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本文用循环伏安曲线和恒电位极化方法考察了具有金属薄层的p型单晶外延硅(p+/p-Si)阴极在碱溶液中的光电化学性能。结果表明,镀有钨-镍合金层的p+/p-Si阴极和镀有钯的p+/p-Si阴极,使氢析出的光电流明显增加。前者的电位比光电流达到相同值的空白p+/p-Si电极向正方移动了0.3V以上,后者移动0.25V。同时对p型外延硅(p+/p-Si)阴极比p型单晶硅(p-Si)阴极光响应较大的实验结果作了初步解释。扫描电镜结果显示,钨-镍合金沉积层是由许多不连续的“团块”构成的,而不是连续层。 相似文献
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在半导体中, 由于掺杂水平的不同, 在同种导电类型的半导体之间会形成一种被称为高-低结的势垒, 也会象p-n结一样表现出一定程度的整流特性。由于这一势垒的存在, 半导体中载流子的运动受到一个附加电场的作用, 它们的运动规律与没有高-低结时相比有所不同, 因此造成这种半导体电性质比较特殊。如带有高-低结的p~+/p-Si光阴极具有良好的光电转换性能~[1], 效率较高。在一些电极反应过程中, 由于反应中间物质的形成也会构成一定程度的高-低结。本文首次将半导体固结的概念引入电化学, 研究了AgO电极的放电过程。用高-低结机理满意地解释了一些现行理论所不能解释的现象。 相似文献
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示波极谱研究Ⅰ.——Randles-Sevcik公式之验证 总被引:1,自引:0,他引:1
(1)以单波法及多波法验证Randles-Sevcik示波极谱理论公式之i_p~c及i_p~α~(1/2)关系,多波法用Delahay线路,单波法则用简化线路。单波法之结果,对亚铊离子在m氯化钠中,在2×10~(-4)~1×10~(-5)m浓度,α~(1/2)为1及4伏特/秒,实测结果和理论符合。镉离子在m氯化钠中,实测结果与理论有偏差,偏差随浓度及α~(1/2)加大而加大。多波法之i_p实测值高于单波法。 (2)在计算理论曲线时,作者肯定Sevcik之系数过低而采用Randles数值。亚铊离子于m氯化钠中之扩散系数D,采用极谱法测得之数值15.0×10~(-6)而不用无限稀时之D值(20.0×10~(-6))。 (3)在α~(1/2)低于2伏特/秒时,可用画水平线法扣除电容电流。在高α时各种扣除电容电流方法所得结果不同,影响结果之可靠性。 (4)电解池线路上之iR降使加在滴汞电极上之α改变。这种改变使实测i_p值偏低。作者曾作初步近似修正,结果说明α及浓度大时,镉离子实测数据对理论的偏差的一部分可能是由于iR降的作用。 相似文献
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本文用稳态法测定了塔费尔斜率、OH-离子的表观反应级数和表观活化能,着重分析了线性电位扫描图及该反应的暂态特性。提出了在该电极上氧气析出反应的初步机理。 相似文献
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The modified n~+/p-Si photoanode had been prepared by ion sputtering first with thickness of 4.0 nm platinum and then by electroplating a thin W-Ni alloy film. It was found that when this photoanode was illuminated with anodic bias (at 1.0 V vs. 1N HgO electrode) under cyclic voltammetric conditions, the photocurrent density might reach 46.4 mA cm~(-2). It was clear that W-Ni film appeared an excellent catalytic action for oxygen evolution. The surface of n~+/p-Si photoanode modified by double metal films had also been studied using methods of scanning electron microscopy and x-ray photoelectron spectro-scopy. 相似文献
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