方兴未艾的磁致电阻研究

 我们知道,在金属中散射作用是电阻产生的主要原因,这包括杂质散射和晶格热运动引起的电声子互作用。根据动量定理,电子在时间间隔△t内受到电场E的作用而产生的定向漂移速度.     

双杂质一维原子链中的晶格振动

对于含有两个杂质的一维单原子链的振动方程求解,得到晶格振动频率的解.分析了振动频率和杂质质量以及两杂质间距离的关系.     

Investigation of Impurity Ion Transport with Laser Blow-off in HL-2A Tokamak

Non-recycling impurities are injected into ohmic HL-2A plasma for the first time. The impurities of titanium and aluminium are injected in the discharges with varying plasma density and current. The convection and diffusion process of the injected impurity ions during the inward phase are qualitatively investigated. The results show that the transport of impurities is much slower in the central region of the plasma than outside of it and that it is greatly enhanced during sawtooth crashes.     

问：在测定纯镉中杂质时，有何种方法可将大量镉予以分离？

答：早年曾有报道称金属镉在温度为630℃的条件下，在蒸汽流中可使镉挥发，高达1g镉45min可挥发除去，仅有小部分约镉量的0．1％～0．59／6残留。铅、铋、铜、银在此条件下不挥发，锑及铊有部分挥发。     

等离子体质谱(ICP-MS)测定高纯氧化镱中痕量稀土和非稀土杂质研究

本文报道ＩＣＰ－ＭＳ直接测定高纯（５Ｎ～６Ｎ）氧化镱中稀土和非稀土杂质的新方法．对ＩＣＰ－ＭＳ测定中的光谱干扰和基体效应进行了详细考察，结果表明：用镓作内标，可有效地补偿因氧化镱引起的基体效应．方法的检出限在０．０Ｘ－０．Ｘｎｇ／ｍＬ范围；相对标准偏差（ＲＳＤ）（ｎ＝７）＜１０％．已应用于高纯氧化镱的工艺流程及其产品分析．     

彩色电视荧光级氧化钇中稀土杂质的ICP—AES测定

本文采用国产ＷＰ－２Ｌ型平面光栅摄谱仪配置国产ＧＰ３．５Ｄ型ＩＣＰ光源进行了彩色电视荧光级氧化钇中１４个稀土杂质元素分析方法的研究。样品溶液以不去溶方式引入ＩＣＰ。当样品溶液中Ｙ２Ｏ３的浓度为２０ｍｇ／ｍｌ时，测定了限分别为铕，镱和镥０．０００２０％，镧，铈，钕，钆，镝，钬，铒和铥０．０００５０％，镨，钐和铽０．００１０％。相对标准偏差为３．２－９．８％。     

电感耦合等离子体原子发射光谱法直接测定高纯氧化铈中14个稀土杂质的研究

本文研究了电感耦合等离子体原子发射光谱直接测定99.95%氧化铈中14种稀土杂质的方法。讨论了基体线和光带对分析线的干扰及扣除、并加入70％乙醇提高灵敏度,方法简单,再现性好,准确度高,得到了满意的结果。     

出口镁质耐火材料的ICP-AES测定

本文采用和LI2B4O7熔样、MgO基体匹配、ICP－AES法同时测定出口镁质耐火材料的主要成分及杂质元素。RSD＜2．7％，加标回收率为97．6％。方法快速、简便，结果准确。