高维线性插值方法及其在3维温度场计算中的应用

通过分析1维和2维线性插值可以推导出任意斜角直线坐标系下n维线性插值的一般计算公式以及有唯一解的条件,这一结论能够应用于三维温度场计算。可以将n维插值问题归结如下:已知n 1维空间中的n 1个点的坐标以及第n 2个点的n个坐标分量xn 2,1,x n 2,2,,xn 2,n,求解该点的第n 1个坐标分量xn 2,n 1。根据线性插值定义,第n 2个点位于前n 1个点所确定的n维超平面上。根据这一条件列写方程、求解方程可得到插值xn 2,n 1。n维插值问题有唯一解的条件是已知的n 1个点在n维空间中构成的多面体的体积不为0。推导过程在斜角直线坐标系中完成,因而结论具有较大普适性。     

斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率分析

斜角入射沉积法是一种制备薄膜的新颖方法,它可以用来制备渐变折射率薄膜.本文首先探讨了膜料的沉积入射角为α,薄膜柱状生长倾斜角为β时的薄膜的填充系数;之后利用drude理论,分析研究了斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率与薄膜的入射角和生长方向的关系. 关键词： 斜角入射沉积 渐变折射率 填充系数     

Controlled morphology of Ag nanocolumns by oblique angle deposition： kinetic Monte Carlo simulation

Fabrication of Ag or Au nanocolumns by oblique angle deposition （OAD） is now prevalent for their surface enhanced Raman scattering （SERS） property and their biosensor application. However, the size, shape, and the density of nanocolumns are not directed in a desired way. To sufficiently realize the growth process controlled by multiple physical factors like deposition angle （a）, substrate temperature （T）, and deposition rate （F）, we develop a three-dimensional （3D） kinetic Monte Carlo （KMC） model for simulating processes of Ag nanocolumnar growth by oblique angle deposition. The dependences of nanocolumnar morphologies on these factors are analyzed. The mimical results reach a reasonable agreement with the experimental morphologies generated bv OAD.     

可见光区大角度减反射光学薄膜制备工艺研究

为获得可见光波长范围的大角度减反射光学薄膜,采用电子束蒸发斜角蒸镀工艺,按照设计好的膜系,通过蒸镀一系列低折射率膜层,最终得到在380～780nm波长间,入射角0～70°,平均反射率低于1%的光学薄膜。实验结果表明利用斜角蒸镀工艺镀制出折射率从基底到空气的渐变多层膜结构以取得优良的减反射效果是可行的。     

中、小型观众厅音质设计的工程方法(Ⅱ)

关于中、小型观众厅音质设计的工程方法,作者在前文(I)中,就引言、音质设计的前提条件、合理的体积、尺度的选择几个问题作了介绍.本文将对音质设计中的体型和吸声处理问题,作一介绍,以资设计中参考. 一、体 型 1.顶棚斜角(β) 观众厅地坪的坡度越大,对于视觉和直达声都有利,但是反射于舞台口处顶棚的一次反     

Ka波段高功率斜角弯头的设计

介绍了一种基于准光技术的高功率斜角弯头的设计方法,可实现圆波导TE0m模式的高效转弯传输。使用模式变换器将工作模式TE0m转换成锥形高斯模,经过转弯后,锥形高斯模被重新转换成工作模式。这种锥形高斯模可以减少波束在镜面的衍射,从而实现工作模式的高效率转弯传输。基于这一方法,设计了工作在Ka波段、工作模式TE01的MW级波导斜角弯头。HFSS计算结果表明: 在8%的带宽内,传输效率大于98%。     

Optical properties and microstructure of Ta_2O_5 thin films prepared by oblique angle deposition

Tantalum pentoxide thin films are prepared by oblique angle electron beam evaporation. The influence of flux angle on the surface morphology and microstructure is investigated by scanning electron microscopy （SEM）. The Ta2O5 thin films are anisotropic with highly orientated nanostructure of slanted columns. The porous microstructure of the as-deposited films results in the decrease of effective refractive index and packing density with increasing deposition angle. The anisotropic structure results in optical birefringence. The in-plane birefringence increases with the increase of deposition angle and reaches the maximum of 0.055 at the deposition angle of 70°. Anisotropic microstructure and critical packing density are the two key factors to influence the in-plane birefringence.     

表面增强拉曼散射光谱结合化学计量学方法对蜂蜜中双甲脒的高效检测

本文建立了一种灵敏、快速、环保的表面增强拉曼光谱(SERS)方法,以银纳米棒阵列为基底,测定了蜂蜜中微量的双甲脒.银纳米棒采用斜角沉积法制备,具有良好的SERS活性,增强因子为～10~7.利用密度泛函理论首先对双甲脒的特征峰进行了归属.进一步探测了该方法用于双甲脒检测的可行性,其对蜂蜜中双甲脒的最低检测浓度为0.08 mg/kg.另一方面,采用偏最小二乘回归分析方法,对SERS全波谱进行分析并与双甲脒的浓度进行关联,建立了一种多元的双甲脒预测模型.结果表明,蜂蜜样本中双甲脒的预测浓度与实际浓度吻合较好.与传统的基于SERS单峰强度的单变量定量模型相比,本文提出的多元预测模型综合了双甲脒的所有特征峰,提高了检测精度和抗干扰能力.     

斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的理论探讨

从理论上分析了单一膜料倾斜入射沉积时的折射率与填充密度的关系,给出了三种不同的表达式;然后从正变和负变、完整周期和存在半周期以及不同的周期数等几个方面探讨了膜层的填充密度按照线性变化时的渐变折射率薄膜的光学特性,并将折射率的不同理论表达式对光学特性的影响进行了对比,最后讨论了单一膜料倾斜入射沉积渐变折射率薄膜的方法、填充密度线性变化时的渐变折射率薄膜的应用及制备中需要进一步解决和处理的问题. 关键词： 斜角入射沉积 渐变 填充密度     

基于坐标变换的斜角切削力学研究

在直角切削模型的基础上,首先将在法平面坐标系中得到的切削力通过坐标变换得到主剖面坐标系中的切削力;再把主剖面坐标系中的切削力利用坐标变换得到切深-进给平面中的切削力理论公式。通过坐标变换得到的切削力理论公式更简洁,物理意义清晰,并能反映出切削偏角对切削力的影响。通过对数值计算与数值仿真两种方法模拟得到的切削力进行比较,得出两者的误差率在8.3%~15.7%,说明两者具有良好的一致性,从而证明了模型的正确性。斜角切削力的理论公式为实际切削加工中切削力的解析预测奠定了基础。