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| 在双层金属修饰的n~+/p-Si光阳极上的催化析氧 | |
| 引用本文： | 王士勋,李国铮,徐国宪.在双层金属修饰的n~+/p-Si光阳极上的催化析氧[J].物理化学学报,1985(1). |
| 作者姓名： | 王士勋 李国铮 徐国宪 |
| 作者单位： | 山东大学化学系，山东大学化学系，山东大学化学系 |
| 摘 要： | n-Si光阳极极化时,很容易生成绝缘的SiO_2层,导致光钝化。Bard A.J.和NozikA.J.等用导电的聚吡咯膜和聚苯胺膜保护后,n-Si光阳极在许多氧化-还原电对的溶液中,稳定性得到改进,但膜容易氧化,仍不能进行水的光氧化反应。本文报导在n~+/p-Si片上,先溅射40左右的铂层,再电镀一薄层钨-镍合金后,光阳极可具有较高和较稳定的析氧速度。 |
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