DFT Study on the Electronic and Structural Properties of MoS6-/0 Clusters

Density functional theory (DFT) calculations are employed to investigate the structural and electronic properties of MoS6- and MoS6 clusters. Generalized Koopmans’ theorem is applied to predict the vertical detachment energies and simulate the photoelectron spectra (PES). Intriguingly, the terminal S2- , polysulfide S22- and S32- ligands simultaneously emerge in the lowest-energy structure of MoS6 . Molecular orbital analyses are performed to analyze the chemical bonding in MoS6-/0 clusters and elucidate their structural and electronic properties.     

Josephson junction of two-species Bose-Einstein condensates in a high-finesse optical cavity

The mean-field dynamics of undistinguishable two-species Bose Josephson junction coupled to a single mode high-finesse optical cavity is investigated.From the Hamiltonian,the phase portrait and the stationary points are given.It is shown that the role of the interspecies interaction equals the intraspecies interaction under suitable conditions.As the interspecies interaction increases,the trapped atoms will start tunneling between the two wells unnaturally for some special cases.     

PLD方法制备的ZnO纳米柱结构及光学特性

采用无催化脉冲激光沉积(PLD)方法,在InP(100)衬底上生长纳米ZnO柱状结构。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)以及光致发光(PL)谱等表征手段对ZnO纳米柱的形貌、晶体结构和光学特性进行了观察。SEM图像观察到ZnO纳米柱状结构具有一定的取向性;XRD测试在2θ=34.10°处观测到强的ZnO(002)衍射峰,证实ZnO纳米柱具有较好的c轴择优取向;室温PL谱在379nm处观察到了强的自由激子发射峰(半峰全宽为19nm),未探测到深能级跃迁发射峰,表明生长的纳米ZnO结构具有很高的光学质量。     

一种求解复波数域波动弥散方程的通用数值方法

波动弥散方程的求解是分析弹性波或声波问题时的一种比较常见的过程,求解所得的曲线即为弥散曲线。其方程形式一般是关于波数与频率的一个二元超越方程,当波数为复数时,方程实际为三元超越方程。这类方程没有解析解,由于方程的变量和参数涉及复数域,一般的数值求解方法也难以处理。本文提出了一种基于模值收敛性的数值方法,求解一般波动弥散方程复波数域内的解。首先论述了本方法的理论依据,然后介绍了其求解步骤,最后将本方法应用于求解复波数域波动弥散方程的具体算例。通过对比可以发现:本方法广泛有效地解决了复波数域内波动弥散曲线的求解问题,适用于不同形式波动弥散方程的求解。     

一种求解瑞利波散射问题的修正边界元方法

边界元法的一大优势是用于求解半空间等无限域问题,然而对于弹性波的传播问题,传统边界元法在采用全平面或全空间格林函数时,在截断边界处仍会产生虚假的反射回波,直接影响到散射场的求解准确性。因此,本文在传统边界元法基础上提出一种修正边界元法,用于计算无限大半平面中的弹性波场问题。该方法以瑞利波形式的远端散射场代替原本因截断而舍去的部分,通过互易定理建立单位瑞利波和全平面格林函数的积分方程,求得修正系数,并代入修正边界元矩阵,计算出瑞利波的散射场。为验证本文所提方法,文中将多个算例的结果与解析解对比,并用该方法计算了不同缺陷的散射场。这些对比结果表明,本文所提修正边界元法可准确求解瑞利波散射场,为基于表面波的缺陷反演问题研究提供了有效的正演途径。     

移动床生物膜技术处理校园污水过程中DOM的光谱特征

研究了厌氧-缺氧-好氧移动床生物膜(MBBR)工艺对校园污水的处理效果,采用三维荧光光谱和紫外光谱分析了污水处理过程中溶解性有机物(DOM)的降解特性及其组成特征。结果表明,MBBR对校园污水具有较好的去除效果,COD,NH₃-N,TN,TP和DOC的去除率分别达到83.0%,70.9%,52.4%,59.2%和62.2%。三维荧光光谱显示有3个明显的特征荧光峰,其中心位置分别在E_x/E_m=230 nm/325 nm(T峰)、E_x/E_m=280 nm/350 nm(S峰)、E_x/E_m=350 nm/440 nm(R峰)附近,污水中荧光类溶解性有机物主要包括类色氨酸(Trp)、类溶解性微生物代谢产物(SMP)和类腐殖酸(HA)。DOM特征荧光峰的中心位置及荧光强度随处理流程而变,说明污水中DOM的组成和相对含量经MBBR处理后发生变化。其中,类色氨酸、类溶解性微生物代谢产物荧光特征峰近乎消失,表明MBBR对这两类有机物质去除效果显著;溶解性微生物代谢产物荧光强度在厌氧池、缺氧池、好氧池分别为进水的37.1%,20.3%,13.1%,表明MBBR的各生化阶段,微生物均能很好的降解SMP;但类腐殖酸(R峰)荧光强度降低较小,微生物对类腐殖酸总的去除效果不明显。在MBBR工艺流程中,DOM腐殖化指数HIX、荧光指数FI、生物源指数BIX均逐渐增大,微生物对有机污染物降解起到了关键作用。其中,HIX值在缺氧池、好氧池、出水中增大到4以上,经MBBR处理后,DOM腐殖化程度和成熟度逐渐增加;缺氧池、好氧池及出水的荧光FI值接近1.9(分别为1.899,1.881,1.887),说明其中类腐殖质有机物主要源于微生物代谢活动;缺氧池、好氧池及出水中DOM的 BIX值约为1.0(依次为0.985,1.018,0.979),说明缺氧池、好氧池及出水中DOM也主要源于微生物代谢或死亡。污水的紫外特征值E₂₅₀/E₃₆₅随工艺流程逐渐减小、SUVA₂₅₄不断增大,表明经MBBR处理后,污水中DOM类型和含量均发生了较大变化,有机物的共轭不饱和双键或芳香性基团增多,聚合度、腐殖化程度、分子质量增大。     

盐酸莫西沙星的结构分析研究

报道了盐酸莫西沙星的元素分析、红外光谱(IR) 、紫外光谱(UV) 、质谱(MS) 、氢-氢相关谱(1H-1HCOSY) 、碳谱(DEPT-45、DEPT-90、DEPT-135) 、多键碳氢相关谱(HMBC)等波谱数据,并对特征数据进行了化合物的结构解析。对所有的1H-NMR、13C-NMR谱的信号进行了归属。     

基于点击化学反应的免疫荧光检测方法的建立和应用

本研究介绍了一种新型免疫荧光标记方法及其在细胞荧光检测中的应用技术．首先,合成了两个关键的化合物6-叠氮-己酸琥珀酰亚胺活性酯和4-乙炔基-N-乙基-1,8-萘酰亚胺,并将合成的6-叠氮-己酸琥珀酰亚胺活性酯与抗her2抗体Anti-HP15的游离氨基偶联获得叠氮化IgG,随后通过铜离子催化4-乙炔基-N-乙基-1,8-萘酰亚胺中的炔基与标记抗体的叠氮基团进行点击化学反应,同时以NHS-FITC和NHS-Rhodamine标记的抗体为阳性对照,确认了采用该标记方法的灵敏度,其检测限可达0.1 μg,EC50与阳性对照相当．然后在细胞水平进行染色分析,结果表明,叠氮标记抗体可有效应用于免疫荧光染色分析．最后,采用激光共聚焦三通道复合荧光分析法对不同标记方法及其对应的免疫荧光显色方法进行研究,确认了采用本研究开发的方法标记的抗体可与其他免疫荧光技术同时使用,且结果互不干扰．本研究通过开发一种新型的抗体标记技术,建立了一种新的免疫荧光抗体分析方法,并在细胞水平上进行了应用验证,丰富了免疫荧光抗体检测手段,该方法在未来的免疫研究中具备发展潜力和广泛应用前景．     

稀薄里德伯原子气体中的两体纠缠

量子纠缠是量子信息处理和量子计算中不可或缺的物理资源,制备稳定可操控的量子纠缠是研究的热点之一.里德伯原子具有不同于普通中性原子的特点,长寿命和原子之间强烈的偶极相互作用,使得它成为量子信息处理和量子计算的最优候选者.本文在稀薄里德伯原子气体中,构建了空间四面体排布的里德伯原子模型(空间等距的四个原子模型),通过数值求解主方程来研究两体纠缠和里德伯激发的稳态和瞬态动力学性质,发现偶极阻塞机制下的量子纠缠最大,其他满足反偶极阻塞条件的高阶激发引起的纠缠较小,进而从理论上分析了这两种机制下量子纠缠的物理实质.     

萘酞菁类配合物的气敏特性

在阐述了萘酞菁配合物的结构特点和气敏机理的基础上,讨论了影响萘酞菁配合物气敏性的主要因素,介绍了近年来萘酞菁配合物气敏物特性研究的最新进展,并对萘酞菁配合物作为气敏材料的发展趋势进行了展望。