐样品先转化为Ｓｍ２Ｏ３，再由Ｓｍ２Ｏ３热分解为ＳｍＯ，原子化起源于ＳｍＯ的热分解；在Ｓｍ２Ｏ３与探针接触的表面有碳化物生成，碳化物是造成记忆效应的重要原因。     

银焊铜合金制品化学抛光的研究

本文通过x-射线光电子能谱(XPS)、x射线能量色散显微分析(EDXM)、x-射线衍射分析(XRD)和透射电镜(TEM),对经混合酸抛光前后的铜/铜合金制品进行了表面分析,发现导致焊缝表面变黑的原因是由于存在Ag_2SO_4、Ag_2O和Ag颗粒。     

目前多相催化研究的进展(摘要)

研究反应条件下的催化剂表面和表面吸附态是当前多相催化基础研究中引人注目的领域。随着超高真空技术(10~(-8)托以上)的完善和电子能谱技术的发展,多相催化研究正在朝着分子催化的目标前进。反应物在催化剂表面上的吸附是催化反应的前奏。各种洁净金属表面对不同气体的吸附     

分析测试效果选登

一、钢丝子午线轮胎钢丝帘线表面研究钢丝子午线轮胎的关键技术之一,是提高钢丝帘线与橡胶的粘合力。上海市测试技术研究所1982年与上海钢丝厂、大中华橡胶厂鉴定了“钢丝子午线轮胎内的钢丝帘线的表面研究”合同,对国产不同工艺的镀铜钢丝帘线的黄铜界面、剖面成份分布曲线进行电子能谱分析并与国外样品作了比较,找出了国产钢丝粘合力低的原因,摸索出有利粘合的合理工艺和     

俄歇电子能谱简介

最近十年中,固体表面分析方法获得了迅速的发展,它是目前分析化学领域中最活跃的分支之一。它的发展与催化研究、材料科学和微型电子器件研制等有关领域内迫切需要了解各种固体表面现象密切相关。各种表面分析方法的建立又为这些领域的研究创造了很有利的条件。在表面组分分析方法中,除化学分析用电子能谱(ESCA)以外,俄欧电子能谱是最重要的一种。目前它已广泛地应用于化学、物理、半导体、电子、冶金等有关研究领域中。本文简单介绍俄歇电子能谱(以下简称 AES)的原理、仪器和化学应用。     

聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究

为了使聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有较稳定的亲水性表面,利用氧等离子体技术对PDMS表面进行处理。研究了氧等离子体处理PDMS表面的时间、功率、氧气流量等参数对表面亲水性的影响,通过接触角测量和X-射线光电子能谱(XPS)对处理效果进行了评价。实验表明:PDMS经氧等离子体处理后放置700 h的表面接触角为72°,达到了持久改性的目的;XPS分析表明,表面亲水性的改善主要是由于表面极性成分的增加,最后讨论了氧等离子体处理PDMS表面的改性机理。     

上海市测试中心邀请美国表面分析专家讲学

美国材料测试学会(ASTM)表面分析专业委员会主任、美国真空学会表面分析专业委员会主任、美国国家标准局表面科学室主任鲍威尔博士(C·J·Powell)应上海市测试中心邀请于84年5月22日至6月8日来沪作“电子能谱表面分析”讲学座谈。参加者有全国从