BaFCl_（x）Br_（1－x）：Sm~（2＋）中_（5）D_2→~（7）F_

本文以ＢａＦＣｌｘＢｒ－１－ｘ：Ｓｍ２＋Ｄ２→７Ｆ０的跃迁几率随ｘ变化为中心对ＢａＦＣｌｘＢｒ－１－ｘ：Ｓｍ２＋体系４ｆ５ｄ带的激发光谱、５Ｄ２→７Ｆ０跃迁的荧光衰减随温度的变化特性、５Ｄ２→７Ｆ０的跃迁几率等进行了研究．从而得出结论：在ＢａＦＣｌｘＢｒ１－ｘ：Ｓｍ２＋中，随Ｂｒ含量的增大，４ｆ５ｄ带与５Ｄ２能级更加接近，使７Ｆ０→Ｄ２的吸收截面增大，从而可能提高在５Ｄ２：能级烧孔的效率．     

基态N2O2分子的多体项展式势能函数

本文利用顺式Ｎ２Ｏ２分子的实验测定几何，离解能和振动光谱常数，求得了以单值表面近似方法表示的基态Ｎ２Ｏ２分子的多体项展式势能函数，它具有正确的解离极限和等价原子变换对称性，根据该函数讨论了Ｏ（＾１Ｄ）与Ｎ２Ｏ（Ｘ＾１∑）分子反应碰撞的势能面静态特征。结果表明：在Ｏ（＾１Ｄ）＋Ｎ２Ｏ（Ｘ＾１∑）→２ＮＯ（Ｘ＾２Пｒ）反应路径上存在一个势阱和一个后置势垒。     

ZrO2在Rh/γ-Al2O3催化剂中对NO催化还原反应的作用

测定了含ＺｒＯ２的Ｒｈ／γ－Ａｌ２Ｏ３催化剂上ＮＯ＋Ｃ２Ｈ４和ＮＯ＋Ｃ２Ｈ４＋Ｏ２的反应活恬性,并应用ＴＰＲ、ＸＲＤ、ＢＥＴ比表面等表征了ＺｒＯ２的加入方式和晶型对Ｒｈ／γ／Ａｌ２Ｏ３催化剂活性和结构的影响。结果表明,ＺｒＯ２的加入一定程度也抑制了Ｒｈ＾３＋与γ－Ａｌ２Ｏ３之间的相互作用和Ａｌ２Ｏ３的相变,提高了催化剂的热稳定性,明显提高了８５０℃老化样品的ＮＯ＋Ｃ２Ｈ４反应活性。对于ＮＯ＋Ｃ２     

Pt/CeO2-ZrO2/Al2O3催化剂的光谱表征

利用拉曼光谱表征了不同方法添加ＣｅＯ２－ＺｒＯ２混合氧化物对Ｐｔ／Ａｌ２Ｏ３催化剂的影响,并采用了ＸＲＤ,Ｈ２化学吸附,ＢＥＴ表征了相应的分散度影响。结果表明：Ｃｅ、Ｚｒ、与金属Ｐｔ存在着强的相互作用,而ＣｅＯ２－ＺｒＯ２以盐的形式加入时,高度分散在Ａｌ２Ｏ３载体上,提高贵金属Ｐｔ的分散度,进而提高了反应的活性。     

晶体Sr_2Cu（HCOO）_6·8H_2O作为先驱物制备Sr_2CuO_2（C

应用ＳｒＣＯ３和ＣＵ（ＮＯ３）·３Ｈ２Ｏ从甲酸溶液中制备出晶体Ｓｒ２Ｃｕ（ＨＣＯＯ）６·８Ｈ２Ｏ，用这一晶体作为先驱物，石英管式炉中，８２５℃烧结六小时，得到单相的Ｓｒ２ＣｕＯ２（ＣＯ３）．通Ｎ２气体，８５０℃烧结十小时，得到Ｓｒ２ＣｕＯ３．Ｓｒ２ＣｕＯ２（ＣＯ３）是形成Ｓｒ２ＣｕＯ３的一种中间相．     

CuO／ZrO2催化剂活性组分与载体相互作用的研究

用多种物理化学手段，对不同方法制备的ＺｒＯ２上分散的氧化铜体系进行较细致的表征和比较，结果表明，从己晶化的ＺｒＯ２和Ｚｒ（ＯＨ）４出发制得的催化剂性能上存在明显差异，并发现ＺｒＯ２上分散的氧化铜由于相互作用而具有显著的易还原和表面氧易脱出的特性，从而导致ＣｕＯ／ＺｒＯ２催化剂体系具有高的ＣＯ氧化活性。     

聚异亚甲亚胺分子间氢键的形成及其对导电性能的影响

采用量子化学ＭＮＤＯ、ＣＮＤＯ／２－ＣＯ方法，探讨了聚异亚甲亚胺（ＨＣ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ）ｘ分子链间Ｎ…Ｈ－Ｃ型氢键形成的可能性和氢键构成，分析了这种氢键影响高聚物导电性能的规律。     

氮氧化合物在铜,银,镍,钯,铂面的吸附,脱附理论研究

采用ＡＳＥＤ－ＭＯ量子化学方法对氮（Ｎ２）和氮氧化合物（ＮＯｘ）在Ｃｕ,Ａｇ,Ｎｉ,Ｐｄ,Ｐｔ５种金属（１１１）面上的吸附态进行了系列研究,计算结果表明：在汽车尾气净化的催化处理过程中,当用铜,银,镍,钯,铂等金属作催化剂将ＮＯｘ转化为Ｎ２时,以金属Ｐｔ为最好。用铂作催化剂将ＮＯ还原成Ｎ２时,可得如下反应机理：ＮＯ分子首先吸附在Ｐｔ表面,然后吸附分子ＮＯ的Ｎ－Ｏ键中Ｏ原子。     

不同气氛退火对Tl2Ba2CaCu2Ox超导电性的影响

本研究了Ａｒ气和Ｈ２／Ａｒ混合气体退火对Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ（２２１２）超导体超导电性的影响。实验表明，在Ａｒ气中４００℃退火１至１２小时后Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ的Ｔｃ（Ｒ＝０）随退火时间的增长明显降低。Ｘ－光衍射分析证实，在Ａｒ气或Ｈ２／Ａｒ混合气体中退火前后，Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ超导体的结构没有发生变化。     

在SrTiO3、LaAlO3和Y-ZrO2衬底上外延生长La1.85Sr0.15CuO4、La2CuO4和Nd1.85Ce0.15CuO4、Pr2CuO4薄膜

利用脉冲激光法研究了在（１００）ＳｒＴｉＯ３（ＳＴＯ）、（１００）ＬａＡｌＯ３（ＬＡＯ）和（１００）Ｙ－ＺｒＯ２（ＹＳＺ）衬底上外延生长ＬａＣｕＯ４（ＬＣＯ）,Ｌａ１．８５Ｓｒ０．１５ＣｕＯ４（ＬＳＣＯ）,Ｎｄ１．８５Ｃｅ０．１５ＣｕＯ４（ＮＣＣＯ）和Ｐｒ２ＣｕＯ４（ＰＣＯ）薄膜的工艺技术。利用Ｘ光衍射仪检测了不同条件下制备的薄膜样品结构和取向。Ｘ射线衍结果表明,在事适的制膜条件下可以在这三种衬底     

非晶和纳米ZrO2,ZrO2:Y发光研究

利用共沉淀法制备了非晶和纳米ZrO2和ZrO2:Y(7%)。通过X射线衍射对其晶化过程的结构变化进行了表征，并在不同温度和气氛下进行处理，研究了对其发光性质的影响。结果表明发射谱由一个Gaussian带（峰值2．69eV)和一个非对称带（峰值3.12eV）构成，它们对应的发光中心分别为F^ 心和（F－F）^ 心。非晶样品的发光强度比纳米晶样品强，发光强度主要受氧空位的浓度和晶粒尺寸的影响，随着处理温度的升高，两者竞争的结果综合地影响了发光强度。     

The Effect of ZrO2 Interphase on Interfacial Frictional Stresses in SiC/ZrO2/SiCf Composites

Two types of SiC fiber tows (Hi-Nicalon? and Hi-Nicalon S?) were coated with stabilized ZrO₂ and composited using preceramic polymer impregnation pyrolysis to form SiC/SiC_f minicomposites. Properties of the fiber/matrix interface in composites were investigated using the indentation method in which a pyramidal indenter was used to push on an individual fiber and cause sliding at the interface. The interfacial frictional stresses were determined from the force–displacement relation. The composites reinforced by the ZrO₂-coated fibers have smaller interfacial frictional stresses than composites reinforced by the initial fibers and show fibers sliding relatively more easily with respect to the SiC matrix.     

The Structure and Optical Properties of Thin ZrO2, ZrO2–Y2O3, and ZrO2–Fe2O3 Films

Russian Physics Journal -     

有机-无机复合ZrO2-SiO2平面光波导

采用溶胶-凝胶法合成ZrO2-SiO2有机一无机复合光波导材料,通过改变其中ZrO2的含量来调节材料的折射率,使材料分别适用于平面光波导的导光层(ng≈1．497)和衬底层、包层(mb=nc≈1．479)。采用旋转涂膜工艺和相应的热处理,在单晶硅基片上制备衬底层、导光层和包层等薄膜,其中导光层介质因具有感光性而可通过紫外光刻来制备光路图案。所得有机一无机复合ZrO2-SiO2板型平面光波导(衬底层 导光层),用棱镜耦合截断法测试其光损耗在632．8nm波长处约为0．8dB／cm。对板型平面波导的导光层薄膜进行紫外光刻和异丙醇淋洗,制备出脊状光波导通道,在覆盖包层后,即获得埋层沟道式平面光波导。采用端耦合截断法测试了埋层沟道式平面光波导的光损耗(小于0．1dB／cm),并观察了其近场图像以及导光材料在近红外窗口的吸收光谱。     

Doping of ZrO2 by ion mixing

The morphology and structure of ZrO₂ films grown in steam-water medium on an ion-doped surface of zirconium and its E110 and E635 alloys have been studied. It has been found that the properties of oxide films are determined mostly by the conditions of ion-implantation doping at large oxidation times. It has been shown by the example of samples doped simultaneously with Al, Fe, Mo, and Y that the formation of a multiphase oxide film occurs due to the diffusion redistribution of implanted atoms during oxidation.     

层间热处理对SiO2/ZrO2双层膜的影响

 以正硅酸乙酯和丙醇锆为前驱体,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO₂/ZrO₂双层膜。采用不同实验步骤制备了2个样品,样品1镀完SiO₂后直接镀ZrO₂ ,样品2镀完SiO₂经热处理后再镀ZrO₂。采用原子力显微镜、椭偏仪、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征。针对SiO₂/ZrO₂双层膜,考虑到膜间渗透的影响,采用３层Cauchy模型进行椭偏模拟,椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现热处理可以使SiO₂/ZrO₂双层膜之间的渗透减少近23 nm,从而提高其峰值透射率。利用输出波长1.064 mm,脉宽8.1 ns的激光束对样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为13.6 J/c2和14.18 J/cm²,均为膜的本征损伤。     

Afterglow and thermoluminescence of ZrO2 nanopowders

A careful study of the phosphorescence afterglow and the thermoluminescence (TL) of sol-gel-prepared m-ZrO₂ nanocrystalline powders in an extended temperature range ?100 to 300 °C was carried out. Wavelength-resolved TL proved the existence of a single active luminescence centre in this temperature range. A TL method based on various heating rates was used to derive more reliable trap depths of 0.75, 0.95, 1.25, 1.46 and 1.66 eV whereas deconvolution methods provided somewhat lower values. The most intense room-temperature afterglows (that were easily observable beyond 1000 s) were obtained from samples annealed at 1250 and 1500 °C, and were attributed mainly to depopulation of the 1.25 eV traps.