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曝光系统离焦对平面全息光栅衍射波前的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
波前像差是衍射光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的分辨率。由光致刻蚀剂记录两束相干光干涉条纹是制作全息光栅的关键步骤。为了提高全息光栅曝光系统调整精度、减小离焦、降低光栅的衍射波前像差,从离焦对反射球面准直镜的准直光平行度的影响程度出发,分析了准直光平行度对全息光栅衍射波前像差的影响。理论分析和数值模拟结果表明,准直镜调整误差直接决定全息光栅衍射波前像差大小。以3种不同刻线密度光栅为例,得出了准直镜调整误差的允许变化范围。 相似文献
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采用一个有效的数学模型,分析了在蚀刻工艺中基底自身面形轮廓的曲线形状对基底局部区域的蚀刻速率产生的影响,并通过对数学模型的理论分析和计算机模拟得出受此影响而产生的面形形状,并将结果与实验进行对比.利用这个数学模型对使用离子束蚀刻制作单台阶光栅的台阶与沟槽部分的表面面形随时间的演变过程进行了计算机模拟分析,并通过把理论结果与在实验中得到的蚀刻表面在原子力显微镜(AFM)下拍摄的照片进行比较,结果说明这种模拟分析能够保证对该问题分析所要求的精度,从而也证明了理论模型的合理性和正确性. 相似文献
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