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1.
离子辅助沉积氧化物薄膜的光学特性   总被引:1,自引:1,他引:0  
考察了不同离子、离子能量、离子束流密度等制备参数对离子辅助沉积的TiO_2、ZrO_2和SiO_2薄膜的折射率、吸收和激光损伤阈值等光学特性的影响。  相似文献   
2.
氧化物薄膜的离子束溅射沉积   总被引:1,自引:0,他引:1  
汤雪飞  范正修 《光学学报》1992,12(5):73-475
用离子束溅射沉积的方法制备的TiO_2、ZrO_2薄膜的光吸收损耗明显降低,对其折射率、光吸收和抗激光损伤阈值等特性进行了分析.  相似文献   
3.
双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究   总被引:5,自引:1,他引:4  
汤雪飞  范正修 《光学学报》1995,15(2):17-224
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作用了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响。制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2,ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离束溅射沉积1.06μm多层高反,是到了大于99.5%的高反射率,经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜  相似文献   
4.
汤雪飞  范正修 《光学学报》1992,12(11):032-1037
用热传导方程计算了在脉宽10ns、波长1.06μm的激光辐射下,TiO_2单层膜的温度场分布.结果表明:膜层的热参数增大,其峰值温度明显降低,而基板热参数变化对膜层温度响应影响很小,温度场分布由电场分布决定,1/4波长薄膜的峰值温度低于半波长薄膜的峰值温度.  相似文献   
5.
光学薄膜的温度场设计   总被引:9,自引:1,他引:8  
范正修  汤雪飞 《光学学报》1995,15(4):63-467
提出了光学薄膜温度场的概念,研究分析了薄膜光学性质和热,物性质对其温度场的影响,给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计,还给出了相变膜的写入,擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。  相似文献   
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