Al_2O_3+PTFE(+PPS)复合材料滑动摩擦磨损的研究

作者采用冷压-烧结工艺研制了Al_2O_3+PTFE、PTFE+PPS和Al_2O_3+(PTFE+PPS)3类复合材料,并对这些材料的摩擦磨损行为及其磨损机理进行了研究。结果表明,适量Al_2O_3粒子的弥散可以明显提高复合材料的耐磨性,PTFE+PPS复合材料的耐磨性远比PTFE的好,摩擦系数几乎与PTFE的相同,是一种良好的减摩抗磨材料。复合材料的磨损过程主要受粘着、犁削和塑性流动机制的控制。     

Temporal response of laminated graded-bandgap GaAs-based photocathode with distributed Bragg reflection structure: Model and simulation

To describe the dynamic response characteristics of the laminated graded-bandgap GaAs-based photocathode with distributed Bragg reflection structure, a general theoretical temporal response model is deduced by combining the unsteady continuity equation and numerical calculation method. Through the model, the contribution of the distribution Bragg reflection structure and graded-bandgap emission layer to the temporal response are investigated. Meanwhile, the relationships between the temporal response characteristics of the laminated GaAs-based photocathode and different structural parameters are also analyzed, including average electron decay time, emission layer thickness, and incident light wavelength. It is found that the introduction of distribution Bragg reflection (DBR) layer solves the discrepancy between the absorption capability of the emission layer and the temporal response. Moreover, the distributed Bragg reflection layer can improve the time response by optimizing the initial photoelectron distribution. The improvement effect of the DBR layer on the temporal response is enhanced with the emission layer thickness decreasing or the incident light wavelength increasing. These results explain the effect of the DBR layer of the photocathode on the dynamic characteristics, which can offer a new insight into the dynamic research of GaAs-based photocathode.     

杯电極溶液法光谱光源中物质蒸发与弧温的研究

杯电极溶液电弧法无论应用在金属或非金属样品的光谱分析中,都受到光谱工作者们越来越多的注意。为了更进一步提高它的分析灵敏度和准确度,作者们对它的蒸发激发机构进行了研究。在燃弧过程中,曾观察到弧区是由弧焰与弧柱两个部分组成的。通过一系列实验发现:弧焰的存在直接影响到溶液样品的蒸发,而弧柱在光谱的激发过程中起着主导的作用。此外还利用OH带光谱测量弧焰及弧柱的温度分布。从得到的结果中找到提高分析灵敏度和准确度的途径。     

激光熔覆TiC/Ti复合材料的组织及摩擦学性能

采用激光熔覆工艺,通过原位置换结晶反应在Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ基材上制备出碳化物颗粒增强复合材料熔覆层,发现复合材料由均匀弥散分布的ＴｉＣ颗粒及β－Ｔｉ基体构成,且与基材呈冶金结合．干摩擦下其磨痕及磨屑扫描电镜分析表明,激光熔覆层具有较高的耐磨性的原因是复合材料中均匀弥散分布的ＴｉＣ粒子具有良好的抗磨作用     

杯形电极溶液电弧法光源中的燃烧过程与平炉渣的光谱分析

根据杯形铜电极溶液法用于平炉渣光谱分析所得的初步结果,进行了一系列有关杯形电极溶液电弧光源中燃烧过程的系统试验。在不同情形下测定了溶液中各元素的燃烧曲线,看到曲线上先后有两个高峯出现,因而认为光源中的燃烧过程有两阶段,物质在这两燃烧阶段中进入放电区的方式不同。第一阶段相当于第一高峯出现的期间,在这时并没有分馏现象,这表示溶液中的物质主要是经过溶液的翻腾作用而直接从液面进入放电区的。燃烧过程的后一阶段相当于曲线上的第二高峯的部分,这个峯的形状和位置对于不同元素和不同实验条件很灵敏,有分馏现象出现。根据对于各种分析元素的分解电压,可以认为,溶液中的物质在这个燃烧阶段主要是通过电极心而进入弧柱的。在平炉渣的实际分析中,严格地控制杯中液面的高低和铜电极心的加工规格,所得到各元素的九次独立分析误差都在4%以内。     

两亲磺化杯芳烃对护肤成分的增溶、增稳和促进渗透作用

合成了下缘十二烷基修饰的磺化杯[8]芳烃(SC8A-12C),用于提高维生素A(Va)在水相中的溶解性和稳定性,并促进Va的经皮渗透.脂溶性Va在水中几乎不溶, SC8A-12C能将Va的溶解度提高至1.1 mg/mL,将Va在水溶液中的半衰期从5 h延长到35 h.体外透皮测试表明, SC8A-12C提高Va的透皮量达16.9倍. SC8A-12C还能增溶苯乙基间苯二酚、水杨酸、槲皮素及壬二酸等多种护肤成分,并将水杨酸的透皮量提高3.8倍.SC8A-12C从增溶、增稳和透皮性3个方面提升了Va的功效,有望开发出无油配方的纯水剂Va类护肤品.鉴于SC8A-12C对多种护肤成分的增溶作用,有望助力于多功效护肤品的发展.     

基于时频分析的离心泵空化状态表征研究

空化检测对于保障离心泵运行的安全性和可靠性具有重要意义,已有研究侧重于信号采集和特征提取,对于空化诱发的振动噪声形成机理研究不够深入。为了实现离心泵空化状态的准确表征和有效识别,本文建立了基于信号调制理论的流体机械振动噪声信号模型,将流体激振信号和调制信号视为空化表征的有效信息成分,在此基础上提出了一种基于频带能量和峭度的主导频带时频分析方法,并结合卷积神经网络实现空化状态智能识别.最后,仿真信号和实际数据的分析结果验证了流体机械信号模型的合理性,也证明了所提出的主导频带时频分析方法的有效性。     

柔性液晶微透镜阵列的制备与性能研究

针对集成成像视场角狭小的问题,设计并制备了一种柔性圆孔驱动电极控制液晶分子偏转的可弯曲和焦距可调的柔性液晶微透镜阵列。利用光刻技术在柔性ITO基板表面刻蚀并形成规则的圆孔阵列电极,旋涂工艺制备柔性聚酰亚胺(PI)膜层,PI膜层经60℃加热5 min后,再利用等离子体在功率630 W条件下处理5 min固化成PI取向层。利用液晶盒成盒工艺将上、下基板组装成液晶透镜,研究未弯曲和弯曲曲率半径7.5 cm条件下液晶微透镜阵列的光学性能。实验结果表明,所制备的液晶透镜在未弯曲和曲率半径为7.5 cm的情况下均可实现聚焦功能,且液晶微透镜阵列的干涉圆环均匀,聚焦光斑小。在驱动电压3~5.3 Vrms下,弯曲曲率半径为7.5 cm的液晶微透镜阵列焦距可调的范围为0.43~1.05 mm。     

吡啶吡唑基配体C8-BPP对硝酸溶液中Am3+和Eu3+的萃取

合成了吡啶吡唑基配体C8-BPP[2,6-bis（5-（n-octyl）-1H-pyrazol-3-yl）pyridine],并采用红外光谱、核磁共振波谱、质谱等手段对其进行了表征.以正十二烷为稀释剂,2-溴己酸为协萃剂,研究了C8-BPP从HNO₃溶液中萃取Am³⁺和Eu³⁺的行为.重点考察了萃取时间、酸度和萃取剂浓度等对分配比D和分离因子SF_Am/Eu的影响.在HNO₃浓度为0.2~1.0 mol/L时,C8-BPP萃取Am³⁺和Eu³⁺的D值随HNO₃浓度增加而减小,SF_Am/Eu值先增大后减小;HNO₃浓度为0.5 mol/L时,SF_Am/Eu达到55.随着配体浓度的增加,C8-BPP萃取Am³⁺和Eu³⁺的D值均增加,SF_Am/Eu值缓慢减小,但仍在40以上.斜率分析表明,C8-BPP萃取Am³⁺和Eu³⁺均形成了1： 1型的萃合物.还采用紫外滴定、高分辨质谱、红外光谱、拉曼光谱和时间分辨荧光光谱等方法研究了C8-BPP与Eu³⁺的配位化学行为,并得到了配合物的组成和稳定常数.     

InGaAs光电阴极制备工艺中的原位光电子能谱

为了探索InGaAs光电阴极高温净化工艺的最佳加热温度点,利用超高真空光电阴极制备与表征互联装置开展了不同加热温度点下的高温净化实验和表面铯/氧(Cs/O)激活实验。通过扫描聚焦X射线光电子能谱对化学清洗后、高温净化后以及表面激活后的InGaAs样品表面进行原位分析,检测不同温度点下表面杂质的脱附程度和化学元素组成变化。结果表明,样品表面的碳污染物和氧化物在625℃时都被完全去除,获得原子级清洁表面,但此时In元素会出现挥发现象,导致材料表面In含量降低,会使InGaAs材料的红外响应特性不明显,因此600℃被认为是最佳加热温度。结合原位紫外光电子能谱发现二次电子截止边随着温度的升高不断向高结合能的位置偏移,这表明高温净化能有效降低表面功函数值,而Cs/O激活能进一步降低表面功函数值,获得负电子亲和势,提高InGaAs光电阴极的近红外光电发射性能。