分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.     

多层纳米Au/DPO薄膜的荧光特性

在低压直流溅射沉积的纳米Au薄膜表面喷涂有机固体晶体2,5-二苯基恶唑（DPO）,制成具有（Au+DPO）单元结构的多层纳米薄膜。利用XRD表征多层纳米薄膜的晶体结构,通过SEM表征各层薄膜的表面形貌,并测试了多层纳米薄膜的紫外荧光特性。与纯DPO薄膜相比,多层纳米薄膜的紫外荧光峰出现了5 nm的蓝移,而且DPO荧光峰形貌发生改变。在多层膜中,DPO薄膜的荧光强度与薄膜层数成反比关系,而纳米Au膜的荧光强度与薄膜层数成正比关系。SEM与XRD测试结果表明,多层薄膜中的DPO薄膜随着薄膜层数的增加逐渐成为无定型结构。DPO薄膜与纳米Au膜相互作用,导致其晶体结构异于单层薄膜,进而改变了其荧光特性。     

金属薄膜厚度小于电子自由程对其光反射率的影响

提出了金属薄膜厚度对薄膜中自由电子的平均自由程影响的物理模型,并给出了薄膜中自由电子的平均自由程的修正公式.理论研究表明:当膜厚小于自由电子的平均自由程时,薄膜中电子平均自由程随膜厚的减小而减小|当膜厚大于或等于自由电子的平均自由程时,薄膜中电子的平均自由程与块状材料一样.利用薄膜中电子平均自由程的计算公式,修正了薄膜导电率的基本理论表达式,再利用金属薄膜的反射率与薄膜导电率的关系,得出金属薄膜厚度对其光反射率的影响.计算机模拟表明:当薄膜厚度小于电子自由程时,金属薄膜反射率随薄膜厚度变化而呈非线性关系.     

X射线透射法测量膜厚

薄膜厚度不仅与薄膜的电导率有关,而且与薄膜的光学性能甚至表面结构密切相关. 薄膜厚度的测量精确有助于研究薄膜的物理性能. 本文利用X射线在材料中传播的特征设计了大学物理实验室测量薄膜厚度的方法.     

分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1－xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn_1-xMg_xO 薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试. 结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量，经数值拟合，导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线，为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn_1-xMg_xO 薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn_1-xMg_xO 薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据. 关键词： ZnMgO薄膜 偏振光椭圆率测量仪 折射率 分子束外延(MBE)     

外加偏置电场下类金刚石薄膜激光损伤形貌

使用非平衡测控溅射技术沉积了类金刚石薄膜,对比了外加偏置电场前后薄膜的抗激光损伤表面形貌变化,发现薄膜施加偏置电场后,薄膜的激光损伤区域内有大量丝状薄膜,损伤形貌存在明显不同,损伤面积减小,薄膜的激光损伤情况得到改善。这表明外加偏置电场对薄膜的损伤有影响,激光在薄膜中激励产生的光生电子在电场作用下产生快速漂移,间接降低了激光辐照区域内的局部能量密度,减缓了薄膜的石墨化,提高了薄膜的抗激光损伤能力。     

磁控溅射MO薄膜电阻率的原位研究

研究了磁控溅射Mo薄膜的电阻率与薄膜厚度的关系。对Mo薄膜的电阻率进行了原位测量,得到电阻率与薄膜厚度的实验曲线。经拟合计算得到Mo薄膜电阻率与薄膜厚度关系的理论曲线。将实验曲线与理论曲线比较,结果显示在薄膜厚度较大时,电阻率与薄膜厚度的关系与Fuchs-Sondheimer(F-S)理论基本符合,如果计入晶粒尺寸对电阻率的贡献则完全符合F-S理论。并得到Mo薄膜尚未形成连续性薄膜前的导电机制为热电子发射机制的结论。 关键词：     

二氧化硅纳米薄膜非平衡热导率研究

二氧化硅纳米绝缘薄膜的传热是靠声子在薄膜的振动实现的.声子在纳米薄膜结构中传输的非平衡性影响了薄膜的热导率,3ω实验方法是一种可以对薄膜热导率进行瞬时测量的方法,本文采用3ω方法分别测量低频率段和高频段的二氧化硅薄膜温升及二氧化硅薄膜的热导率,对二氧化硅薄膜的非平衡热导率进行了分析.     

沉积工艺对YbF_3薄膜可靠性的影响

从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响。研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收更少;薄膜太厚或沉积温度太高会加大YbF3薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落;离子束辅助沉积可以增加YbF3薄膜的附着力,改善薄膜的表面质量;随着离子束能量的增加,薄膜的应力先增大后减小。根据以上研究结果得出YbF3薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和高可靠性的宽光谱增透膜。     

热处理方式对ZAO薄膜结构以及电学性质的影响

采用溶胶-凝胶旋转涂敷方法在普通玻璃衬底上生长ZAO薄膜.每涂敷1层薄膜,都要在一定的温度下对薄膜进行1次热处理,连续涂敷7层,最后再对部分薄膜在600℃的马弗炉中退火2h.采用X射线衍射和薄膜电阻率分别来表征涂敷薄膜的结构特征和电学特性.实验结果表明:每次涂敷薄膜后所设定温度的大小以及最后是否再对薄膜进行退火处理直接影响着制备薄膜的结构特征和电学性质.     

Optical Communications Research Activities at COM RD1 Siemens S.A.

This article summarizes the research activities carried out by the R&D Optical Networks Communications group (COM RD1), at Siemens S.A., in collaboration with both universities and other research institutes. These activities cover various aspects of advanced modulation formats, all optical wavelength conversion, optical quality of signal monitoring in transparent WDM networks, routing, and wavelength assignment in optical networks.     

非球面光学系统设计、加工及检验的综合考虑

某研究所要求研制一台夜间红外观测系统 ,观测波段为 3～ 5 μm ,焦距 f =90 0mm ,相对口径为 1∶4,视场角 2ω =0 8°。红外焦平面是已有的 ,其冷屏直径为Φ5mm ,冷屏至焦面的距离为 2 0mm。由于从设计开始 ,要求完成的时限很短 ,因此必须将缩短加工周期的问题作为重要因素来考虑。工作在 3～ 5 μm波段 ,首选的必然是非球面反射系统 ,而非球面的加工与检验的难易直接和其参数有关。因此在评价设计结果时 ,不能仅从像质好坏来看 ,还要看其需要的加工周期长短。接受到任务之后 ,首先找到了可行的方案 ,然后设计了几个具体的系统 ,在比较了两个最可行的设计结果之后 ,选择了其中之一。     

基于太赫兹光非对称解复用器结构的低开关能量、高线性度全光采样门实验研究

利用多量子阱结构的非线性半导体光放大器(SOA)构建的太赫兹光非对称解复用器(TOAD), 实验实现了一个开关能量低至25 fJ, 线性度高达0.99的全光采样门. 详细分析了采样脉冲功率和非对称偏移量分别对采样窗口形状、宽度和幅度的影响, 并研究了不同采样窗口宽度下TOAD的开关能量及线性度的变化规律.     

Comparison Study of Two Mehods for Realizing Real-time High-efficiency JTC

ＣｏｍｐａｒｉｓｏｎＳｔｕｄｙｏｆＴｗｏＭｅｈｏｄｓｆｏｒＲｅａｌｉｚｉｎｇＲｅａｌ－ｔｉｍｅＨｉｇｈ－ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙＪＴＣＧＥＢａｏｚｈｅｎ；ＱＩＮＹｕｗｅｎ；ＺＨＡＮＧＹｉｍｏ；ＨＵＡＮＧＺｈａｎｈｕａ；ＺＨＡＮＧＨｏｎｇ（Ｉｎｓｔｉｔｕｔ...     

Bistable Optically Writable Image Memory Using Optical Feedback

A novel, parallel aligned optically addressed liquid crystal spatial light modulator has been used to implement an optically writable image memory. The memory uses a two-beam interferometer with optical feedback which exhibits thresholding, hysteresis, and bistability. We discuss the characteristics of the system, and present the results of an experimental demonstration.Presented at the International Commission for Optics Topical Meeting, Kyoto, 1994.     

光纤通信光开关的物理基础

光开关是光交换系统的基本元件，也是一种基本的控光器件，本文综述了目前光纤通信中所研究和开发的光通信开关器件的物理原理，并给出各类光开关的阈值条件和典型参量。     

Optical Communications Research Activities at COM RD1 Siemens S.A.

Abstract

This article summarizes the research activities carried out by the R&D Optical Networks Communications group (COM RD1), at Siemens S.A., in collaboration with both universities and other research institutes. These activities cover various aspects of advanced modulation formats, all optical wavelength conversion, optical quality of signal monitoring in transparent WDM networks, routing, and wavelength assignment in optical networks.     

光孤子与光孤子通信

阐述了光纤中光孤子形成的物理机理及光孤子间相互作用对光孤子通信的影响，介绍了光孤子通信的关键技术－孤子脉冲激光器和光孤子放大器，展望了光孤子通信的应用前景。     

Efficiency improvement of optical pattern recognition in ultra-fast all-optical intensity equalizer

To cope with a larger intensity fluctuation of optical signals in optical communication networks, we have proposed and demonstrated an ultra-fast all-optical intensity equalizer based on an optical pattern recognition technique. To achieve higher transfer efficiency for this equalizer, we designed and fabricated a highly-efficient optical amplitude-phase filter using a diffractive optical element for optical pattern recognition. The fabricated amplitude-phase filter provides a diffraction efficiency of 85%, and the all-optical intensity equalizer is demonstrated to have higher transfer efficiency, when this filter is used.     

光耦合理论及其在通信元器件中的应用

运用矩阵光学中变换矩阵的理论,并以重叠面积积分的方法为基础,推导出了普遍适用于计算光在光通信元器件中光耦合效率的理论公式,可通过设置边界条件计算单模光纤、扩束光纤、半导体激光二极管以及光波导等不同光学元器件之间的耦合效率。导出了计算单模光纤之间和单模光纤与扩束光纤之间存在横向偏移、轴向偏移时的耦合效率理论通用公式。阐述了扩束光纤的制作方法及光在扩束光纤中的传播,并根据所推导耦合效率理论公式计算结果与单模光纤间和单模光纤与扩束光纤间的耦合实验数据进行了比较。